ミスト発生装置及び美容装置
【課題】放電部の放電を安定して行うことができるミスト発生装置を備えた美容装置を提供する。
【解決手段】第２電極部８２は、円柱状をなすとともに、第１電極部８０，８１との間で放電が行われ、第２電極部８２の軸方向（長手方向）が第１電極部８０，８１の軸線Ｌｎに沿って配置される。また、第２電極部８２は、第１電極部８０，８１と同一軸線Ｌｎ上に配置される。そして、第２電極部８２は、保持部材としてのピンプレート８４によって保持される。
【解決手段】第２電極部８２は、円柱状をなすとともに、第１電極部８０，８１との間で放電が行われ、第２電極部８２の軸方向（長手方向）が第１電極部８０，８１の軸線Ｌｎに沿って配置される。また、第２電極部８２は、第１電極部８０，８１と同一軸線Ｌｎ上に配置される。そして、第２電極部８２は、保持部材としてのピンプレート８４によって保持される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ミスト及び金属粒子を混合させて放出可能なミスト発生装置、及びそのミスト発生装置を備えた美容装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ミスト発生装置は、液体をヒータにて沸騰させて気化させたスチーム（温ミスト）や、超音波にて霧化させたミスト（冷ミスト）を顔などの人体に向けて放出することで、肌に潤いを与えるなどの美容効果やスキンケアを目的とした装置として用いられている。尚、ミストとは、前述のように液体を気化させたスチーム（温ミスト）や、液体を霧化させた冷ミスト等のことを指し、これ以降同様の意味として使用する。
【０００３】
特許文献１のミスト発生装置は、液体からミストを生成してミスト経路を介してミスト放出孔から放出させるように構成されたミスト発生機構と、ミスト経路内に設けられる一対の第１電極部（電極部）及びこの第１電極部間に配置される第２電極部（中間電極）から構成される放電部とで構成されている。そして、放電部の第１電極部及び第２電極部間で放電を行うことで金属微粒子が生成され、金属微粒子とミストとを混合させて放出されるようになっている。これにより、ミストによる肌の保湿効果と金属微粒子による肌の抗菌効果を同時に付与することができるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−２９４２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上記のようなミスト発生装置において、放電部によって放電を行う場合、第１電極部から最も近い第２電極部（中間電極）のエッジ部（端部）との間で放電経路が形成されることとなるため、そのエッジ部が徐々に削れて第２電極部が消耗していくこととなる。そのため、上記のようなミスト発生装置のように第１電極部の軸方向と第２電極部の軸方向とが直交する構成の場合、放電による消耗が例えば第２電極部の上端側のエッジ部の第１電極部と近い部位から下方向に偏って進行するため、放電経路のぶれ幅が大きく（放電が安定し難く）、この改善が望まれている。
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、放電部の放電を安定して行うことができるミスト発生装置、及びそのミスト発生装置を備えた美容装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、液体からミストを生成してミスト経路を介して外部に放出させるように構成されたミスト発生機構と、前記ミスト経路中に設けられる第１電極部及び該第１電極部に対向配置されるとともに金属微粒子を発生させるための第２電極部を有する放電部とを備え、前記ミスト発生機構によるミスト放出と前記放電部による放電による金属微粒子とが放出可能なミスト発生装置であって、前記第２電極部は、前記第１電極部との間で放電が行われる柱状をなす柱状部を有し、前記柱状部の軸方向が前記第１電極部の軸線に沿って配置されたことをその要旨とする。
【０００８】
この発明では、第２電極部は、第１電極部との間で放電が行われる柱状をなす柱状部を有し、柱状部の軸方向が第１電極部の軸線に沿って配置される。このような構成において、第２電極部の柱状部の端面エッジ部が第１電極部の軸線回りに環状をなすため、放電による第２電極部の消耗が環状をなすエッジ部に沿って平均的に進行し、放電経路がその時々で大きく変化せず、放電部の放電を安定して行うことができる。これにより、金属微粒子を安定して生成することができる。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のミスト発生装置において、前記第２電極部の前記柱状部は、円柱状をなし、前記第１電極部と同一軸線上に配置されたことをその要旨とする。
【００１０】
この発明では、第２電極部の柱状部は、円柱状をなし、第１電極部と同一軸線上に配置される。これにより、第１電極部と第２電極部の軸方向端面のエッジ部との間で放電を行った場合、第２電極部の軸方向端面が均等に削られることとなるため、第２電極部の柱状部を効率よく使用することができる。そのため、第２電極部の長寿命化に寄与することができる。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載のミスト発生装置において、前記第２電極部の前記柱状部は、別部材の保持部材によって保持されたことをその要旨とする。
この発明では、第２電極部の柱状部は、別部材の保持部材によって保持される。つまり、第２電極部の柱状部が保持部材によって保持されるため、第２電極部のメンテナンスを行う際に柱状部（第２電極部）のみを交換でき、メンテナンスを容易とすることができる。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載のミスト発生装置において、前記保持部材は、前記軸線方向に貫通する貫通部が形成されるものであり、前記第２電極部の前記柱状部は、前記貫通部に挿通固定されたことをその要旨とする。
【００１３】
この発明では、保持部材は、軸線方向に貫通する貫通部が形成されるものであり、第２電極部の柱状部は、貫通部に挿通固定される。そのため、保持部材により比較的簡易な構成にて第２電極部の柱状部を固定（保持）することができる。
【００１４】
請求項５に記載の発明は、請求項３又は４に記載のミスト発生装置において、前記保持部材は、前記ミスト経路を構成する管路部材に着脱可能に設けられたことをその要旨とする。
【００１５】
この発明では、保持部材は、ミスト経路を構成する管路部材に着脱可能に設けられる。つまり、第２電極部の比較的小さな柱状部をメンテナンス時において保持部材を外すことができるため、例えば管路部材から保持部材を外した後に柱状部のメンテナンス（交換）が可能となり、メンテナンスを容易とすることができる。
【００１６】
請求項６に記載の発明は、請求項１〜５のいずれか一項に記載のミスト発生装置において、前記第１電極部は、同一軸線上に一対の電極を設けて構成されるものであり、前記第２電極部は、前記第１電極部の一対の電極間に設けられたことをその要旨とする。
【００１７】
この発明では、第１電極部は、同一軸線上に一対の電極を設けて構成され、第２電極部は、第１電極部の一対の電極間に設けられる。このため、一対の電極にて第２電極部の軸方向両端面を効率よく使用することができ、金属微粒子の発生量を増やすことが可能となる。
【００１８】
請求項７に記載の発明は、請求項１〜６のいずれか一項に記載のミスト発生装置を備えた美容装置である。
この発明では、請求項１〜６のいずれか一項に記載のミスト発生装置を備えたことで、請求項１〜６のいずれか一項に記載の効果と同様の効果を奏することができる美容装置を提供できる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、放電部の放電を安定して行うことができるミスト発生装置、及びそのミスト発生装置を備えた美容装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本実施形態における美顔器を示す斜視図。
