最適化されたイオン排出を備えるヘアケア装置
本発明は、グリップ(3)と、このグリップ(3)に接続可能であり、特にブラシの毛部分及び/又は歯の部分であるヘアトリートメント器具(5)を有する機能ヘッド(4)と、イオンを髪に供給し、少なくとも1つのイオン出口(11)を有するイオン供給装置(9)と、を備えるヘアケア装置(1)に関する。本発明に基づき、このヘアケア装置(1)は、ヘアトリートメント器具(5)の反対側の装置背面(8)と、髪にイオンを供給するためのイオン供給装置(9)と、を有し、このイオン供給装置(9)が少なくとも1つのスイッチユニット、イオン源、イオン出口(11)及びイオン出口(11)を取り囲むスリーブを有していることを特徴とし、このヘアケア装置(1)は、イオン出口周辺において、ハウジング部に配置され、電子電荷を消散させる/制限する接地面を更に備え、イオン源は、接地面の電位レベルに対して、−10〜−3KVの電位レベルをもち、スリーブは、接地面の電位レベルに対して、−2.5〜−1KV又はイオン源の電位レベルの20%〜50%の電位レベルをもち、装置背面(8)は、接地面の電位レベルに対して、−500〜−100V又はイオン源の電位レベルの2%〜10%の電位レベルをもつ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、グリップと、このグリップに接続可能であり、特に毛の部分及び/又は歯の部分であるヘアトリートメント器具を有する機能ヘッドと、イオンを髪に供給し、少なくとも1つのイオン出口を有するイオン供給装置と、を備えるヘアケア装置に関する。
【背景技術】
【0002】
近年においては、特にヘアブラシなどのヘアケア装置が、その第1の機能、すなわち、ヘアブラシの場合は髪をとかすこと、ブラッシング及びスタイリングといった機能の他に、追加用途としてイオンを供給することが知られている。この種のイオンは、通常マイナス電子を帯電している分子である。このようなイオンの適用によって、髪及びヘアケアが改善され、特に、髪が静電気に帯電するのを抑え、それによって髪が逆立つのを予防する。
【0003】
US 2005/285595から、ヘアブラシの毛部分とは反対側の装置背面及び毛の部分の装置前面に、機能ヘッドの方向にイオンを流出させるイオン出口をそれぞれ1つ有する一体型ブラシヘッドを備えたヘアブラシ又はヘアドライヤーが周知である。
【0004】
イオンを利用するこのようなヘアケア装置の場合、一方では、もちろんイオンが適切に髪に供給されるべきであり、他方では、イオンがムラなく、可能な限り均等に配分されるように髪に当てられなければならない。この場合、イオンの流出は、イオン出口の前にある髪の毛又は経路を塞いでいるユーザーの手など、直接の機械的障害によって停止するばかりではなく、静電気フィールド、すなわち、強くマイナスに帯電したイオンをいわば拒絶する、マイナスに帯電した構成部品、又はイオンを引きつける電界作用を有するプラス電荷の高い構成部品によっても停止することがある。このような帯電は、例えば、ブラシの毛で髪をとかした場合に、ブラシの毛自体に生じる。また、イオン出口部分においても、静電気のフィールドが装置ハウジングに形成され、この静電気フィールドはイオンの流出を妨げるおそれがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】US 2005/285595
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
前述のような周知のヘアケア装置で、更に改善しなければならない点は、前述のような、装置への強い帯電によって侵害される可能性のある使用安全性である。
【0007】
これらのことを前提として、本発明は、前述した種類のヘアケア装置を改善し、先行技術の欠点を回避して、有利な方法で先行技術を発展させるという課題に基づいている。とりわけ、髪へのイオンの放出は、簡単な方法によって、均等かつ効果的に行われるべきであるが、その際に装置の使用安全性に支障をきたしてはならない。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本課題は、本発明に基づき、請求項1によるヘアケア装置によって解決される。好ましい発明の実施形態は、従属請求項の対象である。
【0009】
髪へのイオンの放出を妨げるか、又はイオンの放出に支障をきたす可能性のある、少なくともヘアケア装置の部品に発生する静電気の帯電及び静電気フィールドは、適切な対抗措置により取り除くことができることも提案される。このような静電気フィールドによって支障を受けることなく、均等に配分され、しかも適切かつ効果的な髪へのイオン散布が、単純な形態をもつイオン供給装置によって達成可能であり、本発明の簡単な形態においては、このイオン散布を唯一のイオン出口だけで済ませることができる。本発明に基づき、このヘアケア装置は、ヘアトリートメント器具の反対側の装置背面と、イオンを髪に供給するためのイオン供給装置と、を有し、このイオン供給装置は、少なくとも1つのスイッチユニット、イオン源、イオン出口及びイオン出口を取り囲むスリーブを有していることを特徴とし、このヘアケア装置は、イオン出口周辺において、ハウジング部に配置され、電子電荷を消散させる/制限する接地面を更に備え、イオン源は、接地面の電位レベルに対して、−10〜−3KVの電位レベルをもち、スリーブは、接地面の電位レベルに対して、−2.5〜−1KV又はイオン源の電位レベルの20%〜50%の電位レベルをもち、装置背面は、接地面の電位レベルに対して、−500〜−100V又はイオン源の電位レベルの2%〜10%の電位レベルをもつ。
【0010】
ヘアケア装置の種類に応じて、イオン源は、接地面の電位レベルに対して、マイナス(−)10キロボルト(KV)〜−8KV又は−8KV〜−6KV又は−6KV〜−3KVの範囲から電位レベルを選択することもできる。
【0011】
イオン出口を取り囲むスリーブは、様々な形で実施することができる。例えば、シリンダー形又は漏斗形のスリーブなどにすることができる。スリーブが極めて優れた導電体である場合、スリーブは接触する接地面の電位レベルをほとんど受け入れ、また、スリーブが導電性の悪い導電体である場合、スリーブは接地が接触しているにもかかわらず、部分的に帯電することができるが、その帯電は接触している接地によって制限される。このスリーブは、接地面の電位レベルに対して、マイナス(−)2.5キロボルト(KV)〜−2KV又は−2KV〜−1.5KV又は−1.5KV〜−1KVの範囲から電位レベルを選択することができる。スリーブの電位レベルは、イオン源の電位レベルと適合させるべきであろう。スリーブの電位レベルは、イオン源の電位レベルの50%〜40%又は40%〜30%又は30%〜20%の範囲から電位レベルを選択することができる。
【0012】
ハウジング背面は、同様に様々な形で実施することができる。ハウジング背面が極めて優れた導電体である場合、ハウジング背面は接触する接地面の少なくともほとんどの電位レベルを受け入れ、また、ハウジング背面が導電性の悪い導電体である場合、ハウジング背面は接地面が接触しているにもかかわらず、部分的に帯電することができるが、その帯電は接触している接地によって制限される。このハウジング背面は、接地面の電位レベルに対して、マイナス(−)500ボルト(V)〜−300V又は−300V〜−200V又は−200V〜−100Vの範囲から電位レベルを選択することができる。ハウジング背面の電位レベルは、イオン源の電位レベルと適合させるべきであろう。ハウジング背面の電位レベルは、イオン源の電位レベルの10%〜8%又は8%〜5%又は5%〜2%の範囲から電位レベルを選択することができる。
【0013】
非導電性又は少なくとも導電性のよくないハウジング部(ハウジング背面又はスリーブ)の場合、ハウジング部の電位レベルは、様々な場所で異なっていることがある。そのため、電位レベルは、構成部品の外面で決定するのがもっとも良い。本発明においては、構成部品外面上のイオン流側の箇所で、電位レベルが上記の範囲にあれば十分である。したがって、この電位レベルは、構成部品の電位レベルとして有効とすることができる。
