ガス放電パネル
【課題】動作電圧の経時変化がなく、動作が高安定で長寿命のガス放電パネルを提供することを目的とする。
【解決手段】放電空間１１１を介して対向する表示面側基板１０１と背面側基板１０６とを有し、前記背面側基板１０６上には所定の間隔で隔壁１０９が形成されたガス放電パネルにおいて、前記ガス放電パネルの画像非表示領域３０２において、前記隔壁１０９間の溝部には光触媒物質微粒子層１２０を配設したことを特徴とするガス放電パネルである。
【解決手段】放電空間１１１を介して対向する表示面側基板１０１と背面側基板１０６とを有し、前記背面側基板１０６上には所定の間隔で隔壁１０９が形成されたガス放電パネルにおいて、前記ガス放電パネルの画像非表示領域３０２において、前記隔壁１０９間の溝部には光触媒物質微粒子層１２０を配設したことを特徴とするガス放電パネルである。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、テレビなどの画像表示に用いられ、且つ真空紫外線で励起され発光する蛍光体層を有するガス放電パネルに関し、特にプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータやテレビなどの画像表示に用いられているカラー表示デバイスにおいて、ＰＤＰを用いたプラズマディスプレイ装置は、大型で薄型軽量を実現することのできるカラー表示デバイスとして注目されている。ＰＤＰは、ガス放電によって発生した紫外線によって蛍光体を励起発光させ、画像表示するディスプレイである。
【０００３】
図５に従来の反射型ＡＣ面放電ＰＤＰの放電セルの基本的な構成を概略的に斜視断面図で示す。ガラス板からなる表示面側基板１０１上に、ＩＴＯやＳｎＯ2からなる透明電極１０２Ｘ、１０２Ｙが対になって形成されている。ただし、この透明電極１０２Ｘ、１０２Ｙではシート抵抗が高く、大型パネルにおいては全画素に充分な電力を供給することができないため、透明電極１０２Ｘ、１０２Ｙ上にそれぞれ銀の厚膜やアルミニウム薄膜やクロム／銅／クロム（Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒ）の積層薄膜によるバス電極１０３Ｘ、１０３Ｙが形成されている。このバス電極１０３Ｘ、１０３Ｙによって、見かけ上、透明電極１０２Ｘ、１０２Ｙのシート抵抗が下がる。なお、透明電極１０２Ｘ、１０２Ｙおよびバス電極１０３Ｘ、１０３Ｙとで表示電極が構成される。
【０００４】
そして、これらの電極を覆うように誘電体層（低融点ガラスが使用される）１０４が形成され、またこの誘電体層１０４を覆うように酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層１０５が形成されている。
【０００５】
誘電体層１０４は、ＡＣ型ＰＤＰ特有の電流制限機能を有しており、ＤＣ型に比べて長寿命にできる要因となっている。保護層１０５は、放電によって誘電体層１０４がスパッタされて削られないように保護するためのもので、耐スパッタ性に優れるとともに高い２次電子放出係数（γ）を有して放電開始電圧を低減する働きが要求される。
【０００６】
また、上記表示面側基板１０１に対向して、同じくガラス板からなる背面側基板１０６が設けられている。背面側基板１０６上には画像データを書き込むデータ電極１０７、下地誘電体層１０８、隔壁１０９および蛍光体層１１０が形成されている。
【０００７】
ＰＤＰは、いわゆる３原色（赤、緑、青）を加法混色することにより、フルカラー表示を行っている。このフルカラー表示を行うために、ＰＤＰには３原色である赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色を発光する蛍光体層１１０が備えられ、この蛍光体層１１０を構成する蛍光体材料は、ＰＤＰの放電セル内で発生する紫外線により励起され、各色の可視光を生成している。背面側基板１０６の蛍光体層１１０の形成プロセスは、隔壁１０９を形成した後、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の蛍光体ペーストをスクリーン印刷またはラインジェット法によって塗布形成し、その後、大気中で焼成し、ペースト中の溶剤成分を取り除くというものである。
【０００８】
以上のようにして構成された表示面側基板１０１と背面側基板１０６は、どちらか一方、もしくは両方の基板周囲に、封着用ガラスフリットが塗布され（図示せず）、フリット中の樹脂成分を除去するため３００℃〜３５０℃で仮焼し、両基板を重ね合わせた後、高温（４５０℃〜５５０℃）に加熱して封着ガラスを軟化させて両基板を貼り合わせる（封着工程）。ここで、データ電極１０７および隔壁１０９は、表示電極と交差するように配置されており、また２本の隔壁１０９および表示面側基板１０１、背面側基板１０６で囲まれた空間でもって放電セル１１１が形成されている。
【０００９】
この時、隔壁１０９は、隣接する放電セル間を仕切り、誤放電や光学的クロストークを防ぐ役割をしている。このＰＤＰの表示電極に、数十ｋＨｚ〜数百ｋＨｚのＡＣ電圧を印加して放電セル１１１内に放電を発生させ、励起されたＸｅ原子からの真空紫外線（波長：１４７ｎｍ、１７３ｎｍ）によって蛍光体層１１０を励起し可視光を発生させて表示動作を行う。
【００１０】
ここで、ＰＤＰにおいては、経時的な動作電圧の増加が発生するという課題があった。これは、不純ガスとして炭化水素系ガス（以下、ＣＨ系ガスとする）が蛍光体に吸着しており、放電により発生する真空紫外線あるいはイオン衝撃によってＣＨ系ガスが放電空間に放出され、ＭｇＯの保護層１０５に吸着し、ＭｇＯ表面の２次電子放出係数が小さくなってしまうために生じる現象である。
【００１１】
そこで従来、前記ＣＨ系ガスによる動作電圧の増加を抑えるために、表示面側基板と背面側基板および隔壁とで形成される放電セル内に光触媒物質層および酸化物層を配設するという技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００４−３２７１１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
放電セル内の隔壁表面に光触媒物質層を配設する方法は、セル内の放電によって発生する紫外線を光触媒物質層に照射することにより、ＣＨ系ガスはＭｇＯ表面に吸着して動作電圧の大きな変動をもたらさないＣＯ2あるいはＨ2Ｏに分解することを目的としている。光触媒物質層としては、酸化チタンにより形成された層を挙げることができ、酸化チタンの配設により、その光触媒作用によって、動作電圧の安定性はある程度保証される。
【００１３】