【図２】同美顔器を前後方向で切断し右側から見た断面図。
【図３】同美顔器を左右方向で切断し背面側から見た断面図。
【図４】同美顔器のマイナスイオン生成部部分の拡大断面図。
【図５】同美顔器の管路及び整流部部分の拡大断面図。
【図６】同美顔器の機能の概略構成を示すブロック図。
【図７】同美顔器の放電部の断面図。
【図８】同美顔器の放電部の断面図。
【図９】同美顔器の第２電極部の取り付け構造を説明するための斜視図。
【図１０】（ａ）（ｂ）は、別例における第２電極部を説明するための説明図。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図面に従って説明する。
図１は、本実施形態のミスト発生装置を備える美容装置としての美顔器１０を示す。有底略円筒状の本体ケース１１には美顔器本体１２が収容されて固定され、その本体ケース１１の開口部と面一をなす美顔器本体１２の上面にはノズル部１３及びスイッチ部１４が設置されている。ノズル部１３及びスイッチ部１４を有する美顔器本体１２の上面は、本体ケース１１に対し開閉可能（傾動可能）に取り付けられたメインカバー１５にて露出・隠蔽が可能とされている。
【００２２】
ノズル部１３は、美顔器本体１２の上面中央に設けられており、スチーム（温ミスト）を放出する一対のスチームノズル（温ミストノズル）２１ａ，２１ｂ、冷ミストを放出するミストノズル（冷ミストノズル）２２、及びマイナスイオンを放出するイオンノズル２３を有し、ミストノズル２２が左右方向中央位置に、スチームノズル２１ａがその右側に、スチームノズル２１ｂが左側に、そしてイオンノズル２３がミストノズル２２の上側にそれぞれ配置されている。尚、スチームノズル２１ａ及び２１ｂは、互いの間隔が例えば７０ｍｍに設定されている。
【００２３】
またスチームノズル２１ａ，２１ｂ、ミストノズル２２、及びイオンノズル２３の各放出方向は前側斜め上方の同一方向に向くように設定され、美顔器１０の前側と使用者と対向するように使用した時のその使用者の顔表面に向けて放出方向が向くように設定されている。また、このノズル部１３にもノズルカバー１６が開閉可能（傾動可能）に取り付けられ、その開閉にて各ノズル２１ａ，２１ｂ，２２，２３の露出・隠蔽が可能とされている。
【００２４】
また、ノズル部１３の手前右側には、スイッチ部１４として、それぞれ押しボタンスイッチにて構成される電源スイッチ２５、運転制御スイッチ２６、及びコース選択スイッチ２７が設けられている。電源スイッチ２５は、美顔器１０のオンオフ操作を行うものであり、運転制御スイッチ２６及びコース選択スイッチ２７は、その操作にて、スチームと冷ミストとを組み合わせて対象体に向けて放出するコースやスチームのみを放出するコースといった各種のコースの選択、及びその決定（動作開始）を行うものである。
【００２５】
また、ノズル部１３の左側には、美顔器本体１２の上面から凹設されてなるタンク収容部１７が設けられており、該タンク収容部１７内には、開口部と面一となるように給水タンク１８が着脱可能に収容されている。給水タンク１８は、使用者が美顔器１０から取り外しての給水が可能となっており、貯留した水からスチームや冷ミストのそれぞれの生成が行われる。
【００２６】
美顔器本体１２には、図２に示すように、スチーム発生機構を構成するスチーム生成部３１と、ミスト発生機構を構成するミスト生成部３２と、マイナスイオンを生成するマイナスイオン生成部３３が備えられている。
【００２７】
ミスト発生機構を構成するスチーム生成部３１は、美顔器本体１２の前側に備えられており、スチーム（温ミスト）を生成する。スチーム生成部３１は、駆動電流の供給に基づいて発熱しその発熱の自己制御機能を有する殺菌機構及び加熱装置としてのＰＴＣ（Positive Temperature Coefficient）ヒータ３５，３６を前側と後側にそれぞれ備え、給水タンク１８から給水管路１９を介してＰＴＣヒータ３５，３６内側のボイラ室３７内に供給された水を沸騰させてスチームの生成を行っている。因みに、前側のＰＴＣヒータ３５の外側面には、給水タンク１８から延びる給水管路１９の一部が当接させて配置されており、ボイラ室３７への流入の前に温められ該ボイラ室３７内で効率良くスチームが生成されるようになっている。尚、給水管路１９は、排水管路３８（図６参照）を介して美顔器１０の排水口３８ａに接続されており、排水スイッチの操作によって制御される排水管路３８上の止水弁３９にて美顔器１０内の排水を行うことが可能となっている。
【００２８】
ボイラ室３７の上部には、図２及び図３に示すように、生成したスチームを一対のスチームノズル２１ａ，２１ｂまで案内させるためのスチーム案内管路４１が接続されている。スチーム案内管路４１は、その途中に分岐部４２を有している。スチーム案内管路４１は、図５に示すように、分岐部４２から二股に分かれるように分岐部４２からスチームノズル２１ａまでを接続する第１案内管路４１ａと，分岐部４２からスチームノズル２１ｂまでを接続する第２案内管路４１ｂとを有し、第１案内管路４１ａの長さ（距離）Ｌ１及び第２案内管路４１ｂの長さ（距離）Ｌ２が等しくなるように構成されている。そのため、ボイラ室３７にて生成したスチームが分岐部４２から分かれて第１案内管路４１ａ及び第２案内管路４１ｂを通って各スチームノズル２１ａ，２１ｂまでそれぞれ案内される。そして、ボイラ室３７やスチーム案内管路４１内は高圧となるため、各スチームノズル２１ａ，２１ｂの放出孔からはある程度の勢いを以てスチームが放出されるようになっている。尚、スチームノズル２１ａ，２１ｂの放出孔の内径は例えば３．６ｍｍに設定されている。
【００２９】
また、スチーム案内管路４１の分岐部４２の若干手前位置には、スチーム用放電部４３が備えられている。スチーム用放電部４３は、自身の放電により、この放電部４３を通過するスチームをより微細化するとともに、放電を利用して金属微粒子（例えばＰｔなど）を発生させるものである。尚、スチーム用放電部４３については詳しく後述する。
【００３０】
スチーム用放電部４３の下流側で分岐部４２の直前位置には、整流機構としての整流部４４が備えられている。この整流部４４は、図５に示すように、スチーム案内管路４１内に中空形状の中空部としての円筒部４４ａと、該円筒部４４ａから延出形成されて円筒部４４ａを管路４１の径方向中心で支持する３本のリブ４４ｂとが設けられて構成されている。そして、放電部４３にて微細化したスチームが、その円筒部４４ａの内部及び３本のリブ４４ｂ間を通過する際に整流され、分岐部４２から先の各スチームノズル２１ａ，２１ｂに同量のスチームが分岐されるようなっている。尚、円筒部４４ａの内径は、スチームノズル２１ａ，２１ｂの放出孔の内径より大きく、且つ該放出孔の内径の１．５倍以下の大きさである例えば４．５ｍｍに設定されている。
【００３１】
ミスト生成部３２は、前記スチーム生成部３１よりも後側に備えられており、ベンチュリー効果を用いて冷ミストを生成する。給水タンク１８から延びる給水管路１９内の水は前記スチーム生成として利用される他に冷ミストとしても利用され、その給水管路１９からの水の一部をミストノズル２２まで送水する管路部材としての送水管路５１が備えられている。送水管路５１は、後側のＰＴＣヒータ３６の放熱面（垂直面）３６ａの平面（放熱面）方向に大きく３度蛇行（屈曲）して該放熱面３６ａに当接させて配置される管路部材としての当接管路５１ａを有している。尚、当接管路５１ａを蛇行させることで当接管路５１ａ内で液体の層流が抑制されるようになっている。
【００３２】