【0014】
最適な電位レベルは、ヘアケア装置の接地面を配分し、特に導電性能に関して材料を選択することによって、制御することができる。
【0015】
この場合、接地面、すなわち、第1の接地面、第2の接地面及びその他の接地面は、単独で又は一緒に、任意の形に形成することができる。これらの接地面は、電子電荷を消散させる/制限する、平坦な又は点状の接触範囲を備えることができる。更に、接地面は、接触プレートを有することができ、このプレートは、例えば、プラスチック構成部品の内面又は外面などその他の面に、接着剤などで接続されている。接触面は、剛性にも柔軟にも形成することができる。更に、接地面は、電気的に接続されるボルトを有することができ、このボルトは、プラスチック部品内のボルトボスの中にねじ込まれている。
【0016】
この点で、接地面は、それが他の構成部品に作用することができる場合、すなわち、この他の構成部品から電子荷電を消散させる/制限するのに適している場合、他の構成部品の「周辺において」配置されるものとして有効でなければならない。そのために、この構成部品は、直接又は間接的にのみにも、接地面によって接続されることが可能である。間接的な接続の場合も、構成部品までの距離は、1又は5又は10ミリメートル以上離れていてはならないであろう。この距離は、構成部品又はブリッジする構成部品の伝導率に左右される。
【0017】
更に、機能ヘッド及び/又はハウジング部は、イオン出口周辺において、少なくとも、もう1つの電子電荷を消散させる/制限するための接地面を備えることができる(「第3の接地面」)。機能ヘッド及び/又はイオン出口を取り囲むハウジング部に取り付けられているこのような接地面により、髪へのイオン放出を妨げるおそれのある、機能ヘッド部分及びイオン出口部分における過剰な帯電とそれに伴う静電気フィールドが防止又は制限される。特に、ここでは、機能ヘッドにもハウジング部にも、イオン出口周辺において、こうした接地面を取り付けることが可能である。
【0018】
この場合の接地面は、基本的に様々に形成することができる。とりわけ、この接地面は、金属表面の形に形成することができ、非伝導性の、好ましくはプラスチックからなる、機能ヘッド及び/又はイオン出口の本体部若しくはハウジング部の上に取り付けられている。したがって、機能部品又はイオン出口そのものの本体部も、引き続きプラスチック射出成形部品又はその他の方法で製造されたプラスチック部品として形成することができる。有利であるのは、前記本体部の外側に配置され、本体部の外部表面を形成することのできる金属表面の形での接地面が、この場合、イオン放出に支障を与えるフィールドを防止するだけではなく、ヘアケア装置の作動安全性も向上させる。
【0019】
本体部の外側に取り付けられる接地面の代替又は補足として、本発明の有利な発展形態では、本体部の内面にも接地面を設けることができる。この場合、内側又は外側における配置は、構成部品に応じて、様々に変更することが可能である。一方で、前記の機能ヘッド及び/又はイオン出口を取り囲む出口ハウジングに取り付ける接地面を、対応する本体部の外面に設けることができるのは有利であり、他方、イオン出口周辺における別の本体部、特に、イオン噴霧が広がる、排出方向の出口後方にある本体部に取り付ける接地面又は接地装置を、対応する本体部の内面に設けることができる場合は特に有利である。
【0020】
この場合、接地面の配置に関しては、様々な実施形態にすることができるのは有利である。機能ヘッドに取り付ける接地面の有利な配置は、接地面がヘアトリートメント器具、特にブラシの毛部分及び/又は歯の部分に接続されている場合である。例えば、この接地面は、ブラシの毛又は歯、若しくは必要に応じて別の形に形成されたヘアトリートメント器具のトリートメントツールを保持する、いわばベッドを形成することができる。前記のブラシの毛部分及び/又は歯の部分の代替又は補足として、ヘアトリートメント器具が、例えば、セラミックなどの適切な材料から作られた、髪を手入れするためのヘアケア面を有することもできる。これの代替又は補足として、適切な形状、とりわけ、凹及び/又は凸の形に丸みをつけられた滑らかな手入れ面を備えたヒータ面を設けることができる。
【0021】
イオン出口(第1の接地面)及びその周辺において取り付ける接地面の配置に関しても、様々な実施形態にすることができるのは有利である。本発明の有利な発展形態に基づき、イオン出口は、好ましくは独立したハウジングモジュールを有し、このモジュールは、ケース及び/又はボックスの形でイオンを排出する高圧エレメントを取り囲み、高圧エレメントによって生じたイオンを流出させる流出開口部が設けられている出口面を有している。有利であるのは、前記の接地面が、前記のハウジングモジュールの非出口面の1つに設けられていることである。ハウジングモジュールの出口面は、特に対向電極が全くないように形成することが可能である。この場合、好ましくは針、ピン又は先の尖った形状の高圧エレメントを周辺側で取り囲む、出口面に隣接する出口ハウジングの側面に、接地面を配置することができる。この代替又は補足として、この出口面に対向して位置する、裏側の出口ハウジング面にも、接地面を設けることができる。
【0022】
出口ハウジングに取り付けるこのような接地面の代替又は補足として、イオン出口に隣接するハウジングモジュール及び/又はイオン出口周辺において配置されているハウジング面にも、接地面(「第2の接地面」)を取り付けることができる。特に、イオンの噴霧が拡散する、又は拡散することになるイオン出口の下流にあるハウジング構成部品を接地することができ、この場合、このハウジング構成部品は、前記の方法で、非導電性材料からなるのが有利であり、接地面をその上に取り付けることが可能である。イオン出口周辺において、ハウジング構成部品の電気的接地は、この場合、もっとも簡単な実施形態では、電気的に接続されるボルトによって行われ、このボルトはブラスチック部品内のボルトボスの中にねじ込まれている。これの代替又は補足として、前記の種類の接地面を形成する金属電極の接地圧によって、電気的接地を行うことが可能である。この場合、前記のハウジング構成部品又は前記の複数のハウジング構成部品は、装置の電圧回路のグラウンドに接続することによって、接地することが可能であり、これにより、静電気の帯電は不可能にはならないものの、帯電が十分に制限されるため、帯電よって生じる電気のフィールドを、イオン出口からのイオンの拡散を妨げない程度に小さくすることは可能である。
【0023】
イオン噴霧が拡散するハウジング部の電気的接地は、この場合、イオン噴霧の視野領域ではなく、イオン出口の反対側のハウジング構成部品で、特にそのハウジング構成部品の内面で行われるのが有利である。
【0024】
本発明の有利な発展形態及び第2の接地面に基づき、装置ハウジングには、イオン出口から流出するイオン噴霧が拡散する部分において、及び/又は、イオン出口周辺において、イオンガイド装置又はイオン制御装置を取り付けることができる。有利な方法では、この場合、イオンの制御は、イオン出口周辺において、複数の独立したハウジング構成部品を設けることによって達成され、それらの構成部品のうち、少なくとも1つは接地され、少なくとももう1つの構成部品は接地されずに形成されている。接地されていないハウジング部が帯電し、それによってイオンの向きを変えることができる一方で、イオンは、接地されている、非導電性のハウジング構成部品によって抵抗なく拡散することができるため、接地されたハウジング構成部品と接地されてないハウジング構成部品のパターンに応じて、流出するイオンの拡散を制御することが可能となる。
【0025】