しかし一方では、その超親水性によりパネル内のＨ2Ｏを一度は吸着した酸化チタンが、放電に曝されることによってＨ2Ｏが可逆的に放電セル内に放出されてしまうため、固定表示部と非表示部の放電開始電圧の差を従来以上に増幅し、全点灯時に輝度差を生じさせ、また、固定表示部の時間経過に対する残像および焼き付き現象の回復についても、不利な方向に作用するという課題が発生する場合があった。
【００１４】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、その目的は、経時的な動作電圧の上昇および残像・焼き付き現象が軽減された、良好な画像表示が可能なガス放電パネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達するため、本発明のガス放電パネルは、放電空間を介して対向する表示面側基板と背面側基板とを有し、前記背面側基板上には所定の間隔で隔壁が形成されたガス放電パネルにおいて、前記ガス放電パネルの画像非表示領域において、前記隔壁間の溝部には光触媒物質微粒子層を配設したことを特徴とする。
【００１６】
セル内の放電によって発生する紫外線を光触媒の微粒子に照射することにより、ＣＨ系ガスはＭｇＯ表面に吸着して動作電圧の大きな変動をもたらさないＣＯ2あるいはＨ2Ｏに分解されるので、経時的な動作電圧の上昇のない安定なガス放電パネルを実現できる。また、蛍光体の粒径よりも小さな微粒子であるので、蛍光体層の遮蔽による輝度低下を最小限にして蛍光体表面に配設することができ、従来よりも、効果的に作用するため、少量の配設で、効果を得られる。少量の配設であるので、たとえば、酸化チタンのような超親水性の材料であったとしても、Ｈ2Ｏの吸着量が少量であるので、焼き付き・残像減少に対して、不利に作用することはない。また本発明のガス放電パネルは、光触媒物質微粒子とともに酸化物微粒子を形成することで、紫外線照射によるヒドロキシラジカル（ＯＨ）の発生量を増加させ、ＣＨ系ガスの分解をより促進できるようにしたものである。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、経時的な動作電圧の上昇および残像・焼き付き現象が軽減された、良好な画像表示が可能なガス放電パネルを実現することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の一実施の形態によるガス放電パネルについて、図面を参照して説明する。なお、以下の説明では、ガス放電パネルの代表例であるＰＤＰを例に説明する。また図５で示した構成と同様のものについては同じ符号を付している。
【００１９】
（実施の形態１）
図１は、本発明の一実施の形態によるＰＤＰの、長手方向における画像表示領域３０１と画像非表示領域３０２との領域を概略的に示す平面図である。また、図２は、図１に示す画像非表示領域３０２内での、ＰＤＰの構成を概略的に示す斜視断面図である。また、図３は図２中のＡ−Ａ'矢視断面図で、本発明の一実施の形態によるＰＤＰの概略構成を示す断面図である。
【００２０】
図２および図３において、ガラス板からなる表示面側基板１０１上にＩＴＯまたは酸化錫（ＳｎＯ2）などの透明導電性材料からなる透明電極１０２Ｘ、１０２Ｙを形成し、その上に銀（Ａｇ）厚膜（厚み：２μｍ〜１０μｍ）、アルミニウム（Ａｌ）薄膜（厚み：０．１μｍ〜１μｍ）またはＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層薄膜（厚み：０．１μｍ〜１μｍ）よりなるバス電極１０３Ｘ、１０３Ｙを形成している。
【００２１】
これらの透明電極１０２Ｘ、１０２Ｙおよびバス電極１０３Ｘ、１０３Ｙを覆うように、例えば、酸化鉛（ＰｂＯ）７０重量％、酸化硼素（Ｂ2Ｏ3）１５重量％、酸化珪素（ＳｉＯ2）１５重量％の組成を有する低融点ガラス（厚み２０μｍ〜４０μｍ）からなる誘電体層１０４をスクリーン印刷やダイコート印刷またはフィルムラミネート法によって形成する。
【００２２】
続いて、放電プラズマによる損傷から誘電体層１０４を保護するＭｇＯからなる保護層１０５（厚み：０．３μｍ〜１μｍ）が電子ビーム蒸着法あるいはスパッタ法あるいは化学的気相成長法（ＣＶＤ法）により形成されている。
【００２３】
ここで、所定の間隔でもって互いに平行に並んだ２本の透明電極１０２Ｘ、１０２Ｙおよびバス電極１０３Ｘ、１０３Ｙによって１つの画素（ピクセル：ＰＵ）の表示電極が構成され、この間に交流電圧を印加して放電空間１１１内に放電を発生させる。
【００２４】
一方、放電空間１１１を介して上記表示面側基板１０１に対向する背面側基板１０６が設けられている。背面側基板１０６はガラス板からなり、その上に銀（Ａｇ）厚膜（厚み：２μｍ〜１０μｍ）、アルミニウム（Ａｌ）薄膜（厚み：０．１μｍ〜１μｍ）またはＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層薄膜（厚み：０．１μｍ〜１μｍ）からなるデータ電極１０７が形成され、データ電極１０７を覆うように低融点ガラスからなる下地誘電体層１０８（厚み：５μｍ〜２０μｍ）が形成されている。
【００２５】
さらに、例えば、低融点ガラスのスクリーン印刷の繰り返しと焼成によって、隔壁１０９（高さ０．１ｍｍ〜０．１５ｍｍ）が所定の間隔で形成されている。
【００２６】
そして、隔壁１０９間の溝部においては、画像表示領域３０１では、カラー表示のための３原色（赤：Ｒ、緑：Ｇ、青：Ｂ）の蛍光体層１１０Ｒ、１１０Ｇ、１１０Ｂが順次、積層して設けられている。また、画像非表示領域３０２では、平均粒径が５ｎｍ〜１０００ｎｍの光触媒物質微粒子層１２０が形成され、さらに、光触媒物質微粒子層１２０とともに、酸化物微粒子層１２１が積層されて形成されている。
【００２７】
なお、画像非表示領域３０２においては、隔壁１０９間の溝部に、光触媒物質微粒子層１２０と酸化物微粒子層１２１とが積層されて設けられた構成となっているものが存在すればよい。すなわち、画像非表示領域３０２の隔壁１０９間の溝部に、光触媒物質微粒子層１２０と酸化物微粒子層１２１とが積層されて設けられた構成のものと、蛍光体層１１０Ｒ、１１０Ｇ、１１０Ｂが設けられた構成のものとが混在しているという状態であっても、また、画像非表示領域３０２においては、隔壁１０９間の溝部はすべて光触媒物質微粒子層１２０と酸化物微粒子層１２１とが積層されて設けられた構成となっているという状態であっても良い。
【００２８】
そして表示面側基板１０１と背面側基板１０６は、表示電極とデータ電極１０７とが交差するように貼り合わされ、隔壁１０９によりライン方向にサブピクセルＳＵ毎に区画された放電空間１１１の、表示電極とデータ電極１０７とが交差する部分に放電セルが形成される。
【００２９】