図２に示すように、送水管路５１の当接管路５１ａは、その全体が前記放熱面３６ａから離間されないように離間防止部材ＲＢにて放熱面３６ａ側に押し付け固定されている。更に、送水管路５１の当接管路５１ａは、図２に示すように、その径方向断面が楕円形状とされ、ＰＴＣヒータ３６の放熱面３６ａの平面（放熱面）方向に送水管路５１の断面の長手方向（図２において紙面上下方向）が沿うように配置されている。このように構成された当接管路５１ａの内部には、所定の水量（例えば所定コース中において放出するミスト量よりも多い水量）が保持されており、前記スチーム生成時の後側のＰＴＣヒータ３６の熱（余熱）により、冷ミスト用の水が例えば８０度、３０秒以上で殺菌処理されるようになっている。そのため、前記ミストノズル２２から放出される冷ミストは、美容に適した衛生状態が保たれている。
【００３３】
また、送水管路５１のミストノズル２２の直前位置にはその管内に濾過機構としてのフィルタ５２が装着されている。このフィルタ５２は、管路部材としての送水管路５１や当接管路５１ａ等で発生した水垢やゴミ、カスと、ミストを生成するための液体（水）自身に含まれるゴミやカスなどがミストノズル２２に流れ込むことを抑制させるものであり、このためミストノズル２２のつまりを抑えることができるため、ミストノズル２２からミストが安定して放出されるようになっている。そのため、本装置１０を使用するにあたって使用者の肌（顔面）に対して快適にミストをあて、美容効果（スキンケア効果）を高めることができる。
【００３４】
また、ミスト生成部３２として、美顔器本体１２内には空気圧送路５３が設けられており、該空気圧送路５３内には電動モータを駆動源としたポンプ５４の動作により空気の圧送が行われる。この圧送空気はミストノズル２２の放出孔に向けて供給され、放出孔手前で送水管路５１内の水と合流させることでベンチュリー効果が生じ、圧送空気とともに送水管路５１内の水が吸い出されて冷ミストが生成されて放出されるようになっている。
【００３５】
マイナスイオン生成部３３は、図２及び図４に示すようにノズル部１３内に備えられており、コロナ放電を発生させてマイナスイオンを生成する。イオン生成部３３は、ノズル部１３のイオンノズル２３に形成される収容凹部２３ａに、ユニット化されたマイナスイオン放電部６１が収容保持されてなる。イオン放電部６１は、その収容凹部２３ａに収容保持されるべく所定形状をなす電極ホルダ６２に対して針電極６３が支持されるとともに、針電極６３の先端側においてその針電極６３の軸線上に円環状の中心が位置するように円環状の対向電極６４が支持されて構成されている。針電極６３と対向電極６４とはそれぞれリード線６５が接続されて電極ホルダ６２から導出され、美顔器本体１２の上面近傍の制御回路基板７１に接続されている。
【００３６】
因みに、このイオン生成部３３（イオン放電部６１）では、針電極６３周りの空間Ｘ２は外部への開放のみで、その針電極６３周りの空間Ｘ２と美顔器本体１２内の空間Ｘ１とが仕切られている。これは、美顔器本体１２内の空間Ｘ１に設けられるシリコン素材を使用した部材（例えば送水管路５１の一部等）がＰＴＣヒータ３５，３６といった熱源にて加熱されるとその空間Ｘ１内にシリコンが浮遊し、この浮遊シリコンが針電極６３に付着するとコロナ放電の妨げとなりマイナスイオンの発生量が減少してしまうためであって、浮遊シリコンの針電極６３への付着が未然に防止されている。
【００３７】
制御回路基板７１は、電源コード７０（図１参照）にて外部から電源供給を受け、基板７１上に搭載される各種の回路部品よりなる制御回路７２の制御に基づいて、スチーム生成部３１、ミスト生成部３２、及びイオン生成部３３のそれぞれに動作電源を供給する。図５に示すように、制御回路７２は、電源スイッチ２５のオンオフ操作に基づいて美顔器１０の動作可能状態と及び停止状態との切り替えを行い、動作可能状態において運転制御スイッチ２６及びコース選択スイッチ２７の組み合わせ操作による各種使用コースの設定に基づいて、スチーム生成部３１（ＰＴＣヒータ３５，３６、スチーム用放電部４３等）と、ミスト生成部３２（ポンプ５４等）との動作を制御し、またイオン生成部３３（イオン放電部６１）を先の各生成部３１，３２の動作と合わせて動作させている。そのため、マイナスイオン及びスチーム（温ミスト）による美容効果やマイナスイオン及びミスト（冷ミスト）による美容効果を得ることができる。
【００３８】
そして、マイナスイオン生成時において、針電極６３に高電圧が印加されると、対向電極６４との電位差によって針電極６３の先端周囲にコロナ放電が発生し、マイナスイオンが発生する。発生したマイナスイオンは、針電極６３よりも低電位の対向電極６４に引き寄せられ、イオンノズル２３から外部に放出される。
【００３９】
次に、上記のように構成された美顔器１０の放電部としてのスチーム用放電部４３について図７〜９を用いて詳細に説明する。
図７に示すように、スチーム用放電部４３は、ミスト経路としてのスチーム案内管路４１内において放電を行うものであり、一対の第１電極部８０，８１と、この第１電極部８０，８１間に配置される柱状部としての第２電極部（中間電極部）８２とを備えている。
【００４０】
第１電極部８０，８１は、円柱状をなし（図９参照）、それぞれの軸中心が軸線Ｌｎ上、つまり同一軸線上となるように、スチーム案内管路４１に固定される電極ホルダ８３によって支持されている。尚、電極ホルダ８３は、その基端側（第１電極部８１，８２を支持している方向とは反対側）が図示しない防水パッキンにて防水されており、スチーム案内管路４１からスチーム（温ミスト）が流出することが防止されている。
【００４１】
また、第２電極部８２は、Ｐｔ含有の円柱状の金属部材にて構成されており、スチーム案内管路４１に固定される別部材からなる保持部材としてのピンプレート８４によって固定されている。
【００４２】
スチーム案内管路４１には、スチーム用放電部４３近傍の所定位置に、筒状のスチーム案内管路４１の筒状内側からスチーム案内管路４１の径方向内側に延出形成された延出部８５が設けられている。この延出部８５は、その一側面８５ａに突起部８５ｂが形成されるとともに、側面８５ａとは反対側の側面８５ｃにおいて前記延出方向に所定距離間隔を隔てて断面Ｌ字状の突起部８５ｄ，８５ｅが形成されている。
【００４３】
また、ピンプレート８４は、第１板部８４ａと第２板部８４ｂとが平行をなし、各板部８４ａ，８４ｂの一旦側において各板部８４ａ，８４ｂ間を接続する接続部８４ｃとで構成されている。第１板部８４ａは、第２板部８４ｂと比較して短く構成されており、第１板部８４ａの幅方向中央位置には前記延出部８５の突起部８５ｂと係合する係合孔９０が形成されている。また、第２板部８４ｂの接続部８４ｃとは反対側（図９において上側）の端部は、厚み方向に貫通するとともに前記端部側（上側）にかけて切り欠き形成される貫通部としての貫通溝９１が形成されている。またピンプレート８４は、延出部８５の下側から第１板部８４ａ及び第２板部８４ｂの前記接続部８４ｃとは反対の端部側（上側）を向けて取り付けられる様になっている。この時、前述したように延出部８５の突起部８５ｂとピンプレート８４の係合孔９０とが係合し、更に断面Ｌ字状の突起部８５ｄ，８５ｅが第２板部８４ｂをガイドするように着脱可能に取り付けられる。そして、第２板部８４ｂの貫通溝９１の下部には、第２電極部８２が挿通固定されるようになっている。また、貫通溝９１の下部は、ピンプレート８４を延出部８５に取り付けた際に第１電極部８０，８１の軸線Ｌｎと同一軸線上となるように設定されているため、第２電極部８２が第１電極部８０，８１と同一軸線Ｌｎ上に配置（各軸中心が一致して配置）されることとなる。
【００４４】