適用に応じて、このようなイオンガイド装置を様々に形成し、様々な拡散パターンを作り出すことができる。本発明の好ましい実施形態においては、接地されたハウジング構成部品と接地されてないハウジング構成部品とからなる、装置の長手方向の中心面に対して左右対称のパターンを、イオン出口周辺において設けることができるため、全体として左右対称にイオンを拡散することが可能になる。この代替として、例えば、右利き用装置又は左利き用装置を作るために、長手方向の中心面に関して左右対称とは異なった構成にすることも可能である。
【0026】
接地面を直接ヘアトリートメント器具に接続する前記形態の代替又は補足として、機能ヘッドの接地面(「第3の接地面」)は、周辺側で少なくとも部分的に、好ましくは環状にヘアトリートメント器具を取り囲むこともき、及び/又は直接ヘアトリートメント器具に隣接して配置することができる。特に、ヘアトリートメント器具の周りを取り囲む金属帯を、接地面として機能ヘッドに設けることが可能である。この場合、ブラシの毛部分及び/又は歯の部分などのヘアトリートメント器具自体、又は機能ヘッドのハウジング本体自体は、非導電材料からなっていてもよい。有利であるのは、機能ヘッドに取り付ける接地面が、少なくとも1つのイオン出口の近くではない場所に設けられていることである。この接地面は、有利な場合、ヘアトリートメント器具を保持する機能ヘッド内の、ヘアトリートメント器具に隣接するエッジ部分に配置することができる。
【0027】
本発明の発展形態においては、ハウジングの電位もユーザーの身体と電気的に接続される。本発明の発展形態においては、ヘアケア装置のグリップが、プラスの電荷をヘアケア装置の各ユーザーに誘導するための導電性接触面を有することができる。このことによって、ユーザーは帯電から保護される。すなわち、マイナスイオンの排出により、ユーザーはマイナスに帯電するが、他方、グリップの接触面により、プラスの電荷がユーザーに伝達されることによって、マイナスイオンによる帯電効果が相殺される。このことは、電源接続がなく、特にバッテリ及び/又は蓄電池としてヘアケア装置を形成する場合に、とりわけ有利である。このような非電源接続装置の場合、バッテリ又は蓄電池としての装置に参照電位がないため、マイナスイオンの生成により、通常、同量のプラス電荷もこの装置に生じる。この装置のこうしたプラス電荷によって、電気的に作用するグリップの前記接触面を介し、ユーザーのマイナスへの帯電を相殺することができる。
【0028】
接地面及びそれによって装置の電荷フィールドが取り除かれるか、又は制限されることにより達成される、ほとんど支障のない髪へのイオン排出により、特にイオン出口の配置に関して、イオン供給装置の形成をとりわけ簡単にすることが可能となる。この場合、本発明の発展形態においては、ヘアケア装置の主要機能を提供するヘアトリートメント器具の反対側の装置背面でのみ、イオンの排出が行われるようにすることができる。驚くべきことに、これにより、均等に分配されながらも、適切に髪に向けられるイオン供給を達成することが可能となる。装置の背面に送り出されるイオンは、ほとんどが目標物、すなわち、手入れしたい髪を通り過ぎてしまうことから、これまでは、いわば、手入れしたい部分にイオンを直接送り込むために、ヘアトリートメントツール部分の装置前面にイオンの少なくとも一部が送られるように試みられてきた。髪は、通常、供給されるイオンによって相殺されるプラスの電荷を有しており、このプラスの電荷がイオンを引き付けるため、特に、すでに説明した接地面、及び障害となる電荷フィールドの除去又は制限と組み合わせて、装置背面でのイオン放出により、イオンを極めて均等に分配しながらも、ほぼ完全な髪へのイオン供給を達成することが可能となる。イオン放出を妨げるおそれのある強い障害フィールドがヘアケア装置に存在しない場合は、この効果が十分に発揮される。装置背面にイオン出口又はすべてのイオン出口を配置することによって、ユーザーの手又はイオン出口の前にある髪の毛の房による機械的障害を受けることなく、イオンの流出が行われる。
【0029】
基本的には、唯一のイオン出口で十分である。必要に応じて、装置背面に複数のイオン出口を配置することも可能である。両方の場合において、この配置は、ヘアケア装置の長手方向の中心面に対して左右対称に行われるのが有利である。好ましくは、イオンの主要排出方向又はイオンの主要排出方向の集まりが、長手方向の中心面に対して左右対称に、背面の平面内又は背面上に向けられるように、少なくとも1つのイオン出口又は複数のイオン出口が調整されている。有利な場合、イオン出口の主な排出方向は、この場合、大まかに言うと、実質的に背面に対して平行に調整されているため、イオンは、装置背面に対して実質的に平行に、装置背面の上を越えて流出する。これの代替又は補足として、わずかに鋭角に(上方へ)広げてイオン排出を行うようにすることができる。この場合、イオン出口は、背面の平面に対して、好ましくは0°〜45°の角度、更には0°〜30°の角度で傾けることができる。
【0030】
髪への均等なイオンの分配を実施するため、少なくとも1つのイオン出口が、ヘアトリートメント器具の反対側にある装置背面のエッジに配置されることにより、機能ヘッドの背面上にイオン噴霧が形成される。
【0031】
唯一のイオン出口を配置する場合、イオン出口を長手方向の中心面に配置するのが有利である。2つのイオン出口を装置背面に配置する場合、これらの出口は、長手方向の中心面から互いに距離をおいた同じ高さに、好ましくはわずかに中心面に傾けられるよう配置することができる。2つのイオン出口を装置背面に配置する場合、これの代替として、2つのイオン出口を裏側の機能ヘッド面の対向するエッジに配置し、2つのイオン出口が互いの方向を向くように調整することができる。そのため、イオンは、これらのイオン出口から、いわば重なり合って流出することができる。
【0032】
ヘアトリートメント器具は、機能ヘッドに固定接続することができ、また、機能ヘッドに一体形成することもできる。この代替として、ヘアトリートメント器具は、有利な場合、交換可能であるように機能ヘッドに取り付けることができるため、機能ヘッドを様々なヘアトリートメント器具と接続して、利用することができる。ブラシの毛部分又は歯の部分以外に、別のヘアトリートメント器具、例えば、ヒートトリートメント器具、ヘアアイロン、ヘアドライヤー又はブラシ付きドライヤーなどのホットエア器具などが考えられる。このような様々なヘアトリートメント器具は、通常、様々な種類の装置操作及びグリップを必要とするため、公表された種類の導電面を提供することは有利である。更に、イオンの流れは、その強さ及びその形状的な配分に従って、多数の機能ヘッドと上手く対応するように排出されなければならないであろう。
【0033】
本発明のこれらの特徴及び更なる特徴は、請求項の他にも、以下の説明及び/又はそれに属する図面からも発生するものであり、この場合、これらの特徴は、請求項における要約を顧慮せずに、相互の様々な結合及び副結合の形において、並びに個々において本発明の対象を形成することができる。以下に好ましい実施例及び関係する図面を用いて、本発明を詳しく説明する。
【図面の簡単な説明】
【0034】
【図1】機能ヘッドの背面の端に、長手方向の中心面のイオン出口が示された、本発明の有利な実施形態に基づく、ヘアブラシ形のヘアケア装置背面の平面図。
【図2】機能ヘッドの接地面が、機能ヘッドに取り付けられている歯の下に設けられている、図1のヘアブラシを線A−Aに従って切断した場合の縦断面図。
【図3】機能ヘッドの接地面が、歯部分のエッジを取り囲む金属帯の形で設けられている、本発明の更なる有利な実施形態に基づく、ヘアブラシ前面の平面図。
【図4】長手方向の中心面に対して左右対称に、機能ヘッドの端に取り付けられている2つのイオン出口の配置が示された、本発明の更なる有利な実施形態に基づく、ヘアブラシ背面の平面図。
【図5】互いに外に開いた、実質的にヘアブラシ背面と平行に延びる、イオン出口の主要排出方向が示された、図4によるヘアブラシの正面図。
