履物の本底及び履物
【課題】 立ち仕事などで立位姿勢を保持する場合に、足裏の疼痛や胼胝が発生しにくく、特にヒールの高い履物に適した本底を提供する。
【解決手段】 第２中足骨頭部と第３中足骨頭部に対応する部位に除圧部１を設けたことを特徴とする。
【解決手段】 第２中足骨頭部と第３中足骨頭部に対応する部位に除圧部１を設けたことを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、立ち仕事等で立位姿勢を保持する場合に、足裏の疼痛や胼胝が発生しにくく、また歩行時には歩きやすく且つ疲れにくい履物の本底、及び該本底を備えた履物に関する。
【背景技術】
【０００２】
立ち仕事などで立位姿勢を保持する場合に、例えば高さ３ｃｍ以上のヒールを備えた婦人用パンプス靴（以下、パンプス）のようなヒールの高い履物を着用すると、前足部よりも踵部が高いため、体重負荷が前足部に集中し、足骨格を保持する横アーチが消失して、特に圧力が集中する足裏の第２中足骨頭部と第３中足骨頭部に胼胝、及びそれに伴う疼痛が発生し、また歩行時には歩きにくくなるという問題が生じている。
【０００３】
足裏の胼胝の発生を防止するために、例えば特許文献１には、足の横アーチの骨格を保持する凸形状により当該部位を除圧する靴の中敷きを使用する技術が開示されている。
【０００４】
また、歩行時に歩きやすく且つ疲れにくくするために、特許文献２に記載された履物の本底では、硬質材料と軟質材料を上下二層を成すように組み合わせて爪先が屈曲しやすいようにしている。
【０００５】
さらに、特許文献３に記載された履物では、底面に第２趾部の付け根部分から第５趾部の付け根部分に沿って略Ｌ字形の溝を延設し、さらに底面における土踏まずの前縁に対応する部位に安定区域を形成するための横方向に延びる溝を設けることにより、前足部の屈曲性の向上を図っている。
【特許文献１】特開平０４−１８１２０６号公報
【特許文献２】実公平０２−２３１２６号公報
【特許文献３】実登平０５−４７２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
例えばパンプスのようなヒールの高い履物は、足に対する機能性よりも外観を重視するので、足骨格の横アーチを保持するために凹凸形状のついた靴中敷きや中底上面に設定される中足骨パッドを備えていると、中敷き部分に凹凸が見えて美的外観上好ましくないという問題が有る。従来、フラットな中敷き表面を呈しながら足裏の第２中足骨頭部と第３中足骨頭部に集中する圧力を減じる有効な手段は存在しなかった。
【０００７】
また、歩行時における中足趾節関節部の運動は、踵接地時に軽度背屈、足底接地時に中間位、踏み切り時に最大背屈するのが生理的であるが、この底屈背屈運動をできる限り阻害しない靴が理想的である。
【０００８】
スポーツ用の靴では、本底の中足趾節関節部が屈曲しやすいように、本底の全体または一部に軟質材料を用いたものが存在するが、例えば高さ３ｃｍ以上のヒールを備えた婦人用パンプス靴（以下、パンプスと記す）のようなヒールの高い履物では見当たらない。これは、本底の中足趾節関節部が屈曲しやすいという機能性よりも美的外観を優先していることによる。
【０００９】
従来、例えばパンプスのようなヒールの高い履物は、中足趾節関節を屈曲しやすくして歩行に適するように設計されておらず、ファッションの一部として見せるためのものありながら、実際には、様々な場面で使用され、中足趾節関節部が屈曲しづらいため、踵が脱け出たり、運動力伝達効率が悪くて疲れやすい等の問題が生じていた。
【００１０】
本発明は上記事情に鑑みて創案されたものであり、その目的は、立ち仕事などで立位姿勢を保持する場合に、足裏の疼痛や胼胝が発生しにくく、特にヒールの高い履物に適した本底、及び該本底を備えた履物を提供することにある。
【００１１】
また、本発明の他の目的は、歩行時に歩きやすく且つ疲れにくく、特にヒールの高い履物に適した履物の本底、及び該本底を備えた履物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、第１の発明は、第２中足骨頭部と第３中足骨頭部に対応する部位に除圧部を設けたことを特徴とする履物の本底である。
【００１３】