上記のように構成された美顔器１０においてスチーム用放電部４３にて放電を行う場合、円柱状をなす第２電極部８２の端面８２のエッジ部（端面８２ａの外周）が第１電極部８０，８１の軸線Ｌｎ回りに環状をなすため、放電による第２電極部８２の消耗が環状をなすエッジ部（端面８２ａの外周）に沿って平均的に進行し、放電経路がその時々で大きく変化せず、スチーム用放電部４３の放電を安定して行うことができる。これにより、金属微粒子を安定して生成することができる。また、第１電極部８０，８１にて第２電極部８２の両端面８２ａに対して放電を行うことができるため、金属微粒子の発生量を増やすことが可能となっている。
【００４５】
次に、本実施形態の特徴的な作用効果を記載する。
（１）第２電極部８２は、円柱状をなすとともに、第１電極部８０，８１との間で放電が行われ、第２電極部８２の軸方向（長手方向）が第１電極部８０，８１の軸線Ｌｎに沿って配置される。このような構成において、円柱状をなす第２電極部８２の端面８２ａのエッジ部（外周）が第１電極部８０，８１の軸線Ｌｎ回りに環状をなすため、放電による第２電極部８２の消耗が環状をなすエッジ部（端面８２ａの外周）に沿って平均的に進行し、放電経路がその時々で大きく変化せず、放電部４３の放電を安定して行うことができる。これにより、金属微粒子を安定して生成することができる。
【００４６】
（２）第２電極部８２は、円柱状をなし、第１電極部８０，８１と同一軸線Ｌｎ上に配置される。これにより、第１電極部８０，８１と第２電極部８２の軸方向端面８２ａのエッジ部との間で放電を行った場合、第２電極部８２の軸方向端面８２ａが均等に削られることとなるため、第２電極部８２を効率よく使用することができる。そのため、第２電極部８２の長寿命化に寄与することができる。
【００４７】
（３）第２電極部８２は、保持部材としてのピンプレート８４によって保持される。つまり、第２電極部８２がピンプレート８４によって保持されるため、第２電極部８２のメンテナンスを行う際に第２電極部８２のみを交換でき、メンテナンスを容易とすることができる。
【００４８】
（４）ピンプレート８４は、軸線Ｌｎ方向に貫通する貫通部としての貫通溝９１が形成されるものであり、第２電極部８２は、貫通溝９１に挿通固定される。そのため、ピンプレート８４により比較的簡易な構成にて円柱状の第２電極部８２を固定（保持）することができる。
【００４９】
（５）ピンプレート８４は、ミスト経路を構成する管路部材としてのスチーム案内管路４１（延出部８５）に着脱可能に設けられる。つまり、比較的小さな第２電極部８２のメンテナンス時においてピンプレート８４をスチーム案内管路４１から取り外すことができるため、例えばスチーム案内管路４１からピンプレート８４を外した後に柱状の第２電極部８２のメンテナンス（交換）が可能となり、メンテナンスを容易とすることができる。
【００５０】
（６）第１電極部８０，８１は、同一軸線Ｌｎ上に一対の電極を設けて構成され、第２電極部８２は、第１電極部８０，８１の一対の電極間に設けられる。このため、一対の電極部８０，８１にて第２電極部８２の軸方向両端面８２ａを効率よく使用することができ、金属微粒子の発生量を増やすことが可能となる。
【００５１】
尚、本発明の実施形態は、以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、第２電極部８２を円柱状に構成したが、これに限らず、例えば角柱状としてもよい。
【００５２】
また、図１０（ａ）（ｂ）に示すように、第２電極部１００を四角柱状の柱状部１０１と、その柱状部１０１を支持する支持部１０２とで構成してもよい。このような構成とすることで、第２電極部１００を板状部材から例えばプレス成形にて成形することができるため、容易な成形方法にて第２電極部１００を構成することができる。尚、この場合、柱状部１０１は、その軸方向長さＤ１が同一方向の支持部１０２の幅Ｄ２よりも長く形成することで、第２電極部１００の柱状部１０１と第１電極部との間で放電が行われる。そして、放電が行われると第１電極部の軸線Ｌｎ回りに環状に形成をなす第２電極部１００の端面１０１ａのエッジ部（外周）に沿って平均的に消耗が進行し、放電経路がその時々で変化しないため、放電部の放電を安定して行うことができる。これにより、金属微粒子を安定して生成することができる。
【００５３】
・上記実施形態では、第２電極部８２の軸中心を第１電極部８０，８１と同一軸線Ｌｎ上となるように配置したが、これに限らない。要は、第１電極部８０，８１の軸方向と第２電極部８２の軸方向とが沿った構成（若干の軸ずれや傾きを含む）であればよい。
【００５４】
・上記実施形態では、保持部材としてのピンプレート８４をスチーム案内管路４１の延出部８５に着脱可能に構成したが、これに限らず着脱不能、つまり一体形成であってもよい。
【００５５】
・上記実施形態では、第２電極部８２をピンプレート８４の貫通溝９１の下部に挿通固定される構成としたが、これに限らず、例えば、孔に第２電極部８２を挿通固定する等、その他の固定方法を採用してもよい。また、第２電極部８２とピンプレート８４とを一体形成してもよい。
【００５６】
・上記実施形態では、第１電極部８０，８１を２つ、つまり一対の電極を設けたが、電極部８０，８１を１つとしてもよい。
・上記実施形態では、放電部４３を１つ設けたが、２つ以上設けてもよい。
【００５７】
・上記実施形態では、スチーム（温ミスト）の経路であるスチーム案内管路４１にスチーム用放電部４３を設ける構成としたが、これに限らない。
・上記実施形態では、美顔器１０にて美容装置を構成したが、美顔器１０以外の美容装置に本発明を適用してもよい。
【符号の説明】
【００５８】
１０…美容装置としての美顔器、３１…ミスト発生機構及びミスト発生装置を構成するスチーム生成部、４１…ミスト経路及び管路部材としてのスチーム案内管路、４３…スチーム用放電部、８０，８１…第１電極部、８２…柱状部を構成する第２電極部、９１…貫通部としての貫通溝、１００…第２電極部、１０１…柱状部、Ｌｎ…軸線。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ミスト及び金属粒子を混合させて放出可能なミスト発生装置、及びそのミスト発生装置を備えた美容装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ミスト発生装置は、液体をヒータにて沸騰させて気化させたスチーム（温ミスト）や、超音波にて霧化させたミスト（冷ミスト）を顔などの人体に向けて放出することで、肌に潤いを与えるなどの美容効果やスキンケアを目的とした装置として用いられている。尚、ミストとは、前述のように液体を気化させたスチーム（温ミスト）や、液体を霧化させた冷ミスト等のことを指し、これ以降同様の意味として使用する。
【０００３】
特許文献１のミスト発生装置は、液体からミストを生成してミスト経路を介してミスト放出孔から放出させるように構成されたミスト発生機構と、ミスト経路内に設けられる一対の第１電極部（電極部）及びこの第１電極部間に配置される第２電極部（中間電極）から構成される放電部とで構成されている。そして、放電部の第１電極部及び第２電極部間で放電を行うことで金属微粒子が生成され、金属微粒子とミストとを混合させて放出されるようになっている。これにより、ミストによる肌の保湿効果と金属微粒子による肌の抗菌効果を同時に付与することができるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−２９４２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上記のようなミスト発生装置において、放電部によって放電を行う場合、第１電極部から最も近い第２電極部（中間電極）のエッジ部（端部）との間で放電経路が形成されることとなるため、そのエッジ部が徐々に削れて第２電極部が消耗していくこととなる。そのため、上記のようなミスト発生装置のように第１電極部の軸方向と第２電極部の軸方向とが直交する構成の場合、放電による消耗が例えば第２電極部の上端側のエッジ部の第１電極部と近い部位から下方向に偏って進行するため、放電経路のぶれ幅が大きく（放電が安定し難く）、この改善が望まれている。