【図6】2つのイオン出口が、ヘアブラシの長手方向の中心面に、互いに向かい合った状態で設けられている、本発明の更なる有利な実施形態に基づく、ヘアブラシ背面の平面図。
【図7】ヘアブラシ背面上に取り付けられたイオン出口が異なる傾きを有していることを示す、図6の線A−Aに沿って切断した場合の、図6によるヘアブラシの縦断面図。
【図8】出口ハウジングの底面が接地面として形成されている、本発明の有利な実施形態に基づく、イオン出口及びその出口ハウジングの透視図。
【図9】図8によるイオン出口の出口側正面の平面図。
【図10】図8及び図9によるイオン出口の縦断面図。
【図11】出口ハウジングの底面の一部分のみが接地面として形成されている、本発明の代替の有利な実施形態に基づく、イオン出口の透視図。
【図12】出口ハウジングの側面が部分的に接地面として形成されている、本発明の更なる有利な実施形態に基づく、イオン出口の透視図。
【図13】出口面の反対側に位置する出口ハウジング背面が接地面として形成されている、本発明の更なる有利な実施形態に基づく、イオン出口の透視図。
【図14】出口ハウジングの2つの対向する側面が、それぞれ部分的に接地面として形成されている、本発明の更なる有利な実施形態に基づく、イオン出口の透視図。
【図15】装置のハウジング構成部品がイオン出口の周辺において接地されており、ヘアブラシ背面にイオン出口を備えた、本発明の更なる有利な実施形態に基づく、ヘアブラシ形のヘアケア装置の透視図。
【図16】装置背面のイオン出口周辺において、複数の独立したハウジング構成部品が設けられ、それらのうちの1つだけが接地されており、その他は接地されていない、図15と類似するヘアケア装置の透視図。
【発明を実施するための形態】
【0035】
図1及び2に示されたヘアケア装置1は、装置ベース本体2を含み、この装置ベース本体2はグリップ3を有し、後に説明される電子装置を本体内部又はアウタシェルに有している。前記のグリップ3は、機能ヘッド4を保持しており、この機能ヘッド4には、ヘアトリートメント器具5として、装置前面7にブラシの毛部分6が取り付けられている。しかしながら、ヘアケア装置がヘアフォーム装置及び/又はヘアドライヤーとして形成されている場合は、例えば、ヘアアイロン又はヘアフォームエレメント又は必要に応じて送風出口などのその他のヘアトリートメントツールも備えることができることは自明である。前記のヘアトリートメントツールは、必要に応じて、互いに組み合わせることもできる。
【0036】
前記のヘアトリートメント器具5は、機能ヘッド4に一体形成で固定することができる。この代替として、ヘアトリートメント器具5は、有利な場合、交換可能に機能ヘッド4に取り付けることができ、それによって、機能ヘッド4は、様々なヘアトリートメント器具5を装備し、利用することが可能となる。
【0037】
有利であるのは、この場合、ヘアケア装置1が互いに接合可能な複数のモジュールによるモジュール構造を有していることであり、その際、特に、機能ヘッド4全体及び/又は前記の方法ではヘアトリートメント器具5を、装置のベース本体2から独立して形成することができる。この場合、異なるモジュールとの間で、例えばラッチ凸部及びラッチ凹部の形でのポジティブロックに働く接続手段を設けることができ、このようなラッチは、ツールを用いないモジュールの脱着を可能にする。
【0038】
図1及び2に示されるように、ヘアトリートメント器具5の反対側の装置背面8の装置ベース本体2上には、更に、イオン供給装置9が設けられており、この装置は、装置ベース本体2の内部に配置されているイオンエミッターを有し、及び/又はイオン出口11に配置されている、イオンを排出するための高圧エレメント12を有することができる。前記の高圧エレメント12は、この場合、ケース又はカバーのような形の出口ハウジング13の中に配置され、この出口ハウジング13は、その出口面14に流出開口部17を有し、排出されるイオンはこの開口部から流出することができる。
【0039】
図に示されている実施形態では、イオン出口11がノズル形又はディフューザーのように形成され、イオンの流出する向きを調整するのに作用する(図2を参照)。この場合、有利であるのは、イオン出口11が、ブラシの毛部分6に対向しているか、又はブラシの毛部分6の反対側である、いわゆるヘアブラシの背を形成する装置背面8に配置されていることである。有利な場合、このとき、イオン出口11は、図2の図の平面を形成する長手方向中心面18に配置されており、イオン出口11の主要排出方向19が、裏側の装置表面に対してわずかに鋭角に傾けられており、装置表面から逸れた方向に向けられている(図2を参照)。この場合、傾斜角は0°〜45°であるのが有利であり、図に示された実施形態では、有利な場合、ほぼ20°〜30°とすることができる。図1及び2に示されているように、このとき、イオン出口11は、ブラシの毛部分6の反対側に位置する機能ヘッドの背面の端に配置されているため、イオン出口11から流出するイオンは、機能ヘッド4の背面上にイオン噴霧を形成する。特に、この場合、イオン出口11は、図1に示されるように、大まかに言って、ほぼグリップ3と機能ヘッド4との間に配置することができる。
【0040】
装置ベース本体2の内部には、特に図に示されていないエネルギー供給ユニットが収納されており、有利な場合には、このユニットをバッテリ又は蓄電池の形で形成することができる。有利であるのは、ヘアケア装置1がエネルギーを自給するように形成されていることであり、すなわち、この装置には、コンセントからの電流が供給される常設の電源装置がない。もちろん、装置ベース本体2内部のバッテリに充電するための電源ケーブルを挿入することはできる。前記のエネルギー供給ユニットによって、イオンを発生させるために、イオン供給装置9にエネルギーが供給される。
【0041】
有利な場合、図2に示されているように、不要な装置の帯電を防止し、装置動作の安全性を向上させるため、ヘアケア装置11には接地装置20が装備されている。図2に示されている実施形態においては、接地装置20が、機能ヘッド4の部分に接地面21を有することができ(「第3の接地面」)、この接地面が、機能ヘッド4の部分、特にヘアトリートメント器具5の部分において、高い電荷フィールドが形成されるのを遮断する。図2による実施形態では、接地面21が、直接、ヘケトリートメント装置5に接続されており、その際、この接地面は、キャリアとして形成され、ヘアトリートメント器具5の下にあり、接地面の上にヘアトリートメント器具が固定されている(図2を参照)。有利なことに、ここでは、接地面21が、金属表面及び/又は金属コーティングからなり、通常は、プラスチックから形成される機能ヘッド本体の上に取り付けられている。接地面21は、特に、装置の内部に配置されているグラウンドモジュールの内部で、装置電位に接続することが可能である。
【0042】
この代替又は補足として、機能ヘッド側の接地面21は、ブラシの毛部分6のエッジに配置されている金属表面体を、有利な場合には金属帯の形で有することも可能であり、この金属帯は、環状にブラシの毛部分6を取り囲むか、又は、図3に示されているように、U字型に3つの側面を取り囲んでいる。ブラシの毛部分6及び機能ヘッド4の残りの本体部は、非導電性に形成され、特にプラスチックから作ることができる。図3に従って、ブラシの毛部分6のエッジに接地面21が取り付けられている場合、ブラシの毛部分6を取り囲む接地面21の範囲は、この部分に発生する帯電を相殺するのに十分な範囲である。有利であるのは、金属帯が、ヘアトリートメント器具5の周囲の少なくとも50%に広がっていることである。
【0043】