また、第２の発明は、第１の発明において、歩行時に中足趾節関節部が生理的屈曲方向へ補助誘導されるように屈曲誘導溝を設けたことを特徴とする。
【００１４】
また、第３の発明は、第１又は第２の発明の本底を備えたことを特徴とする履物である。
【００１５】
また、第４の発明は、第３の発明において、ヒールの高さが３ｃｍ以上であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の本底によれば、第２中足骨頭部と第３中足骨頭部に対応する部位に除圧部を設けたことにより、立ち仕事などで立位姿勢を保持する場合に足裏の第２中足骨頭部と第３中足骨頭部に圧力が集中せず、当該部位に胼胝が発生しにくくなる。また、中敷き表面を凹凸が無いフラットにすることができるため、美的外観を向上させることができる。
【００１７】
また、歩行時に中足趾節関節部が生理的屈曲方向へ補助誘導されるように屈曲誘導溝を設けることにより、歩きやすく且つ疲れにくくなる。
【００１８】
また、上記のような構造的特徴の本底を備えた履物は、立ち仕事などで立位姿勢を保持する場合に足裏の第２中足骨頭部と第３中足骨頭部に胼胝が発生しにくくなり、中敷き表面を凹凸が無いフラットにすることができるため、美的外観が向上する。また歩行時における足の生理的な運動を阻害せず、歩行時に歩きやすく且つ疲れにくくなる。
【００１９】
このような効果は、特に、ヒールの高さが３ｃｍ以上の履物において顕著となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の第１の実施形態を図面に基づいて説明する。図１は本発明の第１の実施形態である靴の本底（左足用）の底面図、図２は左足の中足趾節関節部と図１の本底との位置関係を示す横断面図、図３は図１の本底と左足の底面側から見た骨格との位置関係を示す図、図４は図１の本底を使用したパンプスを斜め下方から見た斜視図である。
【００２１】
例えばパンプスのように前足部よりも踵部の方が高くなっていると、体重負荷は前足部に集中して足骨格を保持する横アーチが消失するため、本来体重を受ける骨形態になっていない第２中足骨頭部６（図３参照）と第３中足骨頭部７（図３参照）に圧力が集中するので、生体防御反応として当該部位に胼胝を生じ、疼痛の発生や歩きにくくなるといった問題がある。
【００２２】
このため第２中足骨頭部６と第３中足骨頭部７において、体重負荷に対する地面からの反作用としての圧力を集中させないため、本実施形態では、図２のように、本底の負荷支持部３で体重負荷を受け、本底の第２中足骨頭部６と第３中足骨頭部７に対応する部位に窪み状の除圧部１を設けて地面８に接しないようにして、当該部位を除圧するようにしている。
【００２３】
このようにすると、胼胝を生じにくくするだけでなく、他の履物を長期間使用することによって既に生じている胼胝を改善することができ、これに伴う疼痛を軽減させることができる。
【００２４】
なお、除圧部１が体重負荷によって変形すると第２中足骨頭部６と第３中足骨頭部７に直接的に圧力が付加されることになるので、これを防止するために本底は硬質材料を用いて変形を防止する。
【００２５】
歩行時の踏み切り時には中足趾節関節部９（図３参照）が屈曲して歩行推進力を地面に伝達するが、本底に硬質材料を用いていることによって屈曲しづらいと運動伝達効率が低下する。そこで、図１および図３のように、中足趾節関節部９に対応する部位に、除圧部１に連続する屈曲誘導溝２を設けることによって、エネルギー効率の良い歩行を得ることができる。
【００２６】
ところで、例えばパンプスのようなヒールの高い履物は、足に対する機能性よりも外観を重視するので、足骨格の横アーチを保持するために凹凸形状のついた靴中敷きや中底上面に設定される中足骨パッドを備えていると、中敷き部分に凹凸が見えて美的外観上好ましくないとされる。
【００２７】
従来、フラットな中敷き表面を呈しながら足裏の第２中足骨頭部６と第３中足骨頭部７に集中する圧力を減じる有効な手段は存在しなかったが、本発明の本底を使用することにより、当該部位を除圧できるため、中敷き表面の凹凸を無くしてフラットにすることができ、美的外観が良い履物を提供することができる。
【００２８】