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、放電部の放電を安定して行うことができるミスト発生装置、及びそのミスト発生装置を備えた美容装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、液体からミストを生成してミスト経路を介して外部に放出させるように構成されたミスト発生機構と、前記ミスト経路中に設けられる第１電極部及び該第１電極部に対向配置されるとともに金属微粒子を発生させるための第２電極部を有する放電部とを備え、前記ミスト発生機構によるミスト放出と前記放電部による放電による金属微粒子とが放出可能なミスト発生装置であって、前記第２電極部は、前記第１電極部との間で放電が行われる柱状をなす柱状部を有し、前記柱状部の軸方向が前記第１電極部の軸線に沿って配置されたことをその要旨とする。
【０００８】
この発明では、第２電極部は、第１電極部との間で放電が行われる柱状をなす柱状部を有し、柱状部の軸方向が第１電極部の軸線に沿って配置される。このような構成において、第２電極部の柱状部の端面エッジ部が第１電極部の軸線回りに環状をなすため、放電による第２電極部の消耗が環状をなすエッジ部に沿って平均的に進行し、放電経路がその時々で大きく変化せず、放電部の放電を安定して行うことができる。これにより、金属微粒子を安定して生成することができる。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のミスト発生装置において、前記第２電極部の前記柱状部は、円柱状をなし、前記第１電極部と同一軸線上に配置されたことをその要旨とする。
【００１０】
この発明では、第２電極部の柱状部は、円柱状をなし、第１電極部と同一軸線上に配置される。これにより、第１電極部と第２電極部の軸方向端面のエッジ部との間で放電を行った場合、第２電極部の軸方向端面が均等に削られることとなるため、第２電極部の柱状部を効率よく使用することができる。そのため、第２電極部の長寿命化に寄与することができる。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載のミスト発生装置において、前記第２電極部の前記柱状部は、別部材の保持部材によって保持されたことをその要旨とする。
この発明では、第２電極部の柱状部は、別部材の保持部材によって保持される。つまり、第２電極部の柱状部が保持部材によって保持されるため、第２電極部のメンテナンスを行う際に柱状部（第２電極部）のみを交換でき、メンテナンスを容易とすることができる。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載のミスト発生装置において、前記保持部材は、前記軸線方向に貫通する貫通部が形成されるものであり、前記第２電極部の前記柱状部は、前記貫通部に挿通固定されたことをその要旨とする。
【００１３】
この発明では、保持部材は、軸線方向に貫通する貫通部が形成されるものであり、第２電極部の柱状部は、貫通部に挿通固定される。そのため、保持部材により比較的簡易な構成にて第２電極部の柱状部を固定（保持）することができる。
【００１４】
請求項５に記載の発明は、請求項３又は４に記載のミスト発生装置において、前記保持部材は、前記ミスト経路を構成する管路部材に着脱可能に設けられたことをその要旨とする。
【００１５】
この発明では、保持部材は、ミスト経路を構成する管路部材に着脱可能に設けられる。つまり、第２電極部の比較的小さな柱状部をメンテナンス時において保持部材を外すことができるため、例えば管路部材から保持部材を外した後に柱状部のメンテナンス（交換）が可能となり、メンテナンスを容易とすることができる。
【００１６】
請求項６に記載の発明は、請求項１〜５のいずれか一項に記載のミスト発生装置において、前記第１電極部は、同一軸線上に一対の電極を設けて構成されるものであり、前記第２電極部は、前記第１電極部の一対の電極間に設けられたことをその要旨とする。
【００１７】
この発明では、第１電極部は、同一軸線上に一対の電極を設けて構成され、第２電極部は、第１電極部の一対の電極間に設けられる。このため、一対の電極にて第２電極部の軸方向両端面を効率よく使用することができ、金属微粒子の発生量を増やすことが可能となる。
【００１８】
請求項７に記載の発明は、請求項１〜６のいずれか一項に記載のミスト発生装置を備えた美容装置である。
この発明では、請求項１〜６のいずれか一項に記載のミスト発生装置を備えたことで、請求項１〜６のいずれか一項に記載の効果と同様の効果を奏することができる美容装置を提供できる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、放電部の放電を安定して行うことができるミスト発生装置、及びそのミスト発生装置を備えた美容装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本実施形態における美顔器を示す斜視図。
【図２】同美顔器を前後方向で切断し右側から見た断面図。
【図３】同美顔器を左右方向で切断し背面側から見た断面図。
【図４】同美顔器のマイナスイオン生成部部分の拡大断面図。
【図５】同美顔器の管路及び整流部部分の拡大断面図。
【図６】同美顔器の機能の概略構成を示すブロック図。
【図７】同美顔器の放電部の断面図。
【図８】同美顔器の放電部の断面図。
【図９】同美顔器の第２電極部の取り付け構造を説明するための斜視図。
【図１０】（ａ）（ｂ）は、別例における第２電極部を説明するための説明図。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図面に従って説明する。
図１は、本実施形態のミスト発生装置を備える美容装置としての美顔器１０を示す。有底略円筒状の本体ケース１１には美顔器本体１２が収容されて固定され、その本体ケース１１の開口部と面一をなす美顔器本体１２の上面にはノズル部１３及びスイッチ部１４が設置されている。ノズル部１３及びスイッチ部１４を有する美顔器本体１２の上面は、本体ケース１１に対し開閉可能（傾動可能）に取り付けられたメインカバー１５にて露出・隠蔽が可能とされている。
【００２２】
ノズル部１３は、美顔器本体１２の上面中央に設けられており、スチーム（温ミスト）を放出する一対のスチームノズル（温ミストノズル）２１ａ，２１ｂ、冷ミストを放出するミストノズル（冷ミストノズル）２２、及びマイナスイオンを放出するイオンノズル２３を有し、ミストノズル２２が左右方向中央位置に、スチームノズル２１ａがその右側に、スチームノズル２１ｂが左側に、そしてイオンノズル２３がミストノズル２２の上側にそれぞれ配置されている。尚、スチームノズル２１ａ及び２１ｂは、互いの間隔が例えば７０ｍｍに設定されている。
【００２３】
またスチームノズル２１ａ，２１ｂ、ミストノズル２２、及びイオンノズル２３の各放出方向は前側斜め上方の同一方向に向くように設定され、美顔器１０の前側と使用者と対向するように使用した時のその使用者の顔表面に向けて放出方向が向くように設定されている。また、このノズル部１３にもノズルカバー１６が開閉可能（傾動可能）に取り付けられ、その開閉にて各ノズル２１ａ，２１ｂ，２２，２３の露出・隠蔽が可能とされている。
【００２４】
また、ノズル部１３の手前右側には、スイッチ部１４として、それぞれ押しボタンスイッチにて構成される電源スイッチ２５、運転制御スイッチ２６、及びコース選択スイッチ２７が設けられている。電源スイッチ２５は、美顔器１０のオンオフ操作を行うものであり、運転制御スイッチ２６及びコース選択スイッチ２７は、その操作にて、スチームと冷ミストとを組み合わせて対象体に向けて放出するコースやスチームのみを放出するコースといった各種のコースの選択、及びその決定（動作開始）を行うものである。