図4及び5に示されているように、ヘアケア装置1は、装置背面8に複数のイオン出口11を有することもでき、この場合、図4及び5に示されている実施形態では、2つのイオン出口11が設けられ、これらのイオン出口11は、装置の長手方向から見て同じ高さに配置され、長手方向の中心面18に関して左右対称に位置決めされている。有利であるのは、この場合、イオン出口11が機能ヘッドの背面の端に配置されており、その際、イオン噴霧を均等に分配するために、それらのイオン出口11が、60°〜120°の角度で、好ましくは約90°の角度をつけて互いに傾けられていることである。このとき、図に示された実施形態においては、イオン出口11の主要排出方向18が、装置背面8の表面と平行に調整されているため、イオンは、実質的に機能ヘッド背面と平行に流出する。図に示された形態においては、この場合、イオン出口11が、イオンを違った方向に流出させるため、機能ヘッド4又はその背面上にイオン噴霧が均等に分配される。
【0044】
この図4及び5による実施形態の代替として、長手方向の中心面18に複数のイオン出口11を配置することも可能である(図6及び7を参照)。この場合、有利であるのは、2つのイオン出口11が、互いに向かい合っており、その際、機能ヘッドの背面上に発生するイオン噴霧を流出させるために、これらのイオン出口11が、機能ヘッドの背面の端部における対向する両側に配置されていることである(図6及び7を参照)。
【0045】
有利な場合、2つのイオン出口11は装置背面の表面に対して様々な角度に傾けることができる。一方のイオン出口の主要排出方向18は、実質的に装置背面8の表面と平行に調整され、もう一方のイオン出口11は、装置背面の前記表面に対して、好ましくは0°〜40°の角度で、特に10°〜30°の角度でわずかに鋭角に傾けられている。図6及び7に示されるように、この場合、特に有利であるのは、グリップ3と機能ヘッド4との間の移行部に配置されているイオン出口11がわずかに傾けられ、グリップ3から離れた機能ヘッドの背面の端部に配置されたイオン出口11は、装置背面8と平行に配置されることである。
【0046】
図8〜10に示されるように、有利であるのは、前記の接地装置20が、この場合、イオン出口11に組み込まれた接地面22(「第1の接地面」)をも含んでいることである。この場合、特に、この接地面22は、イオンエミッター又はその高圧エレメント12を取り囲む出口ハウジング13のハウジング外面上に設けられている。図8にもっとも良く示されているように、大まかに言って、ケースの形をした出口ハウジング13は、正面を形成する出口面14を有し、その出口面14に、排出されるイオンを流出するための流出開口部17が設けられている。高圧エレメント12は、出口ハウジング13の中央に配置されるとともに、出口ハウジング13内部において、前記の流出開口部17の少し手前で終了している(図10を参照)。この高圧エレメント12は、典型的な場合には、ワイアを有しているか、又は、通常、絶縁被覆の中に通されているワイアからなり、一方、出口ハウジングは、通常、その他の、第3の材料、例えばプラスチックからなる(図10では、素材の区別は明らかにされていない)。
【0047】
図8〜10による実施形態では、高圧エレメント12に関して周辺側の側面16に、接地面22が取り付けられている。この接地面は、図8〜10に従って、装置ベース本体2に向けられている出口ハウジング13の底面であることができる。この代替又は補足として、接地面は、図12に示されるように、出口ハウジング13の側壁面16でもよい。
【0048】
図8〜10に従って、出口ハウジング13の底面全体は、接地面22として、特に金属表面の形に形成されており、この場合、ハウジング本体は、通常、非導電性に形成され、特にプラスチックから作ることができる。図11に示されているように、出口ハウジング13の該当する面(図11の場合は底側の面)には、部分的にのみ接地面22を取り付けることができる。すなわち、接地面22は、必ずしも側面全体を覆う必要はない(図11を参照)。
【0049】
図12による実施形態の場合も、側面16の半分だけが、接地面22として形成されている。
【0050】
図13に示されているように、出口面14の反対側に位置する、出口ハウジング13の背面も接地面22として形成することができる。
【0051】
図14には、更なる実施形態が示されている。ここでは、互いに対向する出口ハウジング13の側面16にそれぞれ接地面22が取り付けられており、この場合、図に示された実施形態では、これらの接地面が、側面16を部分的に覆う帯の形にのみ形成されている。
【0052】
図15は、本発明の更なる実施形態によるヘアケア装置1を示している。特に説明がない限り、このヘアケア装置は、これまでの実施形態に相当し、その場合、図15には、対応する構成部品と一致する番号が使用されている。図15によるヘアケア装置は、機能ヘッドの背面全体が接地されていることによって、これまでのものとは実質的に異なっている。機能ヘッド4の背面を形成し、イオン出口11を取り囲んでいるハウジング構成部品108は、非導電性材料、特にプラスチックからなるため、ハウジング構成部品108は静電気を帯電する。しかしながら、前記のハウジング構成部品108は、高圧回路のグラウンドへの接続によって接地されることによって、静電気の帯電は不可能ではないが、十分に制限されるため、帯電によって生じる電気フィールドは小さく、イオン出口からのイオンの拡散は妨げられない。電気的接地は、この場合、接地面122(「第2の接地面」)によって行うことができる。ここでは、接地面122を、ハウジング構成部品108内のボルトボスの中にある、電気的に接続されるボルトとしても形成することができる。この代替又は補足として、ハウジング構成部品108への金属電極の接地圧を、好ましくは、ハウジング構成部品の内部に取り付けることができる。両方の場合も、グラウンドに接続されている接地面がハウジング構成部品18に設けられ、ハウジング構成部品の静電気帯電を防止又は抑制している。
【0053】
図15に示されるように、イオン出口11周辺において、接地されているハウジング構成部品108は、実質的に裏側の装置本体表面の全体又は一部に広がっており、その上にイオン出口11から流出するイオン噴霧が広がる。接地されているハウジング構成部品108は、この場合、イオン出口11の出口面14とは反対の、イオン出口11の後部から開始して、特に広い範囲に、イオン出口11の前まで、すなわち、イオン出口11からのイオンの排出方向から見て前記のイオン出口11の下流へ広がっている(図15を参照)。イオン出口11は、接地されているハウジング構成部品108の表面において、いわば島を形成しており、その際、ハウジング構成部品108の大部分(図に示されている実施形態ではハウジング構成部品108の3分の2以上)は、イオン出口11の排出側に位置している(図15を参照)。
【0054】
前記のイオン出口11は、この場合、前記のハウジング構成部品108の中に一体形成されており、特に、このハウジング構成部品は、イオン出口11の流出開口部17のスペースを作るため、ドーム形に膨張し、流出開口部17は、図に示された実施形態では、イオンエミッターを出口側で取り囲んでいる、好ましくはプラスチック製のスリーブ170によって形成される(図15を参照)。
【0055】
図15に示されている、イオンエミッターの流出範囲において、ハウジング構成部品の全体を覆う接地の替わりに、図16に示されているように、イオン出口11の周辺において、複数の、独立したハウジング構成部品108a及び108bを設け、それらの少なくとも1つが接地され、その他の少なくとも1つは接地されていないようにすることができる。接地されていない部分は静電気に帯電することができ、それによってイオンの向きが変えられる。これとは反対に、接地されている部分によって、イオンは障害なく広がることができるため、結果的にイオン噴霧の制御が可能となる。イオン出口11の周辺において、接地されているハウジング構成部品と接地されていないハウジング構成部品のパターンは、この限りにおいて、イオンガイド装置を形成する。
【0056】
