めっき方法
【課題】めっき液の劣化を防止するめっき方法を提供する。
【解決手段】めっき方法は、第１面と前記第１面の反対側の面となる第２面を有するワークを、前記第１面と前記第２面との間に隙間を有するように、螺旋状に巻くワーク巻取り工程と、前記螺旋状に巻かれた前記ワークの幅方向の両端部を蓋部材で挟持して、前記隙間と前記蓋部材とで構成される流路を形成する流路形成工程と、前記流路にめっき液を導入するめっき液導入工程と、を含む。
【解決手段】めっき方法は、第１面と前記第１面の反対側の面となる第２面を有するワークを、前記第１面と前記第２面との間に隙間を有するように、螺旋状に巻くワーク巻取り工程と、前記螺旋状に巻かれた前記ワークの幅方向の両端部を蓋部材で挟持して、前記隙間と前記蓋部材とで構成される流路を形成する流路形成工程と、前記流路にめっき液を導入するめっき液導入工程と、を含む。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、めっき方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、めっきを施す部品をテープ部材に搭載し、次いで、テープ部材をリールに巻き、次いで、リールに巻いた状態で、テープ部材をめっき液が貯留されためっき槽に浸漬させて、部品にめっきを施すめっき方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−３１７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記の方法では、めっき液が大気に触れるため、たとえば、コバルトを還元剤とした無電解銅めっきなどは、めっき液中の還元剤が酸化により劣化してしまう、という課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００６】
［適用例１］本適用例にかかるめっき方法は、第１面と前記第１面の反対側の面となる第２面を有するワークを、前記第１面と前記第２面との間に隙間を有するように、螺旋状に巻くワーク巻取り工程と、前記螺旋状に巻かれた前記ワークの幅方向の両端部を蓋部材で挟持して、前記隙間と前記蓋部材とで構成される流路を形成する流路形成工程と、前記流路にめっき液を導入するめっき液導入工程と、を含むことを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、螺旋状の流路が形成される。当該流路内の空間（隙間）は、大気と遮断された密閉空間である。このため、流路内へめっき液を導入して、めっき処理が行われる過程において、めっき液と大気との接触が低減される。従って、めっき液の劣化を防止することができる。
【０００８】
［適用例２］上記適用例にかかるめっき方法の前記ワーク巻取り工程では、前記ワークに施される所定量のめっき液量に基づいて、前記隙間を規定し、規定された前記隙間を有するように、前記ワークを前記螺旋状に巻くことを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、ワークにめっきを施すために必要な最低限のめっき液量に対する隙間が規定できるため、確実にめっき量を削減することができる。また、螺旋状に巻かれた状態でめっき処理が行われるため、めっき装置を小型化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】めっき方法を示す工程図。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、各図面における各部材は、各図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材ごとに縮尺を異ならせて図示している。
【００１２】
図１は、めっき方法を示す工程図である。本実施形態のめっき方法は、第１面と第１面の反対側の面となる第２面とを有するワークを、第１面と第２面との間に隙間を有するように、螺旋状に巻くワーク巻取り工程と、螺旋状に巻かれたワークの幅方向の両端部を蓋部材で挟持して、隙間と蓋部材とで構成される流路を形成する流路形成工程と、流路内にめっき液を導入するめっき液導入工程と、を含むものである。以下、具体的に説明する。
【００１３】
まず、ワーク巻取り工程では、第１面１０ａと第１面１０ａの反対側の面となる第２面１０ｂを有するワーク１０を準備する。ワーク１０は、例えば、フレキシブル基板等の長尺基板である。なお、本実施形態におけるワーク１０は、後に、めっきが施される部分に、予め触媒が塗布され、塗布された触媒が焼成されたものである。そして、図１（ａ）に示すように、ワーク１０の長さ方向（長尺方向）の一端部から他端部方向に向けて螺旋状（コイル状）にワーク１０を巻く。このとき、第１面１０ａと第２面１０ｂとの間に隙間２０を有するように巻いていく。なお、必要に応じて、ワーク１０の螺旋形状を保持するための保持部材を用いて、ワーク１０を巻いてもよい。このようにして、図１（ｂ）に示すように、螺旋状に巻かれ、第１面１０ａと第２面１０ｂとの間に隙間２０を有するワーク１０が形成される。