ここで、隔壁１０９の高さを揃えることによって、放電空間１１１の間隙寸法が所定の一定値をとるようになっている。また、画像表示領域３０１においては、１つの画素（ピクセル：ＰＵ）は、ライン方向に並んで赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色で発光する３つのサブピクセルＳＵで構成されている。また、画像非表示領域３０２においては、少なくとも、光触媒物質微粒子層１２０と酸化物微粒子層１２１とが積層されて設けられた構成のサブピクセルＳＵが存在する。
【００３０】
上記のようにして表示面側基板１０１と背面側基板１０６を対向させ、周囲を気密封止し、加熱しながら放電空間１１１内を真空排気した後、例えばＮｅとＸｅの混合ガスからなる放電ガスを所定の圧力および混合比で充填する。さらに、表示電極に３００Ｖ〜５００Ｖの電圧パルスを印加して放電空間１１１に放電を発生させることで、放電開始電圧を下げるとともに安定させるためのエージングを、８時間〜１６時間行うことでＰＤＰ１００が完成する。
【００３１】
次に、上記構成の本発明の一実施の形態によるＰＤＰ１００の効果を説明する。比較のために、光触媒物質微粒子層１２０および酸化物微粒子層１２１は配設せず、他の構成要素はＰＤＰ１００と全く同様とした、図５に断面斜視図で示すような比較用ＰＤＰ（Ａ）と、特許文献１に示すような光触媒物質層および酸化物層を配設した比較用ＰＤＰ（Ｂ）を作製した。そして、ＰＤＰ１００、ＰＤＰ（Ａ）、ＰＤＰ（Ｂ）について、通常使用で５万時間に相当する加速寿命試験を行った。
【００３２】
その結果、ＰＤＰ１００、ＰＤＰ（Ｂ）は、放電開始電圧は、動作上、殆ど問題ない程度の変動しか生じず、この間は非常に安定に動作できることを確認した。一方、比較ＰＤＰ（Ａ）の場合、寿命試験前でもＰＤＰ１００に比べて放電開始電圧が数ボルト高い状態ではあったが、寿命試験中においても時間経過とともに点灯部での放電開始電圧が２０Ｖ以上増加し、通常使用で１万時間に相当する加速寿命試験において、ＰＤＰ（Ａ）の一部に点灯しない領域が発生することが確認された。
【００３３】
寿命試験後、これらのＰＤＰを分解し、保護層１０５の表面に対して走行型２次イオン質量分析（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）を行ったところ、ＰＤＰ１００に比べてＰＤＰ（Ａ）はＣＨ系ガスの吸着量が多いことが判明した。
【００３４】
また、表示面側基板１０１および背面側基板１０６の一部を切り出し、それぞれに対し昇温脱離質量分析（ＴＤＳ）を行ったところ、ＴＯＦ−ＳＩＭＳの結果と同様に、ＰＤＰ１００に比べてＰＤＰ（Ａ）のＣＨ系ガスの吸着量が多いことが判明した。さらに、エージング前後で、同様に保護層１０５の表面に対してＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析したところ、寿命試験後ほどではないがＰＤＰ１００に比べてＰＤＰ（Ａ）の方がＣＨ系ガスの吸着量が多いことが判明した。
【００３５】
次に、ＰＤＰ１００およびＰＤＰ（Ｂ）に対して、固定表示パターンの残像・焼き付きに対する回復時間について計測したところ、ＰＤＰ（Ｂ）の方が、回復時間が長く、焼き付きについてでも回復しない場合も見られた。そこで、ＰＤＰ１００、ＰＤＰ（Ｂ）の比較に対しては、固定表示加速寿命試験を行い、固定表示部とそれに隣接する非点灯部について、表示面側基板および背面側基板の一部を切り出し、それぞれ昇温脱離質量分析（ＴＤＳ）を行った。その結果、非点灯部においては、ＰＤＰ１００に比べてＰＤＰ（Ｂ）の方がＨ2Ｏの吸着量が多いことが判明した。また、固定表示部においては、ＰＤＰ１００に比べてＰＤＰ（Ｂ）の方がＨ2Ｏの吸着量が少ないことが判明した。さらに、ＰＤＰ１００の固定表示部と非点灯部とのＨ2Ｏの吸着量はほぼ同等であったが、ＰＤＰ（Ｂ）の固定表示部と非点灯部とのＨ2Ｏの吸着量に差が生じており、非点灯部の方が多いことが判明した。
【００３６】
ここで、画像非表示領域３０２の隔壁１０９間の溝部に光触媒物質微粒子層１２０と酸化物微粒子層１２１とを積層して配設した本発明の一実施の形態によるＰＤＰ１００において、放電開始電圧が安定で長寿命になった理由については、以下のように考えられる。
【００３７】
まず、ＰＤＰ（Ａ）内部においては、ＣＨ系ガスは主に蛍光体層１１０Ｒ、１１０Ｇ、１１０Ｂに吸着して取り込まれている。そして、ＰＤＰ１００を動作させると放電セル内の放電に伴い、蛍光体層１１０Ｒ、１１０Ｇ、１１０Ｂ表面への紫外線照射やイオン衝突によって、吸着しているＣＨ系ガスが脱離しＭｇＯからなる保護層１０５の表面に吸着する。そのため、２次電子放出係数（γ）値が減少し、結果として放電開始電圧が増加する。ＰＤＰ（Ａ）の放電開始電圧がエージング後でＰＤＰ１００より大きいこと、ＰＤＰ（Ａ）の寿命試験において放電開始電圧が増加したことは、ＴＯＦ−ＳＩＭＳやＴＤＳの結果からもＣＨ系ガスが原因と思われる。
【００３８】
しかしながら、光触媒物質微粒子層１２０を形成した本発明の一実施の形態によるＰＤＰ１００では、駆動中に、光触媒物質微粒子層１２０が放電に曝されることで、光触媒作用によって、ＰＤＰ１００内のＣＨ系ガスが放電開始電圧に余り影響しないＣＯ2やＨ2Ｏに変化し、さらに、駆動中、常時、ＣＨ系ガスの分解が促進されるため、ＰＤＰ（Ａ）に比べて放電開始電圧の変動が少なくなったものと考えられる。なお、ＣＨ系ガスの量が少ないということは、ＴＯＦ−ＳＩＭＳやＴＤＳの分析からも明らかである。
【００３９】
光触媒物質微粒子層１２０によるＣＨ系ガスの分解について、さらに詳細に説明する。放電セル内の放電で発生する紫外線が半導体である光触媒物質微粒子層１２０表面に照射されると、電子が伝導体に励起され、電子・正孔対が生成する。この際、光触媒物質微粒子層１２０上と隣接して酸化物微粒子層１２１が形成されていると、正孔は、容易に酸化物微粒子層１２１へ移動し、酸化物微粒子層１２１表面に吸着しているＨ2Ｏを分解してヒドロキシラジカル（ＯＨ）を発生する。このヒドロキシラジカル（ＯＨ）は酸化物微粒子層１２１表面およびその付近に存在するＣＨ系ガスと酸化反応し、ＣＯ2やＨ2Ｏに分解する。
【００４０】
このように本発明の一実施の形態によるＰＤＰ１００は、その動作によって、内部に発生する紫外線と光触媒物質微粒子とにより、蛍光体層１１０Ｒ、１１０Ｇ、１１０Ｂ表面から徐々に出てくるＣＨ系ガスを放電開始電圧を上昇させにくいＣＯ2やＨ2Ｏガスに分解することができるので、駆動時間の経過と共にＰＤＰ１００内のＣＨ系ガスは希薄になっていき、安定動作が可能になる。
【００４１】