図16に示されているように、このイオンガイド装置又は接地されているハウジング構成部品及び接地されていないハウジング構成部品108a及び108bのパターンは、有利な場合、ヘアケア装置1の長手方向の中心面18に対して左右対称に配置されるか、又は形成されることができる。具体的には、図16で示されている、イオン出口11から不等辺四角形に広がっている中央のハウジング構成部品108aが前記の方法で接地されている。この中央の帯形のハウジング構成部品108aの左右には、2つの側面のハウジング構成部品108bが取り付けられ、これらは接地されていないため、静電気に帯電することができる。この実施例の場合、イオンガイド装置は、いわゆる流出ダクト又は流出ルートを形成し、これによりイオン流出が適切な方向へ向けられ、側面へ大きく広がるのを抑制する。しかし、適用に応じて、イオン噴霧の広がりを適切に制御できるようにするため、接地又は非接地のハウジング構成部品による別のパターンも適用に従って準備することができる。
【技術分野】
【0001】
本発明は、グリップと、このグリップに接続可能であり、特に毛の部分及び/又は歯の部分であるヘアトリートメント器具を有する機能ヘッドと、イオンを髪に供給し、少なくとも1つのイオン出口を有するイオン供給装置と、を備えるヘアケア装置に関する。
【背景技術】
【0002】
近年においては、特にヘアブラシなどのヘアケア装置が、その第1の機能、すなわち、ヘアブラシの場合は髪をとかすこと、ブラッシング及びスタイリングといった機能の他に、追加用途としてイオンを供給することが知られている。この種のイオンは、通常マイナス電子を帯電している分子である。このようなイオンの適用によって、髪及びヘアケアが改善され、特に、髪が静電気に帯電するのを抑え、それによって髪が逆立つのを予防する。
【0003】
US 2005/285595から、ヘアブラシの毛部分とは反対側の装置背面及び毛の部分の装置前面に、機能ヘッドの方向にイオンを流出させるイオン出口をそれぞれ1つ有する一体型ブラシヘッドを備えたヘアブラシ又はヘアドライヤーが周知である。
【0004】
イオンを利用するこのようなヘアケア装置の場合、一方では、もちろんイオンが適切に髪に供給されるべきであり、他方では、イオンがムラなく、可能な限り均等に配分されるように髪に当てられなければならない。この場合、イオンの流出は、イオン出口の前にある髪の毛又は経路を塞いでいるユーザーの手など、直接の機械的障害によって停止するばかりではなく、静電気フィールド、すなわち、強くマイナスに帯電したイオンをいわば拒絶する、マイナスに帯電した構成部品、又はイオンを引きつける電界作用を有するプラス電荷の高い構成部品によっても停止することがある。このような帯電は、例えば、ブラシの毛で髪をとかした場合に、ブラシの毛自体に生じる。また、イオン出口部分においても、静電気のフィールドが装置ハウジングに形成され、この静電気フィールドはイオンの流出を妨げるおそれがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】US 2005/285595
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
前述のような周知のヘアケア装置で、更に改善しなければならない点は、前述のような、装置への強い帯電によって侵害される可能性のある使用安全性である。
【0007】
これらのことを前提として、本発明は、前述した種類のヘアケア装置を改善し、先行技術の欠点を回避して、有利な方法で先行技術を発展させるという課題に基づいている。とりわけ、髪へのイオンの放出は、簡単な方法によって、均等かつ効果的に行われるべきであるが、その際に装置の使用安全性に支障をきたしてはならない。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本課題は、本発明に基づき、請求項1によるヘアケア装置によって解決される。好ましい発明の実施形態は、従属請求項の対象である。
【0009】
髪へのイオンの放出を妨げるか、又はイオンの放出に支障をきたす可能性のある、少なくともヘアケア装置の部品に発生する静電気の帯電及び静電気フィールドは、適切な対抗措置により取り除くことができることも提案される。このような静電気フィールドによって支障を受けることなく、均等に配分され、しかも適切かつ効果的な髪へのイオン散布が、単純な形態をもつイオン供給装置によって達成可能であり、本発明の簡単な形態においては、このイオン散布を唯一のイオン出口だけで済ませることができる。本発明に基づき、このヘアケア装置は、ヘアトリートメント器具の反対側の装置背面と、イオンを髪に供給するためのイオン供給装置と、を有し、このイオン供給装置は、少なくとも1つのスイッチユニット、イオン源、イオン出口及びイオン出口を取り囲むスリーブを有していることを特徴とし、このヘアケア装置は、イオン出口周辺において、ハウジング部に配置され、電子電荷を消散させる/制限する接地面を更に備え、イオン源は、接地面の電位レベルに対して、−10〜−3KVの電位レベルをもち、スリーブは、接地面の電位レベルに対して、−2.5〜−1KV又はイオン源の電位レベルの20%〜50%の電位レベルをもち、装置背面は、接地面の電位レベルに対して、−500〜−100V又はイオン源の電位レベルの2%〜10%の電位レベルをもつ。
【0010】
ヘアケア装置の種類に応じて、イオン源は、接地面の電位レベルに対して、マイナス(−)10キロボルト(KV)〜−8KV又は−8KV〜−6KV又は−6KV〜−3KVの範囲から電位レベルを選択することもできる。
【0011】
イオン出口を取り囲むスリーブは、様々な形で実施することができる。例えば、シリンダー形又は漏斗形のスリーブなどにすることができる。スリーブが極めて優れた導電体である場合、スリーブは接触する接地面の電位レベルをほとんど受け入れ、また、スリーブが導電性の悪い導電体である場合、スリーブは接地が接触しているにもかかわらず、部分的に帯電することができるが、その帯電は接触している接地によって制限される。このスリーブは、接地面の電位レベルに対して、マイナス(−)2.5キロボルト(KV)〜−2KV又は−2KV〜−1.5KV又は−1.5KV〜−1KVの範囲から電位レベルを選択することができる。スリーブの電位レベルは、イオン源の電位レベルと適合させるべきであろう。スリーブの電位レベルは、イオン源の電位レベルの50%〜40%又は40%〜30%又は30%〜20%の範囲から電位レベルを選択することができる。
【0012】
ハウジング背面は、同様に様々な形で実施することができる。ハウジング背面が極めて優れた導電体である場合、ハウジング背面は接触する接地面の少なくともほとんどの電位レベルを受け入れ、また、ハウジング背面が導電性の悪い導電体である場合、ハウジング背面は接地面が接触しているにもかかわらず、部分的に帯電することができるが、その帯電は接触している接地によって制限される。このハウジング背面は、接地面の電位レベルに対して、マイナス(−)500ボルト(V)〜−300V又は−300V〜−200V又は−200V〜−100Vの範囲から電位レベルを選択することができる。ハウジング背面の電位レベルは、イオン源の電位レベルと適合させるべきであろう。ハウジング背面の電位レベルは、イオン源の電位レベルの10%〜8%又は8%〜5%又は5%〜2%の範囲から電位レベルを選択することができる。
【0013】
非導電性又は少なくとも導電性のよくないハウジング部(ハウジング背面又はスリーブ)の場合、ハウジング部の電位レベルは、様々な場所で異なっていることがある。そのため、電位レベルは、構成部品の外面で決定するのがもっとも良い。本発明においては、構成部品外面上のイオン流側の箇所で、電位レベルが上記の範囲にあれば十分である。したがって、この電位レベルは、構成部品の電位レベルとして有効とすることができる。
【0014】
最適な電位レベルは、ヘアケア装置の接地面を配分し、特に導電性能に関して材料を選択することによって、制御することができる。
【0015】