【００１４】
さらに、ワーク巻取り工程では、ワーク１０に施される所定量のめっき液量に基づいて、隙間２０を規定し、規定された隙間を有するように、ワーク１０を螺旋状に巻いてもよい。例えば、ワーク１０の第１面１０ａの一部にめっきが施されるめっき表面積Ａとめっき表面積Ａにめっきを施す所定量のめっき液量Ｖとの関係を、Ｖ／Ａ＝１０と規定する。そして、ワーク１０の幅を５００ｍｍ、長さを２０ｍとし、第１面１０ａのうち１５％の領域にめっき処理を行う場合において、めっき表面積Ａは、５０ｃｍ×２０００ｃｍ×０．１５％＝１５０００ｃｍ2となる。そして、めっき液量Ｖは、１５０００ｃｍ2×１０＝１５００００ｃｍ3となる。よって、第１面１０ａと第２面１０ｂとの最短距離（ギャップ）Ｇは、１５００００ｃｍ3／（５０ｃｍ×２０００ｃｍ）＝１．５ｃｍと求められる。従って、上記の例では、第１面１０ａと第２面１０ｂとの最短距離（ギャップ）Ｇが１．５ｃｍとなる隙間２０を有するように、ワーク１０を螺旋状に巻く。
【００１５】
流路形成工程では、図１（ｃ）に示すように、螺旋状に巻かれたワーク１０の幅方向の両端部を蓋部材で挟み込む。本実施形態では、螺旋状に巻かれたワーク１０の幅方向の両端部の全体を平面部材３１，３２で挟持して、隙間２０と平面部材３１，３２とで構成される流路４０を形成する。また、螺旋状に巻かれたワーク１０の最外周の端部には、めっき液を導入する導入口２１が形成される。なお、本実施形態では、螺旋状に巻かれたワーク１０の中央部に対応する平面部材３２には、貫通穴３２ａが形成されている。
【００１６】
めっき液導入工程では、流路４０にめっき液を導入する。本実施形態では、無電解めっきにてめっきを施す。具体的には、導入口２１からめっき液を導入する。導入する際のめっき液の流速は適宜設定する。そして、導入されためっき液は、螺旋状に形成された流路４０を通って貫通穴３２ａから回収される。なお、貫通穴３２ａから回収しためっき液を導入口２１に移動させて、再び導入口２１からめっき液を導入してもよい。この場合、めっき液の回収から再導入までの間を密閉空間とすればよい。その後、ワーク１０を洗浄し、次いで、焼成することにより、めっきが施されたワーク１０が形成される。
【００１７】
従って、上記実施形態によれば、以下に示す効果がある。
【００１８】
めっき液は、密閉された流路４０内に導入される。このため、めっき液と大気との接触機会が減るため、めっき液の劣化を防止することができる。さらに、ワーク１０が螺旋状に巻かれた状態でめっき処理されるため、使用するめっき液の量を削減することができる。また、めっき装置自体を小型化することができる。
【００１９】
なお、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下のような変形例が挙げられる。
【００２０】
（変形例１）上記実施形態では、導入口２１からめっき液を導入し、貫通穴３２ａから回収したが、これに限定されない。例えば、貫通穴３２ａからめっき液を導入し、導入口２１から回収してもよい。このようにしても、密閉された流路４０にめっき液が導入されるため、上記同様の効果を得ることができる。
【００２１】
（変形例２）上記実施形態では、導入口２１からめっき液を導入し、貫通穴３２ａから回収し、さらに、回収されためっき液を導入口２１から再び流路４０に向けて導入したが、これに限定されない。導入口２１からめっき液を導入し、貫通穴３２ａから回収し、さらに、回収されためっき液を貫通穴３２ａから再び流路４０に向けて導入し、導入口２１からめっき液を回収してもよい。このようにすれば、めっき厚を均一化することできる。
【００２２】
（変形例３）上記実施形態では、平面部材３２に貫通穴３２ａを設けたが、貫通穴３２ａを設けなくてもよい。この場合、導入口２１から流路４０に向けてめっき液を導入し、流路４０にて所要時間めっき液を保持し、その後、導入口２１からめっき液を回収すればよい。このようにしても、上記同様の効果を得ることができる。
【符号の説明】
【００２３】
１０…ワーク、１０ａ…第１面、１０ｂ…第２面、２０…隙間、２１…導入口、３１，３２…蓋部材としての平面部材、４０…流路。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、めっき方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、めっきを施す部品をテープ部材に搭載し、次いで、テープ部材をリールに巻き、次いで、リールに巻いた状態で、テープ部材をめっき液が貯留されためっき槽に浸漬させて、部品にめっきを施すめっき方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−３１７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記の方法では、めっき液が大気に触れるため、たとえば、コバルトを還元剤とした無電解銅めっきなどは、めっき液中の還元剤が酸化により劣化してしまう、という課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００６】