ここで、酸化物微粒子層１２１を構成する酸化材料としては、ＳｉＯ2、Ｖ2Ｏ5、ＭｏＯ3、Ｔａ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、Ａｓ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＺｎＯ、ＰｂＯ、Ｅｕ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、ＴｍＯ3、Ｄｙ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、Ｔｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、Ｂｉ2Ｏ3、ＨｆＯ2、ＣｏＯ、ＣｕＯ、ＮｉＯ、Ｇａ2Ｏ3、ＭｎＯ2、ＣｅＯ2、Ｃｒ2Ｏ3、ＭｇＡｌＯ4、Ｋ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・６ＳｉＯ2、Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・６ＳｉＯ2、ＣａＯ・Ａｌ2Ｏ3・６ＳｉＯ2、Ｓｃ2Ｏ3の中から選ばれる少なくとも一つを挙げることができる。特に、これらの材料が非晶質である場合は、酸素原子が比較的表面に出にくく、よりＨ2Ｏの吸着性が高まるため、より好ましい。また、非晶質の場合は、量子論的組成から外れている場合や、水素原子やハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）原子を層中に含む場合でもよい。
【００４２】
また、光触媒物質微粒子層１２０を構成する光触媒材料としては、酸化チタン、酸化錫、酸化亜鉛、三酸化二ビスマス、三酸化タングステン、酸化第二鉄、チタン酸ストロンチウムの中から選ばれる少なくとも一つを挙げることができる。
【００４３】
（実施の形態２）
図４は、同じく本発明の一実施の形態によるＰＤＰの概略構成を示す断面図である。ＰＤＰ２００は、実施の形態１で示したＰＤＰ１００（図１、図２）と比べて、酸化物微粒子層１２１（図１、図２）を有さないことが異なる。なお、図１、図２で示したＰＤＰ１００の構成と同様のものについては同じ符号を付している。
【００４４】
このＰＤＰ２００に対して、実施の形態１と同様の加速寿命試験を行ったところ、ＰＤＰ１００と同じように、放電開始電圧変化が少なく、安定動作することが確認できた。これは、酸化物微粒子がない状態でも光触媒反応が進行しＣＨ系ガスの分解が促進されているためであると考えられる。
【００４５】
上述した実施の形態１〜２においては、放電ガスとしては、Ｎｅ−Ｘｅの混合ガスの他に、Ｈｅ−Ｘｅの混合ガスを使用してもよく、さらにこれらのガスにＡｒ、ＫｒあるいはＨｅを加えてもよい。また、これらの放電ガスに、酸素やＮＯ、ＮＯ2、Ｎ2Ｏ、Ｎ2Ｏ3、Ｎ2Ｏ4、Ｎ2Ｏ5、ＮＯ3など分子内に酸素原子を含むガスをＰＤＰの動作に影響のない程度に混合（具体的には０．１ｖｐｐｍ〜１０ｖｐｐｍ）すると、光触媒物質層の光触媒作用でヒドロキシラジカル（ＯＨ）が発生し、ＣＨ系ガスの分解をより促進できるため、効果的である。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
以上のように本発明は、大画面、高精細のＰＤＰを提供する上で有用な発明である。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの概略構成を示す平面図
【図２】本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの概略構成を示す断面斜視図
【図３】同じく、本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの概略構成を示す断面図
【図４】同じく、本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの概略構成を示す断面図
【図５】従来のプラズマディスプレイパネルの概略構成を示す断面斜視図
【符号の説明】
【００４８】
１００ プラズマディスプレイパネル
１０１ 表示面側基板
１０２Ｘ、１０２Ｙ 透明電極
１０３Ｘ、１０３Ｙ バス電極
１０４ 誘電体層
１０５ 保護層
１０６ 背面側基板
１０７ データ電極
１０８ 下地誘電体層
１０９ 隔壁
１１０Ｒ 蛍光体層（赤）
１１０Ｇ 蛍光体層（緑）
１１０Ｂ 蛍光体層（青）
１１１ 放電空間
１２０ 光触媒物質微粒子層
１２１ 酸化物微粒子層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、テレビなどの画像表示に用いられ、且つ真空紫外線で励起され発光する蛍光体層を有するガス放電パネルに関し、特にプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータやテレビなどの画像表示に用いられているカラー表示デバイスにおいて、ＰＤＰを用いたプラズマディスプレイ装置は、大型で薄型軽量を実現することのできるカラー表示デバイスとして注目されている。ＰＤＰは、ガス放電によって発生した紫外線によって蛍光体を励起発光させ、画像表示するディスプレイである。
【０００３】
図５に従来の反射型ＡＣ面放電ＰＤＰの放電セルの基本的な構成を概略的に斜視断面図で示す。ガラス板からなる表示面側基板１０１上に、ＩＴＯやＳｎＯ2からなる透明電極１０２Ｘ、１０２Ｙが対になって形成されている。ただし、この透明電極１０２Ｘ、１０２Ｙではシート抵抗が高く、大型パネルにおいては全画素に充分な電力を供給することができないため、透明電極１０２Ｘ、１０２Ｙ上にそれぞれ銀の厚膜やアルミニウム薄膜やクロム／銅／クロム（Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒ）の積層薄膜によるバス電極１０３Ｘ、１０３Ｙが形成されている。このバス電極１０３Ｘ、１０３Ｙによって、見かけ上、透明電極１０２Ｘ、１０２Ｙのシート抵抗が下がる。なお、透明電極１０２Ｘ、１０２Ｙおよびバス電極１０３Ｘ、１０３Ｙとで表示電極が構成される。
【０００４】
そして、これらの電極を覆うように誘電体層（低融点ガラスが使用される）１０４が形成され、またこの誘電体層１０４を覆うように酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層１０５が形成されている。
【０００５】
誘電体層１０４は、ＡＣ型ＰＤＰ特有の電流制限機能を有しており、ＤＣ型に比べて長寿命にできる要因となっている。保護層１０５は、放電によって誘電体層１０４がスパッタされて削られないように保護するためのもので、耐スパッタ性に優れるとともに高い２次電子放出係数（γ）を有して放電開始電圧を低減する働きが要求される。
【０００６】
また、上記表示面側基板１０１に対向して、同じくガラス板からなる背面側基板１０６が設けられている。背面側基板１０６上には画像データを書き込むデータ電極１０７、下地誘電体層１０８、隔壁１０９および蛍光体層１１０が形成されている。
【０００７】