【００２５】
また、ノズル部１３の左側には、美顔器本体１２の上面から凹設されてなるタンク収容部１７が設けられており、該タンク収容部１７内には、開口部と面一となるように給水タンク１８が着脱可能に収容されている。給水タンク１８は、使用者が美顔器１０から取り外しての給水が可能となっており、貯留した水からスチームや冷ミストのそれぞれの生成が行われる。
【００２６】
美顔器本体１２には、図２に示すように、スチーム発生機構を構成するスチーム生成部３１と、ミスト発生機構を構成するミスト生成部３２と、マイナスイオンを生成するマイナスイオン生成部３３が備えられている。
【００２７】
ミスト発生機構を構成するスチーム生成部３１は、美顔器本体１２の前側に備えられており、スチーム（温ミスト）を生成する。スチーム生成部３１は、駆動電流の供給に基づいて発熱しその発熱の自己制御機能を有する殺菌機構及び加熱装置としてのＰＴＣ（Positive Temperature Coefficient）ヒータ３５，３６を前側と後側にそれぞれ備え、給水タンク１８から給水管路１９を介してＰＴＣヒータ３５，３６内側のボイラ室３７内に供給された水を沸騰させてスチームの生成を行っている。因みに、前側のＰＴＣヒータ３５の外側面には、給水タンク１８から延びる給水管路１９の一部が当接させて配置されており、ボイラ室３７への流入の前に温められ該ボイラ室３７内で効率良くスチームが生成されるようになっている。尚、給水管路１９は、排水管路３８（図６参照）を介して美顔器１０の排水口３８ａに接続されており、排水スイッチの操作によって制御される排水管路３８上の止水弁３９にて美顔器１０内の排水を行うことが可能となっている。
【００２８】
ボイラ室３７の上部には、図２及び図３に示すように、生成したスチームを一対のスチームノズル２１ａ，２１ｂまで案内させるためのスチーム案内管路４１が接続されている。スチーム案内管路４１は、その途中に分岐部４２を有している。スチーム案内管路４１は、図５に示すように、分岐部４２から二股に分かれるように分岐部４２からスチームノズル２１ａまでを接続する第１案内管路４１ａと，分岐部４２からスチームノズル２１ｂまでを接続する第２案内管路４１ｂとを有し、第１案内管路４１ａの長さ（距離）Ｌ１及び第２案内管路４１ｂの長さ（距離）Ｌ２が等しくなるように構成されている。そのため、ボイラ室３７にて生成したスチームが分岐部４２から分かれて第１案内管路４１ａ及び第２案内管路４１ｂを通って各スチームノズル２１ａ，２１ｂまでそれぞれ案内される。そして、ボイラ室３７やスチーム案内管路４１内は高圧となるため、各スチームノズル２１ａ，２１ｂの放出孔からはある程度の勢いを以てスチームが放出されるようになっている。尚、スチームノズル２１ａ，２１ｂの放出孔の内径は例えば３．６ｍｍに設定されている。
【００２９】
また、スチーム案内管路４１の分岐部４２の若干手前位置には、スチーム用放電部４３が備えられている。スチーム用放電部４３は、自身の放電により、この放電部４３を通過するスチームをより微細化するとともに、放電を利用して金属微粒子（例えばＰｔなど）を発生させるものである。尚、スチーム用放電部４３については詳しく後述する。
【００３０】
スチーム用放電部４３の下流側で分岐部４２の直前位置には、整流機構としての整流部４４が備えられている。この整流部４４は、図５に示すように、スチーム案内管路４１内に中空形状の中空部としての円筒部４４ａと、該円筒部４４ａから延出形成されて円筒部４４ａを管路４１の径方向中心で支持する３本のリブ４４ｂとが設けられて構成されている。そして、放電部４３にて微細化したスチームが、その円筒部４４ａの内部及び３本のリブ４４ｂ間を通過する際に整流され、分岐部４２から先の各スチームノズル２１ａ，２１ｂに同量のスチームが分岐されるようなっている。尚、円筒部４４ａの内径は、スチームノズル２１ａ，２１ｂの放出孔の内径より大きく、且つ該放出孔の内径の１．５倍以下の大きさである例えば４．５ｍｍに設定されている。
【００３１】
ミスト生成部３２は、前記スチーム生成部３１よりも後側に備えられており、ベンチュリー効果を用いて冷ミストを生成する。給水タンク１８から延びる給水管路１９内の水は前記スチーム生成として利用される他に冷ミストとしても利用され、その給水管路１９からの水の一部をミストノズル２２まで送水する管路部材としての送水管路５１が備えられている。送水管路５１は、後側のＰＴＣヒータ３６の放熱面（垂直面）３６ａの平面（放熱面）方向に大きく３度蛇行（屈曲）して該放熱面３６ａに当接させて配置される管路部材としての当接管路５１ａを有している。尚、当接管路５１ａを蛇行させることで当接管路５１ａ内で液体の層流が抑制されるようになっている。
【００３２】
図２に示すように、送水管路５１の当接管路５１ａは、その全体が前記放熱面３６ａから離間されないように離間防止部材ＲＢにて放熱面３６ａ側に押し付け固定されている。更に、送水管路５１の当接管路５１ａは、図２に示すように、その径方向断面が楕円形状とされ、ＰＴＣヒータ３６の放熱面３６ａの平面（放熱面）方向に送水管路５１の断面の長手方向（図２において紙面上下方向）が沿うように配置されている。このように構成された当接管路５１ａの内部には、所定の水量（例えば所定コース中において放出するミスト量よりも多い水量）が保持されており、前記スチーム生成時の後側のＰＴＣヒータ３６の熱（余熱）により、冷ミスト用の水が例えば８０度、３０秒以上で殺菌処理されるようになっている。そのため、前記ミストノズル２２から放出される冷ミストは、美容に適した衛生状態が保たれている。
【００３３】
また、送水管路５１のミストノズル２２の直前位置にはその管内に濾過機構としてのフィルタ５２が装着されている。このフィルタ５２は、管路部材としての送水管路５１や当接管路５１ａ等で発生した水垢やゴミ、カスと、ミストを生成するための液体（水）自身に含まれるゴミやカスなどがミストノズル２２に流れ込むことを抑制させるものであり、このためミストノズル２２のつまりを抑えることができるため、ミストノズル２２からミストが安定して放出されるようになっている。そのため、本装置１０を使用するにあたって使用者の肌（顔面）に対して快適にミストをあて、美容効果（スキンケア効果）を高めることができる。
【００３４】
また、ミスト生成部３２として、美顔器本体１２内には空気圧送路５３が設けられており、該空気圧送路５３内には電動モータを駆動源としたポンプ５４の動作により空気の圧送が行われる。この圧送空気はミストノズル２２の放出孔に向けて供給され、放出孔手前で送水管路５１内の水と合流させることでベンチュリー効果が生じ、圧送空気とともに送水管路５１内の水が吸い出されて冷ミストが生成されて放出されるようになっている。
【００３５】
マイナスイオン生成部３３は、図２及び図４に示すようにノズル部１３内に備えられており、コロナ放電を発生させてマイナスイオンを生成する。イオン生成部３３は、ノズル部１３のイオンノズル２３に形成される収容凹部２３ａに、ユニット化されたマイナスイオン放電部６１が収容保持されてなる。イオン放電部６１は、その収容凹部２３ａに収容保持されるべく所定形状をなす電極ホルダ６２に対して針電極６３が支持されるとともに、針電極６３の先端側においてその針電極６３の軸線上に円環状の中心が位置するように円環状の対向電極６４が支持されて構成されている。針電極６３と対向電極６４とはそれぞれリード線６５が接続されて電極ホルダ６２から導出され、美顔器本体１２の上面近傍の制御回路基板７１に接続されている。
【００３６】
因みに、このイオン生成部３３（イオン放電部６１）では、針電極６３周りの空間Ｘ２は外部への開放のみで、その針電極６３周りの空間Ｘ２と美顔器本体１２内の空間Ｘ１とが仕切られている。これは、美顔器本体１２内の空間Ｘ１に設けられるシリコン素材を使用した部材（例えば送水管路５１の一部等）がＰＴＣヒータ３５，３６といった熱源にて加熱されるとその空間Ｘ１内にシリコンが浮遊し、この浮遊シリコンが針電極６３に付着するとコロナ放電の妨げとなりマイナスイオンの発生量が減少してしまうためであって、浮遊シリコンの針電極６３への付着が未然に防止されている。