［適用例１］本適用例にかかるめっき方法は、第１面と前記第１面の反対側の面となる第２面を有するワークを、前記第１面と前記第２面との間に隙間を有するように、螺旋状に巻くワーク巻取り工程と、前記螺旋状に巻かれた前記ワークの幅方向の両端部を蓋部材で挟持して、前記隙間と前記蓋部材とで構成される流路を形成する流路形成工程と、前記流路にめっき液を導入するめっき液導入工程と、を含むことを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、螺旋状の流路が形成される。当該流路内の空間（隙間）は、大気と遮断された密閉空間である。このため、流路内へめっき液を導入して、めっき処理が行われる過程において、めっき液と大気との接触が低減される。従って、めっき液の劣化を防止することができる。
【０００８】
［適用例２］上記適用例にかかるめっき方法の前記ワーク巻取り工程では、前記ワークに施される所定量のめっき液量に基づいて、前記隙間を規定し、規定された前記隙間を有するように、前記ワークを前記螺旋状に巻くことを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、ワークにめっきを施すために必要な最低限のめっき液量に対する隙間が規定できるため、確実にめっき量を削減することができる。また、螺旋状に巻かれた状態でめっき処理が行われるため、めっき装置を小型化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】めっき方法を示す工程図。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、各図面における各部材は、各図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材ごとに縮尺を異ならせて図示している。
【００１２】
図１は、めっき方法を示す工程図である。本実施形態のめっき方法は、第１面と第１面の反対側の面となる第２面とを有するワークを、第１面と第２面との間に隙間を有するように、螺旋状に巻くワーク巻取り工程と、螺旋状に巻かれたワークの幅方向の両端部を蓋部材で挟持して、隙間と蓋部材とで構成される流路を形成する流路形成工程と、流路内にめっき液を導入するめっき液導入工程と、を含むものである。以下、具体的に説明する。
【００１３】
まず、ワーク巻取り工程では、第１面１０ａと第１面１０ａの反対側の面となる第２面１０ｂを有するワーク１０を準備する。ワーク１０は、例えば、フレキシブル基板等の長尺基板である。なお、本実施形態におけるワーク１０は、後に、めっきが施される部分に、予め触媒が塗布され、塗布された触媒が焼成されたものである。そして、図１（ａ）に示すように、ワーク１０の長さ方向（長尺方向）の一端部から他端部方向に向けて螺旋状（コイル状）にワーク１０を巻く。このとき、第１面１０ａと第２面１０ｂとの間に隙間２０を有するように巻いていく。なお、必要に応じて、ワーク１０の螺旋形状を保持するための保持部材を用いて、ワーク１０を巻いてもよい。このようにして、図１（ｂ）に示すように、螺旋状に巻かれ、第１面１０ａと第２面１０ｂとの間に隙間２０を有するワーク１０が形成される。
【００１４】
さらに、ワーク巻取り工程では、ワーク１０に施される所定量のめっき液量に基づいて、隙間２０を規定し、規定された隙間を有するように、ワーク１０を螺旋状に巻いてもよい。例えば、ワーク１０の第１面１０ａの一部にめっきが施されるめっき表面積Ａとめっき表面積Ａにめっきを施す所定量のめっき液量Ｖとの関係を、Ｖ／Ａ＝１０と規定する。そして、ワーク１０の幅を５００ｍｍ、長さを２０ｍとし、第１面１０ａのうち１５％の領域にめっき処理を行う場合において、めっき表面積Ａは、５０ｃｍ×２０００ｃｍ×０．１５％＝１５０００ｃｍ2となる。そして、めっき液量Ｖは、１５０００ｃｍ2×１０＝１５００００ｃｍ3となる。よって、第１面１０ａと第２面１０ｂとの最短距離（ギャップ）Ｇは、１５００００ｃｍ3／（５０ｃｍ×２０００ｃｍ）＝１．５ｃｍと求められる。従って、上記の例では、第１面１０ａと第２面１０ｂとの最短距離（ギャップ）Ｇが１．５ｃｍとなる隙間２０を有するように、ワーク１０を螺旋状に巻く。
【００１５】
流路形成工程では、図１（ｃ）に示すように、螺旋状に巻かれたワーク１０の幅方向の両端部を蓋部材で挟み込む。本実施形態では、螺旋状に巻かれたワーク１０の幅方向の両端部の全体を平面部材３１，３２で挟持して、隙間２０と平面部材３１，３２とで構成される流路４０を形成する。また、螺旋状に巻かれたワーク１０の最外周の端部には、めっき液を導入する導入口２１が形成される。なお、本実施形態では、螺旋状に巻かれたワーク１０の中央部に対応する平面部材３２には、貫通穴３２ａが形成されている。