ＰＤＰは、いわゆる３原色（赤、緑、青）を加法混色することにより、フルカラー表示を行っている。このフルカラー表示を行うために、ＰＤＰには３原色である赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色を発光する蛍光体層１１０が備えられ、この蛍光体層１１０を構成する蛍光体材料は、ＰＤＰの放電セル内で発生する紫外線により励起され、各色の可視光を生成している。背面側基板１０６の蛍光体層１１０の形成プロセスは、隔壁１０９を形成した後、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の蛍光体ペーストをスクリーン印刷またはラインジェット法によって塗布形成し、その後、大気中で焼成し、ペースト中の溶剤成分を取り除くというものである。
【０００８】
以上のようにして構成された表示面側基板１０１と背面側基板１０６は、どちらか一方、もしくは両方の基板周囲に、封着用ガラスフリットが塗布され（図示せず）、フリット中の樹脂成分を除去するため３００℃〜３５０℃で仮焼し、両基板を重ね合わせた後、高温（４５０℃〜５５０℃）に加熱して封着ガラスを軟化させて両基板を貼り合わせる（封着工程）。ここで、データ電極１０７および隔壁１０９は、表示電極と交差するように配置されており、また２本の隔壁１０９および表示面側基板１０１、背面側基板１０６で囲まれた空間でもって放電セル１１１が形成されている。
【０００９】
この時、隔壁１０９は、隣接する放電セル間を仕切り、誤放電や光学的クロストークを防ぐ役割をしている。このＰＤＰの表示電極に、数十ｋＨｚ〜数百ｋＨｚのＡＣ電圧を印加して放電セル１１１内に放電を発生させ、励起されたＸｅ原子からの真空紫外線（波長：１４７ｎｍ、１７３ｎｍ）によって蛍光体層１１０を励起し可視光を発生させて表示動作を行う。
【００１０】
ここで、ＰＤＰにおいては、経時的な動作電圧の増加が発生するという課題があった。これは、不純ガスとして炭化水素系ガス（以下、ＣＨ系ガスとする）が蛍光体に吸着しており、放電により発生する真空紫外線あるいはイオン衝撃によってＣＨ系ガスが放電空間に放出され、ＭｇＯの保護層１０５に吸着し、ＭｇＯ表面の２次電子放出係数が小さくなってしまうために生じる現象である。
【００１１】
そこで従来、前記ＣＨ系ガスによる動作電圧の増加を抑えるために、表示面側基板と背面側基板および隔壁とで形成される放電セル内に光触媒物質層および酸化物層を配設するという技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００４−３２７１１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
放電セル内の隔壁表面に光触媒物質層を配設する方法は、セル内の放電によって発生する紫外線を光触媒物質層に照射することにより、ＣＨ系ガスはＭｇＯ表面に吸着して動作電圧の大きな変動をもたらさないＣＯ2あるいはＨ2Ｏに分解することを目的としている。光触媒物質層としては、酸化チタンにより形成された層を挙げることができ、酸化チタンの配設により、その光触媒作用によって、動作電圧の安定性はある程度保証される。
【００１３】
しかし一方では、その超親水性によりパネル内のＨ2Ｏを一度は吸着した酸化チタンが、放電に曝されることによってＨ2Ｏが可逆的に放電セル内に放出されてしまうため、固定表示部と非表示部の放電開始電圧の差を従来以上に増幅し、全点灯時に輝度差を生じさせ、また、固定表示部の時間経過に対する残像および焼き付き現象の回復についても、不利な方向に作用するという課題が発生する場合があった。
【００１４】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、その目的は、経時的な動作電圧の上昇および残像・焼き付き現象が軽減された、良好な画像表示が可能なガス放電パネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達するため、本発明のガス放電パネルは、放電空間を介して対向する表示面側基板と背面側基板とを有し、前記背面側基板上には所定の間隔で隔壁が形成されたガス放電パネルにおいて、前記ガス放電パネルの画像非表示領域において、前記隔壁間の溝部には光触媒物質微粒子層を配設したことを特徴とする。
【００１６】
セル内の放電によって発生する紫外線を光触媒の微粒子に照射することにより、ＣＨ系ガスはＭｇＯ表面に吸着して動作電圧の大きな変動をもたらさないＣＯ2あるいはＨ2Ｏに分解されるので、経時的な動作電圧の上昇のない安定なガス放電パネルを実現できる。また、蛍光体の粒径よりも小さな微粒子であるので、蛍光体層の遮蔽による輝度低下を最小限にして蛍光体表面に配設することができ、従来よりも、効果的に作用するため、少量の配設で、効果を得られる。少量の配設であるので、たとえば、酸化チタンのような超親水性の材料であったとしても、Ｈ2Ｏの吸着量が少量であるので、焼き付き・残像減少に対して、不利に作用することはない。また本発明のガス放電パネルは、光触媒物質微粒子とともに酸化物微粒子を形成することで、紫外線照射によるヒドロキシラジカル（ＯＨ）の発生量を増加させ、ＣＨ系ガスの分解をより促進できるようにしたものである。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、経時的な動作電圧の上昇および残像・焼き付き現象が軽減された、良好な画像表示が可能なガス放電パネルを実現することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の一実施の形態によるガス放電パネルについて、図面を参照して説明する。なお、以下の説明では、ガス放電パネルの代表例であるＰＤＰを例に説明する。また図５で示した構成と同様のものについては同じ符号を付している。
【００１９】
（実施の形態１）
図１は、本発明の一実施の形態によるＰＤＰの、長手方向における画像表示領域３０１と画像非表示領域３０２との領域を概略的に示す平面図である。また、図２は、図１に示す画像非表示領域３０２内での、ＰＤＰの構成を概略的に示す斜視断面図である。また、図３は図２中のＡ−Ａ'矢視断面図で、本発明の一実施の形態によるＰＤＰの概略構成を示す断面図である。
【００２０】
図２および図３において、ガラス板からなる表示面側基板１０１上にＩＴＯまたは酸化錫（ＳｎＯ2）などの透明導電性材料からなる透明電極１０２Ｘ、１０２Ｙを形成し、その上に銀（Ａｇ）厚膜（厚み：２μｍ〜１０μｍ）、アルミニウム（Ａｌ）薄膜（厚み：０．１μｍ〜１μｍ）またはＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層薄膜（厚み：０．１μｍ〜１μｍ）よりなるバス電極１０３Ｘ、１０３Ｙを形成している。
【００２１】