【００３７】
制御回路基板７１は、電源コード７０（図１参照）にて外部から電源供給を受け、基板７１上に搭載される各種の回路部品よりなる制御回路７２の制御に基づいて、スチーム生成部３１、ミスト生成部３２、及びイオン生成部３３のそれぞれに動作電源を供給する。図５に示すように、制御回路７２は、電源スイッチ２５のオンオフ操作に基づいて美顔器１０の動作可能状態と及び停止状態との切り替えを行い、動作可能状態において運転制御スイッチ２６及びコース選択スイッチ２７の組み合わせ操作による各種使用コースの設定に基づいて、スチーム生成部３１（ＰＴＣヒータ３５，３６、スチーム用放電部４３等）と、ミスト生成部３２（ポンプ５４等）との動作を制御し、またイオン生成部３３（イオン放電部６１）を先の各生成部３１，３２の動作と合わせて動作させている。そのため、マイナスイオン及びスチーム（温ミスト）による美容効果やマイナスイオン及びミスト（冷ミスト）による美容効果を得ることができる。
【００３８】
そして、マイナスイオン生成時において、針電極６３に高電圧が印加されると、対向電極６４との電位差によって針電極６３の先端周囲にコロナ放電が発生し、マイナスイオンが発生する。発生したマイナスイオンは、針電極６３よりも低電位の対向電極６４に引き寄せられ、イオンノズル２３から外部に放出される。
【００３９】
次に、上記のように構成された美顔器１０の放電部としてのスチーム用放電部４３について図７〜９を用いて詳細に説明する。
図７に示すように、スチーム用放電部４３は、ミスト経路としてのスチーム案内管路４１内において放電を行うものであり、一対の第１電極部８０，８１と、この第１電極部８０，８１間に配置される柱状部としての第２電極部（中間電極部）８２とを備えている。
【００４０】
第１電極部８０，８１は、円柱状をなし（図９参照）、それぞれの軸中心が軸線Ｌｎ上、つまり同一軸線上となるように、スチーム案内管路４１に固定される電極ホルダ８３によって支持されている。尚、電極ホルダ８３は、その基端側（第１電極部８１，８２を支持している方向とは反対側）が図示しない防水パッキンにて防水されており、スチーム案内管路４１からスチーム（温ミスト）が流出することが防止されている。
【００４１】
また、第２電極部８２は、Ｐｔ含有の円柱状の金属部材にて構成されており、スチーム案内管路４１に固定される別部材からなる保持部材としてのピンプレート８４によって固定されている。
【００４２】
スチーム案内管路４１には、スチーム用放電部４３近傍の所定位置に、筒状のスチーム案内管路４１の筒状内側からスチーム案内管路４１の径方向内側に延出形成された延出部８５が設けられている。この延出部８５は、その一側面８５ａに突起部８５ｂが形成されるとともに、側面８５ａとは反対側の側面８５ｃにおいて前記延出方向に所定距離間隔を隔てて断面Ｌ字状の突起部８５ｄ，８５ｅが形成されている。
【００４３】
また、ピンプレート８４は、第１板部８４ａと第２板部８４ｂとが平行をなし、各板部８４ａ，８４ｂの一旦側において各板部８４ａ，８４ｂ間を接続する接続部８４ｃとで構成されている。第１板部８４ａは、第２板部８４ｂと比較して短く構成されており、第１板部８４ａの幅方向中央位置には前記延出部８５の突起部８５ｂと係合する係合孔９０が形成されている。また、第２板部８４ｂの接続部８４ｃとは反対側（図９において上側）の端部は、厚み方向に貫通するとともに前記端部側（上側）にかけて切り欠き形成される貫通部としての貫通溝９１が形成されている。またピンプレート８４は、延出部８５の下側から第１板部８４ａ及び第２板部８４ｂの前記接続部８４ｃとは反対の端部側（上側）を向けて取り付けられる様になっている。この時、前述したように延出部８５の突起部８５ｂとピンプレート８４の係合孔９０とが係合し、更に断面Ｌ字状の突起部８５ｄ，８５ｅが第２板部８４ｂをガイドするように着脱可能に取り付けられる。そして、第２板部８４ｂの貫通溝９１の下部には、第２電極部８２が挿通固定されるようになっている。また、貫通溝９１の下部は、ピンプレート８４を延出部８５に取り付けた際に第１電極部８０，８１の軸線Ｌｎと同一軸線上となるように設定されているため、第２電極部８２が第１電極部８０，８１と同一軸線Ｌｎ上に配置（各軸中心が一致して配置）されることとなる。
【００４４】
上記のように構成された美顔器１０においてスチーム用放電部４３にて放電を行う場合、円柱状をなす第２電極部８２の端面８２のエッジ部（端面８２ａの外周）が第１電極部８０，８１の軸線Ｌｎ回りに環状をなすため、放電による第２電極部８２の消耗が環状をなすエッジ部（端面８２ａの外周）に沿って平均的に進行し、放電経路がその時々で大きく変化せず、スチーム用放電部４３の放電を安定して行うことができる。これにより、金属微粒子を安定して生成することができる。また、第１電極部８０，８１にて第２電極部８２の両端面８２ａに対して放電を行うことができるため、金属微粒子の発生量を増やすことが可能となっている。
【００４５】
次に、本実施形態の特徴的な作用効果を記載する。
（１）第２電極部８２は、円柱状をなすとともに、第１電極部８０，８１との間で放電が行われ、第２電極部８２の軸方向（長手方向）が第１電極部８０，８１の軸線Ｌｎに沿って配置される。このような構成において、円柱状をなす第２電極部８２の端面８２ａのエッジ部（外周）が第１電極部８０，８１の軸線Ｌｎ回りに環状をなすため、放電による第２電極部８２の消耗が環状をなすエッジ部（端面８２ａの外周）に沿って平均的に進行し、放電経路がその時々で大きく変化せず、放電部４３の放電を安定して行うことができる。これにより、金属微粒子を安定して生成することができる。
【００４６】
（２）第２電極部８２は、円柱状をなし、第１電極部８０，８１と同一軸線Ｌｎ上に配置される。これにより、第１電極部８０，８１と第２電極部８２の軸方向端面８２ａのエッジ部との間で放電を行った場合、第２電極部８２の軸方向端面８２ａが均等に削られることとなるため、第２電極部８２を効率よく使用することができる。そのため、第２電極部８２の長寿命化に寄与することができる。
【００４７】
（３）第２電極部８２は、保持部材としてのピンプレート８４によって保持される。つまり、第２電極部８２がピンプレート８４によって保持されるため、第２電極部８２のメンテナンスを行う際に第２電極部８２のみを交換でき、メンテナンスを容易とすることができる。
【００４８】
（４）ピンプレート８４は、軸線Ｌｎ方向に貫通する貫通部としての貫通溝９１が形成されるものであり、第２電極部８２は、貫通溝９１に挿通固定される。そのため、ピンプレート８４により比較的簡易な構成にて円柱状の第２電極部８２を固定（保持）することができる。
【００４９】
（５）ピンプレート８４は、ミスト経路を構成する管路部材としてのスチーム案内管路４１（延出部８５）に着脱可能に設けられる。つまり、比較的小さな第２電極部８２のメンテナンス時においてピンプレート８４をスチーム案内管路４１から取り外すことができるため、例えばスチーム案内管路４１からピンプレート８４を外した後に柱状の第２電極部８２のメンテナンス（交換）が可能となり、メンテナンスを容易とすることができる。
【００５０】
（６）第１電極部８０，８１は、同一軸線Ｌｎ上に一対の電極を設けて構成され、第２電極部８２は、第１電極部８０，８１の一対の電極間に設けられる。このため、一対の電極部８０，８１にて第２電極部８２の軸方向両端面８２ａを効率よく使用することができ、金属微粒子の発生量を増やすことが可能となる。
【００５１】
尚、本発明の実施形態は、以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、第２電極部８２を円柱状に構成したが、これに限らず、例えば角柱状としてもよい。