この場合、接地面、すなわち、第1の接地面、第2の接地面及びその他の接地面は、単独で又は一緒に、任意の形に形成することができる。これらの接地面は、電子電荷を消散させる/制限する、平坦な又は点状の接触範囲を備えることができる。更に、接地面は、接触プレートを有することができ、このプレートは、例えば、プラスチック構成部品の内面又は外面などその他の面に、接着剤などで接続されている。接触面は、剛性にも柔軟にも形成することができる。更に、接地面は、電気的に接続されるボルトを有することができ、このボルトは、プラスチック部品内のボルトボスの中にねじ込まれている。
【0016】
この点で、接地面は、それが他の構成部品に作用することができる場合、すなわち、この他の構成部品から電子荷電を消散させる/制限するのに適している場合、他の構成部品の「周辺において」配置されるものとして有効でなければならない。そのために、この構成部品は、直接又は間接的にのみにも、接地面によって接続されることが可能である。間接的な接続の場合も、構成部品までの距離は、1又は5又は10ミリメートル以上離れていてはならないであろう。この距離は、構成部品又はブリッジする構成部品の伝導率に左右される。
【0017】
更に、機能ヘッド及び/又はハウジング部は、イオン出口周辺において、少なくとも、もう1つの電子電荷を消散させる/制限するための接地面を備えることができる(「第3の接地面」)。機能ヘッド及び/又はイオン出口を取り囲むハウジング部に取り付けられているこのような接地面により、髪へのイオン放出を妨げるおそれのある、機能ヘッド部分及びイオン出口部分における過剰な帯電とそれに伴う静電気フィールドが防止又は制限される。特に、ここでは、機能ヘッドにもハウジング部にも、イオン出口周辺において、こうした接地面を取り付けることが可能である。
【0018】
この場合の接地面は、基本的に様々に形成することができる。とりわけ、この接地面は、金属表面の形に形成することができ、非伝導性の、好ましくはプラスチックからなる、機能ヘッド及び/又はイオン出口の本体部若しくはハウジング部の上に取り付けられている。したがって、機能部品又はイオン出口そのものの本体部も、引き続きプラスチック射出成形部品又はその他の方法で製造されたプラスチック部品として形成することができる。有利であるのは、前記本体部の外側に配置され、本体部の外部表面を形成することのできる金属表面の形での接地面が、この場合、イオン放出に支障を与えるフィールドを防止するだけではなく、ヘアケア装置の作動安全性も向上させる。
【0019】
本体部の外側に取り付けられる接地面の代替又は補足として、本発明の有利な発展形態では、本体部の内面にも接地面を設けることができる。この場合、内側又は外側における配置は、構成部品に応じて、様々に変更することが可能である。一方で、前記の機能ヘッド及び/又はイオン出口を取り囲む出口ハウジングに取り付ける接地面を、対応する本体部の外面に設けることができるのは有利であり、他方、イオン出口周辺における別の本体部、特に、イオン噴霧が広がる、排出方向の出口後方にある本体部に取り付ける接地面又は接地装置を、対応する本体部の内面に設けることができる場合は特に有利である。
【0020】
この場合、接地面の配置に関しては、様々な実施形態にすることができるのは有利である。機能ヘッドに取り付ける接地面の有利な配置は、接地面がヘアトリートメント器具、特にブラシの毛部分及び/又は歯の部分に接続されている場合である。例えば、この接地面は、ブラシの毛又は歯、若しくは必要に応じて別の形に形成されたヘアトリートメント器具のトリートメントツールを保持する、いわばベッドを形成することができる。前記のブラシの毛部分及び/又は歯の部分の代替又は補足として、ヘアトリートメント器具が、例えば、セラミックなどの適切な材料から作られた、髪を手入れするためのヘアケア面を有することもできる。これの代替又は補足として、適切な形状、とりわけ、凹及び/又は凸の形に丸みをつけられた滑らかな手入れ面を備えたヒータ面を設けることができる。
【0021】
イオン出口(第1の接地面)及びその周辺において取り付ける接地面の配置に関しても、様々な実施形態にすることができるのは有利である。本発明の有利な発展形態に基づき、イオン出口は、好ましくは独立したハウジングモジュールを有し、このモジュールは、ケース及び/又はボックスの形でイオンを排出する高圧エレメントを取り囲み、高圧エレメントによって生じたイオンを流出させる流出開口部が設けられている出口面を有している。有利であるのは、前記の接地面が、前記のハウジングモジュールの非出口面の1つに設けられていることである。ハウジングモジュールの出口面は、特に対向電極が全くないように形成することが可能である。この場合、好ましくは針、ピン又は先の尖った形状の高圧エレメントを周辺側で取り囲む、出口面に隣接する出口ハウジングの側面に、接地面を配置することができる。この代替又は補足として、この出口面に対向して位置する、裏側の出口ハウジング面にも、接地面を設けることができる。
【0022】
出口ハウジングに取り付けるこのような接地面の代替又は補足として、イオン出口に隣接するハウジングモジュール及び/又はイオン出口周辺において配置されているハウジング面にも、接地面(「第2の接地面」)を取り付けることができる。特に、イオンの噴霧が拡散する、又は拡散することになるイオン出口の下流にあるハウジング構成部品を接地することができ、この場合、このハウジング構成部品は、前記の方法で、非導電性材料からなるのが有利であり、接地面をその上に取り付けることが可能である。イオン出口周辺において、ハウジング構成部品の電気的接地は、この場合、もっとも簡単な実施形態では、電気的に接続されるボルトによって行われ、このボルトはブラスチック部品内のボルトボスの中にねじ込まれている。これの代替又は補足として、前記の種類の接地面を形成する金属電極の接地圧によって、電気的接地を行うことが可能である。この場合、前記のハウジング構成部品又は前記の複数のハウジング構成部品は、装置の電圧回路のグラウンドに接続することによって、接地することが可能であり、これにより、静電気の帯電は不可能にはならないものの、帯電が十分に制限されるため、帯電よって生じる電気のフィールドを、イオン出口からのイオンの拡散を妨げない程度に小さくすることは可能である。
【0023】
イオン噴霧が拡散するハウジング部の電気的接地は、この場合、イオン噴霧の視野領域ではなく、イオン出口の反対側のハウジング構成部品で、特にそのハウジング構成部品の内面で行われるのが有利である。
【0024】
本発明の有利な発展形態及び第2の接地面に基づき、装置ハウジングには、イオン出口から流出するイオン噴霧が拡散する部分において、及び/又は、イオン出口周辺において、イオンガイド装置又はイオン制御装置を取り付けることができる。有利な方法では、この場合、イオンの制御は、イオン出口周辺において、複数の独立したハウジング構成部品を設けることによって達成され、それらの構成部品のうち、少なくとも1つは接地され、少なくとももう1つの構成部品は接地されずに形成されている。接地されていないハウジング部が帯電し、それによってイオンの向きを変えることができる一方で、イオンは、接地されている、非導電性のハウジング構成部品によって抵抗なく拡散することができるため、接地されたハウジング構成部品と接地されてないハウジング構成部品のパターンに応じて、流出するイオンの拡散を制御することが可能となる。
【0025】
適用に応じて、このようなイオンガイド装置を様々に形成し、様々な拡散パターンを作り出すことができる。本発明の好ましい実施形態においては、接地されたハウジング構成部品と接地されてないハウジング構成部品とからなる、装置の長手方向の中心面に対して左右対称のパターンを、イオン出口周辺において設けることができるため、全体として左右対称にイオンを拡散することが可能になる。この代替として、例えば、右利き用装置又は左利き用装置を作るために、長手方向の中心面に関して左右対称とは異なった構成にすることも可能である。
【0026】