これらの透明電極１０２Ｘ、１０２Ｙおよびバス電極１０３Ｘ、１０３Ｙを覆うように、例えば、酸化鉛（ＰｂＯ）７０重量％、酸化硼素（Ｂ2Ｏ3）１５重量％、酸化珪素（ＳｉＯ2）１５重量％の組成を有する低融点ガラス（厚み２０μｍ〜４０μｍ）からなる誘電体層１０４をスクリーン印刷やダイコート印刷またはフィルムラミネート法によって形成する。
【００２２】
続いて、放電プラズマによる損傷から誘電体層１０４を保護するＭｇＯからなる保護層１０５（厚み：０．３μｍ〜１μｍ）が電子ビーム蒸着法あるいはスパッタ法あるいは化学的気相成長法（ＣＶＤ法）により形成されている。
【００２３】
ここで、所定の間隔でもって互いに平行に並んだ２本の透明電極１０２Ｘ、１０２Ｙおよびバス電極１０３Ｘ、１０３Ｙによって１つの画素（ピクセル：ＰＵ）の表示電極が構成され、この間に交流電圧を印加して放電空間１１１内に放電を発生させる。
【００２４】
一方、放電空間１１１を介して上記表示面側基板１０１に対向する背面側基板１０６が設けられている。背面側基板１０６はガラス板からなり、その上に銀（Ａｇ）厚膜（厚み：２μｍ〜１０μｍ）、アルミニウム（Ａｌ）薄膜（厚み：０．１μｍ〜１μｍ）またはＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層薄膜（厚み：０．１μｍ〜１μｍ）からなるデータ電極１０７が形成され、データ電極１０７を覆うように低融点ガラスからなる下地誘電体層１０８（厚み：５μｍ〜２０μｍ）が形成されている。
【００２５】
さらに、例えば、低融点ガラスのスクリーン印刷の繰り返しと焼成によって、隔壁１０９（高さ０．１ｍｍ〜０．１５ｍｍ）が所定の間隔で形成されている。
【００２６】
そして、隔壁１０９間の溝部においては、画像表示領域３０１では、カラー表示のための３原色（赤：Ｒ、緑：Ｇ、青：Ｂ）の蛍光体層１１０Ｒ、１１０Ｇ、１１０Ｂが順次、積層して設けられている。また、画像非表示領域３０２では、平均粒径が５ｎｍ〜１０００ｎｍの光触媒物質微粒子層１２０が形成され、さらに、光触媒物質微粒子層１２０とともに、酸化物微粒子層１２１が積層されて形成されている。
【００２７】
なお、画像非表示領域３０２においては、隔壁１０９間の溝部に、光触媒物質微粒子層１２０と酸化物微粒子層１２１とが積層されて設けられた構成となっているものが存在すればよい。すなわち、画像非表示領域３０２の隔壁１０９間の溝部に、光触媒物質微粒子層１２０と酸化物微粒子層１２１とが積層されて設けられた構成のものと、蛍光体層１１０Ｒ、１１０Ｇ、１１０Ｂが設けられた構成のものとが混在しているという状態であっても、また、画像非表示領域３０２においては、隔壁１０９間の溝部はすべて光触媒物質微粒子層１２０と酸化物微粒子層１２１とが積層されて設けられた構成となっているという状態であっても良い。
【００２８】
そして表示面側基板１０１と背面側基板１０６は、表示電極とデータ電極１０７とが交差するように貼り合わされ、隔壁１０９によりライン方向にサブピクセルＳＵ毎に区画された放電空間１１１の、表示電極とデータ電極１０７とが交差する部分に放電セルが形成される。
【００２９】
ここで、隔壁１０９の高さを揃えることによって、放電空間１１１の間隙寸法が所定の一定値をとるようになっている。また、画像表示領域３０１においては、１つの画素（ピクセル：ＰＵ）は、ライン方向に並んで赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色で発光する３つのサブピクセルＳＵで構成されている。また、画像非表示領域３０２においては、少なくとも、光触媒物質微粒子層１２０と酸化物微粒子層１２１とが積層されて設けられた構成のサブピクセルＳＵが存在する。
【００３０】
上記のようにして表示面側基板１０１と背面側基板１０６を対向させ、周囲を気密封止し、加熱しながら放電空間１１１内を真空排気した後、例えばＮｅとＸｅの混合ガスからなる放電ガスを所定の圧力および混合比で充填する。さらに、表示電極に３００Ｖ〜５００Ｖの電圧パルスを印加して放電空間１１１に放電を発生させることで、放電開始電圧を下げるとともに安定させるためのエージングを、８時間〜１６時間行うことでＰＤＰ１００が完成する。
【００３１】
次に、上記構成の本発明の一実施の形態によるＰＤＰ１００の効果を説明する。比較のために、光触媒物質微粒子層１２０および酸化物微粒子層１２１は配設せず、他の構成要素はＰＤＰ１００と全く同様とした、図５に断面斜視図で示すような比較用ＰＤＰ（Ａ）と、特許文献１に示すような光触媒物質層および酸化物層を配設した比較用ＰＤＰ（Ｂ）を作製した。そして、ＰＤＰ１００、ＰＤＰ（Ａ）、ＰＤＰ（Ｂ）について、通常使用で５万時間に相当する加速寿命試験を行った。
【００３２】
その結果、ＰＤＰ１００、ＰＤＰ（Ｂ）は、放電開始電圧は、動作上、殆ど問題ない程度の変動しか生じず、この間は非常に安定に動作できることを確認した。一方、比較ＰＤＰ（Ａ）の場合、寿命試験前でもＰＤＰ１００に比べて放電開始電圧が数ボルト高い状態ではあったが、寿命試験中においても時間経過とともに点灯部での放電開始電圧が２０Ｖ以上増加し、通常使用で１万時間に相当する加速寿命試験において、ＰＤＰ（Ａ）の一部に点灯しない領域が発生することが確認された。
【００３３】
寿命試験後、これらのＰＤＰを分解し、保護層１０５の表面に対して走行型２次イオン質量分析（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）を行ったところ、ＰＤＰ１００に比べてＰＤＰ（Ａ）はＣＨ系ガスの吸着量が多いことが判明した。
【００３４】
また、表示面側基板１０１および背面側基板１０６の一部を切り出し、それぞれに対し昇温脱離質量分析（ＴＤＳ）を行ったところ、ＴＯＦ−ＳＩＭＳの結果と同様に、ＰＤＰ１００に比べてＰＤＰ（Ａ）のＣＨ系ガスの吸着量が多いことが判明した。さらに、エージング前後で、同様に保護層１０５の表面に対してＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析したところ、寿命試験後ほどではないがＰＤＰ１００に比べてＰＤＰ（Ａ）の方がＣＨ系ガスの吸着量が多いことが判明した。
【００３５】
次に、ＰＤＰ１００およびＰＤＰ（Ｂ）に対して、固定表示パターンの残像・焼き付きに対する回復時間について計測したところ、ＰＤＰ（Ｂ）の方が、回復時間が長く、焼き付きについてでも回復しない場合も見られた。そこで、ＰＤＰ１００、ＰＤＰ（Ｂ）の比較に対しては、固定表示加速寿命試験を行い、固定表示部とそれに隣接する非点灯部について、表示面側基板および背面側基板の一部を切り出し、それぞれ昇温脱離質量分析（ＴＤＳ）を行った。その結果、非点灯部においては、ＰＤＰ１００に比べてＰＤＰ（Ｂ）の方がＨ2Ｏの吸着量が多いことが判明した。また、固定表示部においては、ＰＤＰ１００に比べてＰＤＰ（Ｂ）の方がＨ2Ｏの吸着量が少ないことが判明した。さらに、ＰＤＰ１００の固定表示部と非点灯部とのＨ2Ｏの吸着量はほぼ同等であったが、ＰＤＰ（Ｂ）の固定表示部と非点灯部とのＨ2Ｏの吸着量に差が生じており、非点灯部の方が多いことが判明した。