以上の効果を得るために、図１乃至図３に示す例では、本底には硬度７５乃至８５程度の材料を用い、各部位が一体形成されることが、強度および外観上好ましい。また、表面には滑り止めのためにエンボス加工等をしても良い。
【００２９】
除圧部１は深さ１乃至３ｍｍ程度の窪み形状で、前縁は傾斜面で前部に連なっており、この除圧部１に連続する深さ１乃至２ｍｍ程度の屈曲誘導溝２を設けて、歩行時における中足趾節関節部９の屈曲を補助誘導する。
【００３０】
本底の素材は、ゴム、発泡ラテックスなど、靴の本底に通常用いられている素材で良い。
【００３１】
本実施形態の本底は板状で、前部４、負荷支持部３、及び後部５は一様の厚みを持ち、パンプス用には３乃至５ｍｍ程度、婦人用カジュアルシューズもしくは紳士靴用には５乃至１５ｍｍ程度の厚さとするのが好ましい。
【００３２】
図４は本発明の本底を用いたパンプスの例であるが、図３のように、除圧部１は第２中足骨頭部６と第３中足骨頭部４に対応する部位に、また屈曲誘導溝２は中足趾節関節部９に対応する部位に設定するため、履物のサイズに応じて本底の大きさも適切に増減させることが必要である。
【００３３】
図３のように、除圧部１は、第２中足骨頭部６と第３中足骨頭部７が除圧される位置に設けられ、また屈曲誘導溝２は中足趾節関節部９をカバーして屈曲を補助誘導する位置に設けられているため、この履物を着用することにより、立位保持時および歩行時に胼胝の発生を防止し、これに伴う疼痛を軽減させると共に、歩行時には歩きやすく且つ疲れにくい。
【００３４】
このような効果は、特に、ヒールの高さが３ｃｍ以上の履物において顕著となる。
【００３５】
次に、本発明の第２の実施形態を説明する。図５は本発明の第２の実施形態である靴の本底（左足用）の底面図である。
【００３６】
本実施形態では、深さ０．５乃至１ｍｍ程度の近位中足趾節関節屈曲誘導溝１０及び遠位中足趾節関節屈曲誘導溝１１を設けて、中足趾節関節部９の屈曲を補助誘導する。また、深さ０．５乃至１ｍｍ程度の近位母趾屈曲誘導溝１２及び遠位母趾屈曲誘導溝１３を設けて、母趾部の屈曲を補助誘導する。
【００３７】
このようにすると、踏み切り時に中足趾節関節部９がより屈曲しやすくなり、歩行推進力の伝達効率が向上するため、エネルギー効率が良くなり、歩行速度が上がっても、より歩きやすく且つ疲れにくくなる。
【００３８】
なお、上記実施形態では、先端部に丸みを持たせた形状の本底及び履物を例に挙げて説明したが、先端部が尖った形状のもの等、いかなる形状のものにも本発明を適用することができる。その他にも、本発明の要旨を逸脱しない範囲で上記実施形態に種々の改変を施すことができる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の第１の実施形態である靴の本底（左足用）の底面図である。
【図２】左足の中足趾節関節部と図１の本底との位置関係を示す横断面図である。
【図３】図１の本底と左足の底面側から見た骨格との位置関係を示す図である。
【図４】図１の本底を使用したパンプスの斜め下方から見た斜視図である。
【図５】本発明の第２の実施形態である靴の本底（左足用）の底面図である。
【符号の説明】
【００４０】
１ 除圧部
２ 屈曲誘導溝
３ 負荷支持部
４ 前部
５ 後部
６ 第２中足骨頭部
７ 第３中足骨頭部
９ 中足趾節関節部
１０ 近位中足趾節関節屈曲誘導溝
１１ 遠位中足趾節関節屈曲誘導溝
１２ 近位母趾屈曲誘導溝
１３ 遠位母趾屈曲誘導溝
【技術分野】
【０００１】
本発明は、立ち仕事等で立位姿勢を保持する場合に、足裏の疼痛や胼胝が発生しにくく、また歩行時には歩きやすく且つ疲れにくい履物の本底、及び該本底を備えた履物に関する。
【背景技術】
【０００２】
立ち仕事などで立位姿勢を保持する場合に、例えば高さ３ｃｍ以上のヒールを備えた婦人用パンプス靴（以下、パンプス）のようなヒールの高い履物を着用すると、前足部よりも踵部が高いため、体重負荷が前足部に集中し、足骨格を保持する横アーチが消失して、特に圧力が集中する足裏の第２中足骨頭部と第３中足骨頭部に胼胝、及びそれに伴う疼痛が発生し、また歩行時には歩きにくくなるという問題が生じている。
【０００３】
足裏の胼胝の発生を防止するために、例えば特許文献１には、足の横アーチの骨格を保持する凸形状により当該部位を除圧する靴の中敷きを使用する技術が開示されている。
