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国際特許分類[H05K3/18]の内容

国際特許分類[H05K3/18]に分類される特許

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【課題】簡単な製造プロセスで配線を形成し、信頼性の高い配線基板を提供する。
【解決手段】本発明にかかる配線基板100の製造方法は、(a)遮光部24を有するフォトマスク22の表面に第1の界面活性剤層16を設ける工程と、(b)第1の界面活性剤層上に触媒を含む触媒層32を設ける工程と、(c)フォトマスクの裏面から光を照射することにより遮光部が形成されていない領域の第1の界面活性剤層を分解して、該領域に設けられている第1の界面活性剤層および触媒層を除去する工程と、(d)遮光部が形成されている領域に設けられた触媒層を基板10の上方に転写する工程と、(e)基板に転写された触媒層上に金属を析出させることによって金属層36を設ける工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】良好な埋め込み性(ビアフィリング性)と優れた均一電着性を同時に併せ持ち、スルホールとブラインドビアホールの両方を含む被めっき物に対しても、電気的に信頼性の高い銅めっき皮膜を形成することが可能な新規な銅めっき液を提供する。
【解決手段】銅イオン、並びに有機酸及び無機酸から選ばれた少なくとも一種の酸成分を必須成分として含有する水溶液を基本めっき浴とする酸性電気銅めっき液であって、
(1)アルキレンジアミン類及びポリアルキレンポリアミン類からなる群から選ばれる少なくとも一種のポリアミン、(2)二塩基性カルボン酸系化合物、並びに(3)アルデヒド類、エピハロヒドリン類、α,γ−ジハロ−β−ヒドリン類、グリシジル化合物及びイソシアネート類からなる群から選ばれる少なくとも一種の架橋性化合物、からなる三成分を反応させて得られる水溶性樹脂を含有することを特徴とする酸性電気銅めっき液。 (もっと読む)


【課題】 ブリッジの発生が抑制されたプリント配線板、半導体チップ搭載基板、半導体パッケージ、プリント配線板の製造方法、及び半導体チップ搭載基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 このプリント配線板の製造方法では、まず、複数の銅配線4が表面2a上に設けられた基板2上に、複数の銅配線4を露出させる開口6aを有する絶縁マスク6を形成する。次に、複数の銅配線4間に絶縁物8を形成する。絶縁物8を形成した後、複数の銅配線4上に、ニッケルめっき皮膜12、パラジウムめっき皮膜14及び金めっき皮膜16を順に形成する。 (もっと読む)


【課題】高感度で且つ解像度・密着性及びマンドレル特性(硬化後のレジストの可とう性)が優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供することにある。
【解決手段】(A)バインダーポリマー、(B)エチレン性不飽和光重合性モノマ、(C)光重合開始剤及び増感剤、(D)可塑剤として、その主骨格が(B)エチレン性不飽和光重合性モノマと同一または類似及びその誘導体を有する未反応性(飽和)化合物を含む感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】簡単な製造プロセスで配線を形成し、信頼性の高い配線基板を提供する。
【解決手段】本発明にかかる配線基板100の製造方法は、(a)界面活性剤を含む界面活性剤層16を、基板上の第1の領域28および第2の領域29に設ける工程と、(b)前記第2の領域に設けられた前記界面活性剤層の一部を除去する工程と、(c)触媒を含む溶液に前記基板を浸漬することによって、前記第1の領域に触媒層32を設ける工程と、(d)前記触媒層上に金属を析出させることによって第1の金属層36を設ける工程と、(e)前記第2の領域に残存した前記界面活性剤層26を除去する工程と、を含む。 (もっと読む)


【解決手段】液晶ディスプレイ(LCD)の一部にされる金属特徴を定めるための方法およびシステムが提供される。この方法は、ガラス基板に対して施され、ガラス基板は、ガラス基板上にまたはガラス基板の層上に定められたブランケット導電性金属層(例えば障壁層)を有する。ブランケット導電性金属層の上には、反転フォトレジストマスクが塗布される。次いで、反転フォトレジストマスクの上に、めっきメニスカスが形成される。めっきメニスカスは、少なくとも電解液およびめっき化学剤を含み、めっきメニスカスは、ブランケット導電性金属層の上の、反転フォトレジストマスクによって覆われていない領域内に金属特徴を形成する。 (もっと読む)


【課題】 ボンディングパッドを高密度化または狭ピッチ化しても、バリやボイドの形成が抑制され、電気接続性や信頼性が低下しないパッド構造を有するプリント配線板を実現すること。
【解決手段】 ボンディングパッドを、パッド部と、そのパッド部に連続するリード部とから構成し、リード部の一部をテーパ状に形成する。 (もっと読む)


【課題】
微細パターン化が進行するプリント基板、パッケージ基板の製造において、レーザー光において安定的にレジスト解像性を得られ、かつ、レジストの矩形性が良く、滑らかなレジスト側壁が得られるような手法を提供する。
【解決手段】
表面導電性基板に画像形成材料がレーザー感光性組成物層側で積層されてなるレーザー用画像形成材であって、該感光性組成物層が(A)バインダー用樹脂、(B)エチレン性不飽和結合を有する付加重合可能な化合物、(C)光重合開始剤、(D)増感色素を含有し、且つ、該表面導電性基板の表面粗度Raが360nm以下であることを特徴とするレーザー用画像形成材。 (もっと読む)


【課題】 405±10nmの波長の露光光源に対する感度、解像度に優れ、テンティング性の良好な、アルカリ性水溶液によって現像しうる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂積層体、該感光性樹脂積層体を用いて基板上にレジストパターンを形成する方法、及び該レジストパターンの用途を提供する。
【解決手段】 (a)α,β−不飽和カルボキシル基含有単量体を共重合成分として含み、酸当量が100〜600で、重量平均分子量が5000〜500000である熱可塑性共重合体:20〜90%、(b)末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー:5〜75%、(c)光重合開始剤:0.01〜30%、(d)特定のピラゾリン化合物:0.001〜10%を含有し、(b)付加重合性モノマーとしてアルキレンオキシド変性ビスフェノールAから誘導される(メタ)アクリレートを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】無機薄膜を密着信頼性及びパターン精度高くポリイミド樹脂基材の表面に形成することができるポリイミド樹脂基材の無機薄膜パターン形成方法を提供する。
【解決手段】ポリイミド樹脂基材1の表面に、所定のパターン形状のマイクロ流路溝2を有するマスク材3を密着させてマイクロ流路4を形成する(1)工程。マイクロ流路4内にアルカリ溶液5を供給して、ポリイミド樹脂のイミド環を開裂させてカルボキシル基を生成させた改質層6を形成する(2)工程。マイクロ流路4内に金属イオン含有溶液7を供給して、改質層6に金属イオン含有溶液7を接触させてカルボキシル基の金属塩を生成させる(3)工程。マイクロ流路4内に還元溶液、還元ガス、不活性ガス、又は活性ガスを供給して、前記金属塩を金属として、もしくは金属酸化物あるいは半導体として、析出させて無機薄膜9を形成する(4)工程。これらの工程から無機薄膜パターンを形成する。 (もっと読む)


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