【００１６】
めっき液導入工程では、流路４０にめっき液を導入する。本実施形態では、無電解めっきにてめっきを施す。具体的には、導入口２１からめっき液を導入する。導入する際のめっき液の流速は適宜設定する。そして、導入されためっき液は、螺旋状に形成された流路４０を通って貫通穴３２ａから回収される。なお、貫通穴３２ａから回収しためっき液を導入口２１に移動させて、再び導入口２１からめっき液を導入してもよい。この場合、めっき液の回収から再導入までの間を密閉空間とすればよい。その後、ワーク１０を洗浄し、次いで、焼成することにより、めっきが施されたワーク１０が形成される。
【００１７】
従って、上記実施形態によれば、以下に示す効果がある。
【００１８】
めっき液は、密閉された流路４０内に導入される。このため、めっき液と大気との接触機会が減るため、めっき液の劣化を防止することができる。さらに、ワーク１０が螺旋状に巻かれた状態でめっき処理されるため、使用するめっき液の量を削減することができる。また、めっき装置自体を小型化することができる。
【００１９】
なお、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下のような変形例が挙げられる。
【００２０】
（変形例１）上記実施形態では、導入口２１からめっき液を導入し、貫通穴３２ａから回収したが、これに限定されない。例えば、貫通穴３２ａからめっき液を導入し、導入口２１から回収してもよい。このようにしても、密閉された流路４０にめっき液が導入されるため、上記同様の効果を得ることができる。
【００２１】
（変形例２）上記実施形態では、導入口２１からめっき液を導入し、貫通穴３２ａから回収し、さらに、回収されためっき液を導入口２１から再び流路４０に向けて導入したが、これに限定されない。導入口２１からめっき液を導入し、貫通穴３２ａから回収し、さらに、回収されためっき液を貫通穴３２ａから再び流路４０に向けて導入し、導入口２１からめっき液を回収してもよい。このようにすれば、めっき厚を均一化することできる。
【００２２】
（変形例３）上記実施形態では、平面部材３２に貫通穴３２ａを設けたが、貫通穴３２ａを設けなくてもよい。この場合、導入口２１から流路４０に向けてめっき液を導入し、流路４０にて所要時間めっき液を保持し、その後、導入口２１からめっき液を回収すればよい。このようにしても、上記同様の効果を得ることができる。
【符号の説明】
【００２３】
１０…ワーク、１０ａ…第１面、１０ｂ…第２面、２０…隙間、２１…導入口、３１，３２…蓋部材としての平面部材、４０…流路。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面と前記第１面の反対側の面となる第２面を有するワークを、前記第１面と前記第２面との間に隙間を有するように、螺旋状に巻くワーク巻取り工程と、
前記螺旋状に巻かれた前記ワークの幅方向の両端部を蓋部材で挟持して、前記隙間と前記蓋部材とで構成される流路を形成する流路形成工程と、
前記流路にめっき液を導入するめっき液導入工程と、を含むことを特徴とするめっき方法。
【請求項２】
請求項１に記載のめっき方法において、
前記ワーク巻取り工程では、
前記ワークに施される所定量のめっき液量に基づいて、前記隙間を規定し、規定された前記隙間を有するように、前記ワークを前記螺旋状に巻くことを特徴とするめっき方法。
【請求項１】
第１面と前記第１面の反対側の面となる第２面を有するワークを、前記第１面と前記第２面との間に隙間を有するように、螺旋状に巻くワーク巻取り工程と、
前記螺旋状に巻かれた前記ワークの幅方向の両端部を蓋部材で挟持して、前記隙間と前記蓋部材とで構成される流路を形成する流路形成工程と、
前記流路にめっき液を導入するめっき液導入工程と、を含むことを特徴とするめっき方法。
【請求項２】
請求項１に記載のめっき方法において、
前記ワーク巻取り工程では、
前記ワークに施される所定量のめっき液量に基づいて、前記隙間を規定し、規定された前記隙間を有するように、前記ワークを前記螺旋状に巻くことを特徴とするめっき方法。
【図１】
【公開番号】特開２０１２−９２３６３（Ｐ２０１２−９２３６３Ａ）
【公開日】平成２４年５月１７日（２０１２．５．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２３８２５１（Ｐ２０１０−２３８２５１）
【出願日】平成２２年１０月２５日（２０１０．１０．２５）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年５月１７日（２０１２．５．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１０月２５日（２０１０．１０．２５）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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