【００５２】
また、図１０（ａ）（ｂ）に示すように、第２電極部１００を四角柱状の柱状部１０１と、その柱状部１０１を支持する支持部１０２とで構成してもよい。このような構成とすることで、第２電極部１００を板状部材から例えばプレス成形にて成形することができるため、容易な成形方法にて第２電極部１００を構成することができる。尚、この場合、柱状部１０１は、その軸方向長さＤ１が同一方向の支持部１０２の幅Ｄ２よりも長く形成することで、第２電極部１００の柱状部１０１と第１電極部との間で放電が行われる。そして、放電が行われると第１電極部の軸線Ｌｎ回りに環状に形成をなす第２電極部１００の端面１０１ａのエッジ部（外周）に沿って平均的に消耗が進行し、放電経路がその時々で変化しないため、放電部の放電を安定して行うことができる。これにより、金属微粒子を安定して生成することができる。
【００５３】
・上記実施形態では、第２電極部８２の軸中心を第１電極部８０，８１と同一軸線Ｌｎ上となるように配置したが、これに限らない。要は、第１電極部８０，８１の軸方向と第２電極部８２の軸方向とが沿った構成（若干の軸ずれや傾きを含む）であればよい。
【００５４】
・上記実施形態では、保持部材としてのピンプレート８４をスチーム案内管路４１の延出部８５に着脱可能に構成したが、これに限らず着脱不能、つまり一体形成であってもよい。
【００５５】
・上記実施形態では、第２電極部８２をピンプレート８４の貫通溝９１の下部に挿通固定される構成としたが、これに限らず、例えば、孔に第２電極部８２を挿通固定する等、その他の固定方法を採用してもよい。また、第２電極部８２とピンプレート８４とを一体形成してもよい。
【００５６】
・上記実施形態では、第１電極部８０，８１を２つ、つまり一対の電極を設けたが、電極部８０，８１を１つとしてもよい。
・上記実施形態では、放電部４３を１つ設けたが、２つ以上設けてもよい。
【００５７】
・上記実施形態では、スチーム（温ミスト）の経路であるスチーム案内管路４１にスチーム用放電部４３を設ける構成としたが、これに限らない。
・上記実施形態では、美顔器１０にて美容装置を構成したが、美顔器１０以外の美容装置に本発明を適用してもよい。
【符号の説明】
【００５８】
１０…美容装置としての美顔器、３１…ミスト発生機構及びミスト発生装置を構成するスチーム生成部、４１…ミスト経路及び管路部材としてのスチーム案内管路、４３…スチーム用放電部、８０，８１…第１電極部、８２…柱状部を構成する第２電極部、９１…貫通部としての貫通溝、１００…第２電極部、１０１…柱状部、Ｌｎ…軸線。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体からミストを生成してミスト経路を介して外部に放出させるように構成されたミスト発生機構と、前記ミスト経路中に設けられる第１電極部及び該第１電極部に対向配置されるとともに金属微粒子を発生させるための第２電極部を有する放電部とを備え、
前記ミスト発生機構によるミストと前記放電部による放電による金属微粒子とが放出可能なミスト発生装置であって、
前記第２電極部は、前記第１電極部との間で放電が行われる柱状をなす柱状部を有し、前記柱状部の軸方向が前記第１電極部の軸線に沿って配置されたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項２】
請求項１に記載のミスト発生装置において、
前記第２電極部の前記柱状部は、円柱状をなし、前記第１電極部と同一軸線上に配置されたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のミスト発生装置において、
前記第２電極部の前記柱状部は、別部材の保持部材によって保持されたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項４】
請求項３に記載のミスト発生装置において、
前記保持部材は、前記軸線方向に貫通する貫通部が形成されるものであり、
前記第２電極部の前記柱状部は、前記貫通部に挿通固定されたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項５】
請求項３又は４に記載のミスト発生装置において、
前記保持部材は、前記ミスト経路を構成する管路部材に着脱可能に設けられたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載のミスト発生装置において、
前記第１電極部は、同一軸線上に一対の電極を設けて構成されるものであり、
前記第２電極部は、前記第１電極部の一対の電極間に設けられたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のミスト発生装置を備えた美容装置。
【請求項１】
液体からミストを生成してミスト経路を介して外部に放出させるように構成されたミスト発生機構と、前記ミスト経路中に設けられる第１電極部及び該第１電極部に対向配置されるとともに金属微粒子を発生させるための第２電極部を有する放電部とを備え、
前記ミスト発生機構によるミストと前記放電部による放電による金属微粒子とが放出可能なミスト発生装置であって、
前記第２電極部は、前記第１電極部との間で放電が行われる柱状をなす柱状部を有し、前記柱状部の軸方向が前記第１電極部の軸線に沿って配置されたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項２】
請求項１に記載のミスト発生装置において、
前記第２電極部の前記柱状部は、円柱状をなし、前記第１電極部と同一軸線上に配置されたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のミスト発生装置において、
前記第２電極部の前記柱状部は、別部材の保持部材によって保持されたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項４】
請求項３に記載のミスト発生装置において、
前記保持部材は、前記軸線方向に貫通する貫通部が形成されるものであり、
前記第２電極部の前記柱状部は、前記貫通部に挿通固定されたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項５】
請求項３又は４に記載のミスト発生装置において、
前記保持部材は、前記ミスト経路を構成する管路部材に着脱可能に設けられたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載のミスト発生装置において、
前記第１電極部は、同一軸線上に一対の電極を設けて構成されるものであり、
前記第２電極部は、前記第１電極部の一対の電極間に設けられたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のミスト発生装置を備えた美容装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１０−１８７７６２（Ｐ２０１０−１８７７６２Ａ）
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−３２９６５（Ｐ２００９−３２９６５）
【出願日】平成２１年２月１６日（２００９．２．１６）
【出願人】（０００００５８３２）パナソニック電工株式会社 (17,916)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年２月１６日（２００９．２．１６）
【出願人】（０００００５８３２）パナソニック電工株式会社 (17,916)
【Ｆターム（参考）】
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