【００３６】
ここで、画像非表示領域３０２の隔壁１０９間の溝部に光触媒物質微粒子層１２０と酸化物微粒子層１２１とを積層して配設した本発明の一実施の形態によるＰＤＰ１００において、放電開始電圧が安定で長寿命になった理由については、以下のように考えられる。
【００３７】
まず、ＰＤＰ（Ａ）内部においては、ＣＨ系ガスは主に蛍光体層１１０Ｒ、１１０Ｇ、１１０Ｂに吸着して取り込まれている。そして、ＰＤＰ１００を動作させると放電セル内の放電に伴い、蛍光体層１１０Ｒ、１１０Ｇ、１１０Ｂ表面への紫外線照射やイオン衝突によって、吸着しているＣＨ系ガスが脱離しＭｇＯからなる保護層１０５の表面に吸着する。そのため、２次電子放出係数（γ）値が減少し、結果として放電開始電圧が増加する。ＰＤＰ（Ａ）の放電開始電圧がエージング後でＰＤＰ１００より大きいこと、ＰＤＰ（Ａ）の寿命試験において放電開始電圧が増加したことは、ＴＯＦ−ＳＩＭＳやＴＤＳの結果からもＣＨ系ガスが原因と思われる。
【００３８】
しかしながら、光触媒物質微粒子層１２０を形成した本発明の一実施の形態によるＰＤＰ１００では、駆動中に、光触媒物質微粒子層１２０が放電に曝されることで、光触媒作用によって、ＰＤＰ１００内のＣＨ系ガスが放電開始電圧に余り影響しないＣＯ2やＨ2Ｏに変化し、さらに、駆動中、常時、ＣＨ系ガスの分解が促進されるため、ＰＤＰ（Ａ）に比べて放電開始電圧の変動が少なくなったものと考えられる。なお、ＣＨ系ガスの量が少ないということは、ＴＯＦ−ＳＩＭＳやＴＤＳの分析からも明らかである。
【００３９】
光触媒物質微粒子層１２０によるＣＨ系ガスの分解について、さらに詳細に説明する。放電セル内の放電で発生する紫外線が半導体である光触媒物質微粒子層１２０表面に照射されると、電子が伝導体に励起され、電子・正孔対が生成する。この際、光触媒物質微粒子層１２０上と隣接して酸化物微粒子層１２１が形成されていると、正孔は、容易に酸化物微粒子層１２１へ移動し、酸化物微粒子層１２１表面に吸着しているＨ2Ｏを分解してヒドロキシラジカル（ＯＨ）を発生する。このヒドロキシラジカル（ＯＨ）は酸化物微粒子層１２１表面およびその付近に存在するＣＨ系ガスと酸化反応し、ＣＯ2やＨ2Ｏに分解する。
【００４０】
このように本発明の一実施の形態によるＰＤＰ１００は、その動作によって、内部に発生する紫外線と光触媒物質微粒子とにより、蛍光体層１１０Ｒ、１１０Ｇ、１１０Ｂ表面から徐々に出てくるＣＨ系ガスを放電開始電圧を上昇させにくいＣＯ2やＨ2Ｏガスに分解することができるので、駆動時間の経過と共にＰＤＰ１００内のＣＨ系ガスは希薄になっていき、安定動作が可能になる。
【００４１】
ここで、酸化物微粒子層１２１を構成する酸化材料としては、ＳｉＯ2、Ｖ2Ｏ5、ＭｏＯ3、Ｔａ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、Ａｓ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＺｎＯ、ＰｂＯ、Ｅｕ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、ＴｍＯ3、Ｄｙ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、Ｔｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、Ｂｉ2Ｏ3、ＨｆＯ2、ＣｏＯ、ＣｕＯ、ＮｉＯ、Ｇａ2Ｏ3、ＭｎＯ2、ＣｅＯ2、Ｃｒ2Ｏ3、ＭｇＡｌＯ4、Ｋ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・６ＳｉＯ2、Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・６ＳｉＯ2、ＣａＯ・Ａｌ2Ｏ3・６ＳｉＯ2、Ｓｃ2Ｏ3の中から選ばれる少なくとも一つを挙げることができる。特に、これらの材料が非晶質である場合は、酸素原子が比較的表面に出にくく、よりＨ2Ｏの吸着性が高まるため、より好ましい。また、非晶質の場合は、量子論的組成から外れている場合や、水素原子やハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）原子を層中に含む場合でもよい。
【００４２】
また、光触媒物質微粒子層１２０を構成する光触媒材料としては、酸化チタン、酸化錫、酸化亜鉛、三酸化二ビスマス、三酸化タングステン、酸化第二鉄、チタン酸ストロンチウムの中から選ばれる少なくとも一つを挙げることができる。
【００４３】
（実施の形態２）
図４は、同じく本発明の一実施の形態によるＰＤＰの概略構成を示す断面図である。ＰＤＰ２００は、実施の形態１で示したＰＤＰ１００（図１、図２）と比べて、酸化物微粒子層１２１（図１、図２）を有さないことが異なる。なお、図１、図２で示したＰＤＰ１００の構成と同様のものについては同じ符号を付している。
【００４４】
このＰＤＰ２００に対して、実施の形態１と同様の加速寿命試験を行ったところ、ＰＤＰ１００と同じように、放電開始電圧変化が少なく、安定動作することが確認できた。これは、酸化物微粒子がない状態でも光触媒反応が進行しＣＨ系ガスの分解が促進されているためであると考えられる。
【００４５】
上述した実施の形態１〜２においては、放電ガスとしては、Ｎｅ−Ｘｅの混合ガスの他に、Ｈｅ−Ｘｅの混合ガスを使用してもよく、さらにこれらのガスにＡｒ、ＫｒあるいはＨｅを加えてもよい。また、これらの放電ガスに、酸素やＮＯ、ＮＯ2、Ｎ2Ｏ、Ｎ2Ｏ3、Ｎ2Ｏ4、Ｎ2Ｏ5、ＮＯ3など分子内に酸素原子を含むガスをＰＤＰの動作に影響のない程度に混合（具体的には０．１ｖｐｐｍ〜１０ｖｐｐｍ）すると、光触媒物質層の光触媒作用でヒドロキシラジカル（ＯＨ）が発生し、ＣＨ系ガスの分解をより促進できるため、効果的である。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
以上のように本発明は、大画面、高精細のＰＤＰを提供する上で有用な発明である。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの概略構成を示す平面図
【図２】本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの概略構成を示す断面斜視図
【図３】同じく、本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの概略構成を示す断面図