【０００４】
また、歩行時に歩きやすく且つ疲れにくくするために、特許文献２に記載された履物の本底では、硬質材料と軟質材料を上下二層を成すように組み合わせて爪先が屈曲しやすいようにしている。
【０００５】
さらに、特許文献３に記載された履物では、底面に第２趾部の付け根部分から第５趾部の付け根部分に沿って略Ｌ字形の溝を延設し、さらに底面における土踏まずの前縁に対応する部位に安定区域を形成するための横方向に延びる溝を設けることにより、前足部の屈曲性の向上を図っている。
【特許文献１】特開平０４−１８１２０６号公報
【特許文献２】実公平０２−２３１２６号公報
【特許文献３】実登平０５−４７２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
例えばパンプスのようなヒールの高い履物は、足に対する機能性よりも外観を重視するので、足骨格の横アーチを保持するために凹凸形状のついた靴中敷きや中底上面に設定される中足骨パッドを備えていると、中敷き部分に凹凸が見えて美的外観上好ましくないという問題が有る。従来、フラットな中敷き表面を呈しながら足裏の第２中足骨頭部と第３中足骨頭部に集中する圧力を減じる有効な手段は存在しなかった。
【０００７】
また、歩行時における中足趾節関節部の運動は、踵接地時に軽度背屈、足底接地時に中間位、踏み切り時に最大背屈するのが生理的であるが、この底屈背屈運動をできる限り阻害しない靴が理想的である。
【０００８】
スポーツ用の靴では、本底の中足趾節関節部が屈曲しやすいように、本底の全体または一部に軟質材料を用いたものが存在するが、例えば高さ３ｃｍ以上のヒールを備えた婦人用パンプス靴（以下、パンプスと記す）のようなヒールの高い履物では見当たらない。これは、本底の中足趾節関節部が屈曲しやすいという機能性よりも美的外観を優先していることによる。
【０００９】
従来、例えばパンプスのようなヒールの高い履物は、中足趾節関節を屈曲しやすくして歩行に適するように設計されておらず、ファッションの一部として見せるためのものありながら、実際には、様々な場面で使用され、中足趾節関節部が屈曲しづらいため、踵が脱け出たり、運動力伝達効率が悪くて疲れやすい等の問題が生じていた。
【００１０】
本発明は上記事情に鑑みて創案されたものであり、その目的は、立ち仕事などで立位姿勢を保持する場合に、足裏の疼痛や胼胝が発生しにくく、特にヒールの高い履物に適した本底、及び該本底を備えた履物を提供することにある。
【００１１】
また、本発明の他の目的は、歩行時に歩きやすく且つ疲れにくく、特にヒールの高い履物に適した履物の本底、及び該本底を備えた履物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、第１の発明は、第２中足骨頭部と第３中足骨頭部に対応する部位に除圧部を設けたことを特徴とする履物の本底である。
【００１３】
また、第２の発明は、第１の発明において、歩行時に中足趾節関節部が生理的屈曲方向へ補助誘導されるように屈曲誘導溝を設けたことを特徴とする。
【００１４】
また、第３の発明は、第１又は第２の発明の本底を備えたことを特徴とする履物である。
【００１５】
また、第４の発明は、第３の発明において、ヒールの高さが３ｃｍ以上であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の本底によれば、第２中足骨頭部と第３中足骨頭部に対応する部位に除圧部を設けたことにより、立ち仕事などで立位姿勢を保持する場合に足裏の第２中足骨頭部と第３中足骨頭部に圧力が集中せず、当該部位に胼胝が発生しにくくなる。また、中敷き表面を凹凸が無いフラットにすることができるため、美的外観を向上させることができる。
【００１７】
また、歩行時に中足趾節関節部が生理的屈曲方向へ補助誘導されるように屈曲誘導溝を設けることにより、歩きやすく且つ疲れにくくなる。
【００１８】
また、上記のような構造的特徴の本底を備えた履物は、立ち仕事などで立位姿勢を保持する場合に足裏の第２中足骨頭部と第３中足骨頭部に胼胝が発生しにくくなり、中敷き表面を凹凸が無いフラットにすることができるため、美的外観が向上する。また歩行時における足の生理的な運動を阻害せず、歩行時に歩きやすく且つ疲れにくくなる。