【図４】同じく、本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの概略構成を示す断面図
【図５】従来のプラズマディスプレイパネルの概略構成を示す断面斜視図
【符号の説明】
【００４８】
１００ プラズマディスプレイパネル
１０１ 表示面側基板
１０２Ｘ、１０２Ｙ 透明電極
１０３Ｘ、１０３Ｙ バス電極
１０４ 誘電体層
１０５ 保護層
１０６ 背面側基板
１０７ データ電極
１０８ 下地誘電体層
１０９ 隔壁
１１０Ｒ 蛍光体層（赤）
１１０Ｇ 蛍光体層（緑）
１１０Ｂ 蛍光体層（青）
１１１ 放電空間
１２０ 光触媒物質微粒子層
１２１ 酸化物微粒子層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放電空間を介して対向する表示面側基板と背面側基板とを有し、前記背面側基板上には所定の間隔で隔壁が形成されたガス放電パネルにおいて、前記ガス放電パネルの画像非表示領域において、前記隔壁間の溝部には光触媒物質微粒子層を配設したことを特徴とするガス放電パネル。
【請求項２】
前記光触媒物質微粒子層上に積層して、酸化物微粒子層を配設したことを特徴とする請求項１に記載のガス放電パネル。
【請求項３】
光触媒物質微粒子層は、酸化チタン、酸化錫、酸化亜鉛、三酸化二ビスマス、三酸化タングステン、酸化第二鉄、チタン酸ストロンチウムの中から選ばれる少なくとも一つの材料で構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載のガス放電パネル。
【請求項４】
酸化物微粒子層は、ＳｉＯ2、Ｖ2Ｏ5、ＭｏＯ3、Ｔａ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、Ａｓ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＺｎＯ、ＰｂＯ、Ｅｕ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、ＴｍＯ3、Ｄｙ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、Ｔｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、Ｂｉ2Ｏ3、ＨｆＯ2、ＣｏＯ、ＣｕＯ、ＮｉＯ、Ｇａ2Ｏ3、ＭｎＯ2、ＣｅＯ2、Ｃｒ2Ｏ3、ＭｇＡｌＯ4、Ｋ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・６ＳｉＯ2、Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・６ＳｉＯ2、ＣａＯ・Ａｌ2Ｏ3・６ＳｉＯ2、Ｓｃ2Ｏ3の中から選ばれる少なくとも一つの材料で構成されていることを特徴とする請求項２または３に記載のガス放電パネル。
【請求項５】
放電空間内に充填される放電ガスに、分子内に酸素原子を含むガスが混合されていることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のガス放電パネル。
【請求項１】
放電空間を介して対向する表示面側基板と背面側基板とを有し、前記背面側基板上には所定の間隔で隔壁が形成されたガス放電パネルにおいて、前記ガス放電パネルの画像非表示領域において、前記隔壁間の溝部には光触媒物質微粒子層を配設したことを特徴とするガス放電パネル。
【請求項２】
前記光触媒物質微粒子層上に積層して、酸化物微粒子層を配設したことを特徴とする請求項１に記載のガス放電パネル。
【請求項３】
光触媒物質微粒子層は、酸化チタン、酸化錫、酸化亜鉛、三酸化二ビスマス、三酸化タングステン、酸化第二鉄、チタン酸ストロンチウムの中から選ばれる少なくとも一つの材料で構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載のガス放電パネル。
【請求項４】
酸化物微粒子層は、ＳｉＯ2、Ｖ2Ｏ5、ＭｏＯ3、Ｔａ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、ＧｅＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、Ａｓ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＺｎＯ、ＰｂＯ、Ｅｕ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、ＴｍＯ3、Ｄｙ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、Ｔｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、Ｂｉ2Ｏ3、ＨｆＯ2、ＣｏＯ、ＣｕＯ、ＮｉＯ、Ｇａ2Ｏ3、ＭｎＯ2、ＣｅＯ2、Ｃｒ2Ｏ3、ＭｇＡｌＯ4、Ｋ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・６ＳｉＯ2、Ｎａ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・６ＳｉＯ2、ＣａＯ・Ａｌ2Ｏ3・６ＳｉＯ2、Ｓｃ2Ｏ3の中から選ばれる少なくとも一つの材料で構成されていることを特徴とする請求項２または３に記載のガス放電パネル。
【請求項５】
放電空間内に充填される放電ガスに、分子内に酸素原子を含むガスが混合されていることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のガス放電パネル。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００９−２３１１７６（Ｐ２００９−２３１１７６Ａ）
【公開日】平成２１年１０月８日（２００９．１０．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−７７３１８（Ｐ２００８−７７３１８）
【出願日】平成２０年３月２５日（２００８．３．２５）
【出願人】（０００００５８２１）パナソニック株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年１０月８日（２００９．１０．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年３月２５日（２００８．３．２５）
【出願人】（０００００５８２１）パナソニック株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
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