【００１９】
このような効果は、特に、ヒールの高さが３ｃｍ以上の履物において顕著となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の第１の実施形態を図面に基づいて説明する。図１は本発明の第１の実施形態である靴の本底（左足用）の底面図、図２は左足の中足趾節関節部と図１の本底との位置関係を示す横断面図、図３は図１の本底と左足の底面側から見た骨格との位置関係を示す図、図４は図１の本底を使用したパンプスを斜め下方から見た斜視図である。
【００２１】
例えばパンプスのように前足部よりも踵部の方が高くなっていると、体重負荷は前足部に集中して足骨格を保持する横アーチが消失するため、本来体重を受ける骨形態になっていない第２中足骨頭部６（図３参照）と第３中足骨頭部７（図３参照）に圧力が集中するので、生体防御反応として当該部位に胼胝を生じ、疼痛の発生や歩きにくくなるといった問題がある。
【００２２】
このため第２中足骨頭部６と第３中足骨頭部７において、体重負荷に対する地面からの反作用としての圧力を集中させないため、本実施形態では、図２のように、本底の負荷支持部３で体重負荷を受け、本底の第２中足骨頭部６と第３中足骨頭部７に対応する部位に窪み状の除圧部１を設けて地面８に接しないようにして、当該部位を除圧するようにしている。
【００２３】
このようにすると、胼胝を生じにくくするだけでなく、他の履物を長期間使用することによって既に生じている胼胝を改善することができ、これに伴う疼痛を軽減させることができる。
【００２４】
なお、除圧部１が体重負荷によって変形すると第２中足骨頭部６と第３中足骨頭部７に直接的に圧力が付加されることになるので、これを防止するために本底は硬質材料を用いて変形を防止する。
【００２５】
歩行時の踏み切り時には中足趾節関節部９（図３参照）が屈曲して歩行推進力を地面に伝達するが、本底に硬質材料を用いていることによって屈曲しづらいと運動伝達効率が低下する。そこで、図１および図３のように、中足趾節関節部９に対応する部位に、除圧部１に連続する屈曲誘導溝２を設けることによって、エネルギー効率の良い歩行を得ることができる。
【００２６】
ところで、例えばパンプスのようなヒールの高い履物は、足に対する機能性よりも外観を重視するので、足骨格の横アーチを保持するために凹凸形状のついた靴中敷きや中底上面に設定される中足骨パッドを備えていると、中敷き部分に凹凸が見えて美的外観上好ましくないとされる。
【００２７】
従来、フラットな中敷き表面を呈しながら足裏の第２中足骨頭部６と第３中足骨頭部７に集中する圧力を減じる有効な手段は存在しなかったが、本発明の本底を使用することにより、当該部位を除圧できるため、中敷き表面の凹凸を無くしてフラットにすることができ、美的外観が良い履物を提供することができる。
【００２８】
以上の効果を得るために、図１乃至図３に示す例では、本底には硬度７５乃至８５程度の材料を用い、各部位が一体形成されることが、強度および外観上好ましい。また、表面には滑り止めのためにエンボス加工等をしても良い。
【００２９】
除圧部１は深さ１乃至３ｍｍ程度の窪み形状で、前縁は傾斜面で前部に連なっており、この除圧部１に連続する深さ１乃至２ｍｍ程度の屈曲誘導溝２を設けて、歩行時における中足趾節関節部９の屈曲を補助誘導する。
【００３０】
本底の素材は、ゴム、発泡ラテックスなど、靴の本底に通常用いられている素材で良い。
【００３１】
本実施形態の本底は板状で、前部４、負荷支持部３、及び後部５は一様の厚みを持ち、パンプス用には３乃至５ｍｍ程度、婦人用カジュアルシューズもしくは紳士靴用には５乃至１５ｍｍ程度の厚さとするのが好ましい。
【００３２】
図４は本発明の本底を用いたパンプスの例であるが、図３のように、除圧部１は第２中足骨頭部６と第３中足骨頭部４に対応する部位に、また屈曲誘導溝２は中足趾節関節部９に対応する部位に設定するため、履物のサイズに応じて本底の大きさも適切に増減させることが必要である。
【００３３】
図３のように、除圧部１は、第２中足骨頭部６と第３中足骨頭部７が除圧される位置に設けられ、また屈曲誘導溝２は中足趾節関節部９をカバーして屈曲を補助誘導する位置に設けられているため、この履物を着用することにより、立位保持時および歩行時に胼胝の発生を防止し、これに伴う疼痛を軽減させると共に、歩行時には歩きやすく且つ疲れにくい。
【００３４】
このような効果は、特に、ヒールの高さが３ｃｍ以上の履物において顕著となる。
【００３５】
次に、本発明の第２の実施形態を説明する。図５は本発明の第２の実施形態である靴の本底（左足用）の底面図である。
【００３６】
本実施形態では、深さ０．５乃至１ｍｍ程度の近位中足趾節関節屈曲誘導溝１０及び遠位中足趾節関節屈曲誘導溝１１を設けて、中足趾節関節部９の屈曲を補助誘導する。また、深さ０．５乃至１ｍｍ程度の近位母趾屈曲誘導溝１２及び遠位母趾屈曲誘導溝１３を設けて、母趾部の屈曲を補助誘導する。
【００３７】
このようにすると、踏み切り時に中足趾節関節部９がより屈曲しやすくなり、歩行推進力の伝達効率が向上するため、エネルギー効率が良くなり、歩行速度が上がっても、より歩きやすく且つ疲れにくくなる。
【００３８】
なお、上記実施形態では、先端部に丸みを持たせた形状の本底及び履物を例に挙げて説明したが、先端部が尖った形状のもの等、いかなる形状のものにも本発明を適用することができる。その他にも、本発明の要旨を逸脱しない範囲で上記実施形態に種々の改変を施すことができる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の第１の実施形態である靴の本底（左足用）の底面図である。
【図２】左足の中足趾節関節部と図１の本底との位置関係を示す横断面図である。
【図３】図１の本底と左足の底面側から見た骨格との位置関係を示す図である。
【図４】図１の本底を使用したパンプスの斜め下方から見た斜視図である。
【図５】本発明の第２の実施形態である靴の本底（左足用）の底面図である。
【符号の説明】
【００４０】
１ 除圧部
２ 屈曲誘導溝
３ 負荷支持部
４ 前部
５ 後部
６ 第２中足骨頭部
７ 第３中足骨頭部
９ 中足趾節関節部
１０ 近位中足趾節関節屈曲誘導溝
１１ 遠位中足趾節関節屈曲誘導溝
１２ 近位母趾屈曲誘導溝
１３ 遠位母趾屈曲誘導溝
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第２中足骨頭部と第３中足骨頭部に対応する部位に除圧部を設けたことを特徴とする履物の本底。
【請求項２】
歩行時に中足趾節関節部が生理的屈曲方向へ補助誘導されるように屈曲誘導溝を設けたことを特徴とする請求項１記載の履物の本底。
【請求項３】
請求項１又は請求項２記載の本底を備えたことを特徴とする履物。
【請求項４】
ヒールの高さが３ｃｍ以上であることを特徴とする請求項３記載の履物。
【請求項１】
第２中足骨頭部と第３中足骨頭部に対応する部位に除圧部を設けたことを特徴とする履物の本底。
【請求項２】
歩行時に中足趾節関節部が生理的屈曲方向へ補助誘導されるように屈曲誘導溝を設けたことを特徴とする請求項１記載の履物の本底。
【請求項３】
請求項１又は請求項２記載の本底を備えたことを特徴とする履物。
【請求項４】
ヒールの高さが３ｃｍ以上であることを特徴とする請求項３記載の履物。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００６−１９８０８４（Ｐ２００６−１９８０８４Ａ）
【公開日】平成１８年８月３日（２００６．８．３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−１１７５７（Ｐ２００５−１１７５７）
【出願日】平成１７年１月１９日（２００５．１．１９）
【出願人】（５９１０２５９０１）株式会社村井 (18)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年８月３日（２００６．８．３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１月１９日（２００５．１．１９）
【出願人】（５９１０２５９０１）株式会社村井 (18)
【Ｆターム（参考）】
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