接地面を直接ヘアトリートメント器具に接続する前記形態の代替又は補足として、機能ヘッドの接地面(「第3の接地面」)は、周辺側で少なくとも部分的に、好ましくは環状にヘアトリートメント器具を取り囲むこともき、及び/又は直接ヘアトリートメント器具に隣接して配置することができる。特に、ヘアトリートメント器具の周りを取り囲む金属帯を、接地面として機能ヘッドに設けることが可能である。この場合、ブラシの毛部分及び/又は歯の部分などのヘアトリートメント器具自体、又は機能ヘッドのハウジング本体自体は、非導電材料からなっていてもよい。有利であるのは、機能ヘッドに取り付ける接地面が、少なくとも1つのイオン出口の近くではない場所に設けられていることである。この接地面は、有利な場合、ヘアトリートメント器具を保持する機能ヘッド内の、ヘアトリートメント器具に隣接するエッジ部分に配置することができる。
【0027】
本発明の発展形態においては、ハウジングの電位もユーザーの身体と電気的に接続される。本発明の発展形態においては、ヘアケア装置のグリップが、プラスの電荷をヘアケア装置の各ユーザーに誘導するための導電性接触面を有することができる。このことによって、ユーザーは帯電から保護される。すなわち、マイナスイオンの排出により、ユーザーはマイナスに帯電するが、他方、グリップの接触面により、プラスの電荷がユーザーに伝達されることによって、マイナスイオンによる帯電効果が相殺される。このことは、電源接続がなく、特にバッテリ及び/又は蓄電池としてヘアケア装置を形成する場合に、とりわけ有利である。このような非電源接続装置の場合、バッテリ又は蓄電池としての装置に参照電位がないため、マイナスイオンの生成により、通常、同量のプラス電荷もこの装置に生じる。この装置のこうしたプラス電荷によって、電気的に作用するグリップの前記接触面を介し、ユーザーのマイナスへの帯電を相殺することができる。
【0028】
接地面及びそれによって装置の電荷フィールドが取り除かれるか、又は制限されることにより達成される、ほとんど支障のない髪へのイオン排出により、特にイオン出口の配置に関して、イオン供給装置の形成をとりわけ簡単にすることが可能となる。この場合、本発明の発展形態においては、ヘアケア装置の主要機能を提供するヘアトリートメント器具の反対側の装置背面でのみ、イオンの排出が行われるようにすることができる。驚くべきことに、これにより、均等に分配されながらも、適切に髪に向けられるイオン供給を達成することが可能となる。装置の背面に送り出されるイオンは、ほとんどが目標物、すなわち、手入れしたい髪を通り過ぎてしまうことから、これまでは、いわば、手入れしたい部分にイオンを直接送り込むために、ヘアトリートメントツール部分の装置前面にイオンの少なくとも一部が送られるように試みられてきた。髪は、通常、供給されるイオンによって相殺されるプラスの電荷を有しており、このプラスの電荷がイオンを引き付けるため、特に、すでに説明した接地面、及び障害となる電荷フィールドの除去又は制限と組み合わせて、装置背面でのイオン放出により、イオンを極めて均等に分配しながらも、ほぼ完全な髪へのイオン供給を達成することが可能となる。イオン放出を妨げるおそれのある強い障害フィールドがヘアケア装置に存在しない場合は、この効果が十分に発揮される。装置背面にイオン出口又はすべてのイオン出口を配置することによって、ユーザーの手又はイオン出口の前にある髪の毛の房による機械的障害を受けることなく、イオンの流出が行われる。
【0029】
基本的には、唯一のイオン出口で十分である。必要に応じて、装置背面に複数のイオン出口を配置することも可能である。両方の場合において、この配置は、ヘアケア装置の長手方向の中心面に対して左右対称に行われるのが有利である。好ましくは、イオンの主要排出方向又はイオンの主要排出方向の集まりが、長手方向の中心面に対して左右対称に、背面の平面内又は背面上に向けられるように、少なくとも1つのイオン出口又は複数のイオン出口が調整されている。有利な場合、イオン出口の主な排出方向は、この場合、大まかに言うと、実質的に背面に対して平行に調整されているため、イオンは、装置背面に対して実質的に平行に、装置背面の上を越えて流出する。これの代替又は補足として、わずかに鋭角に(上方へ)広げてイオン排出を行うようにすることができる。この場合、イオン出口は、背面の平面に対して、好ましくは0°〜45°の角度、更には0°〜30°の角度で傾けることができる。
【0030】
髪への均等なイオンの分配を実施するため、少なくとも1つのイオン出口が、ヘアトリートメント器具の反対側にある装置背面のエッジに配置されることにより、機能ヘッドの背面上にイオン噴霧が形成される。
【0031】
唯一のイオン出口を配置する場合、イオン出口を長手方向の中心面に配置するのが有利である。2つのイオン出口を装置背面に配置する場合、これらの出口は、長手方向の中心面から互いに距離をおいた同じ高さに、好ましくはわずかに中心面に傾けられるよう配置することができる。2つのイオン出口を装置背面に配置する場合、これの代替として、2つのイオン出口を裏側の機能ヘッド面の対向するエッジに配置し、2つのイオン出口が互いの方向を向くように調整することができる。そのため、イオンは、これらのイオン出口から、いわば重なり合って流出することができる。
【0032】
ヘアトリートメント器具は、機能ヘッドに固定接続することができ、また、機能ヘッドに一体形成することもできる。この代替として、ヘアトリートメント器具は、有利な場合、交換可能であるように機能ヘッドに取り付けることができるため、機能ヘッドを様々なヘアトリートメント器具と接続して、利用することができる。ブラシの毛部分又は歯の部分以外に、別のヘアトリートメント器具、例えば、ヒートトリートメント器具、ヘアアイロン、ヘアドライヤー又はブラシ付きドライヤーなどのホットエア器具などが考えられる。このような様々なヘアトリートメント器具は、通常、様々な種類の装置操作及びグリップを必要とするため、公表された種類の導電面を提供することは有利である。更に、イオンの流れは、その強さ及びその形状的な配分に従って、多数の機能ヘッドと上手く対応するように排出されなければならないであろう。
【0033】
本発明のこれらの特徴及び更なる特徴は、請求項の他にも、以下の説明及び/又はそれに属する図面からも発生するものであり、この場合、これらの特徴は、請求項における要約を顧慮せずに、相互の様々な結合及び副結合の形において、並びに個々において本発明の対象を形成することができる。以下に好ましい実施例及び関係する図面を用いて、本発明を詳しく説明する。
【図面の簡単な説明】
【0034】
【図1】機能ヘッドの背面の端に、長手方向の中心面のイオン出口が示された、本発明の有利な実施形態に基づく、ヘアブラシ形のヘアケア装置背面の平面図。
【図2】機能ヘッドの接地面が、機能ヘッドに取り付けられている歯の下に設けられている、図1のヘアブラシを線A−Aに従って切断した場合の縦断面図。
【図3】機能ヘッドの接地面が、歯部分のエッジを取り囲む金属帯の形で設けられている、本発明の更なる有利な実施形態に基づく、ヘアブラシ前面の平面図。
【図4】長手方向の中心面に対して左右対称に、機能ヘッドの端に取り付けられている2つのイオン出口の配置が示された、本発明の更なる有利な実施形態に基づく、ヘアブラシ背面の平面図。
【図5】互いに外に開いた、実質的にヘアブラシ背面と平行に延びる、イオン出口の主要排出方向が示された、図4によるヘアブラシの正面図。
【図6】2つのイオン出口が、ヘアブラシの長手方向の中心面に、互いに向かい合った状態で設けられている、本発明の更なる有利な実施形態に基づく、ヘアブラシ背面の平面図。
【図7】ヘアブラシ背面上に取り付けられたイオン出口が異なる傾きを有していることを示す、図6の線A−Aに沿って切断した場合の、図6によるヘアブラシの縦断面図。
【図8】出口ハウジングの底面が接地面として形成されている、本発明の有利な実施形態に基づく、イオン出口及びその出口ハウジングの透視図。
【図9】図8によるイオン出口の出口側正面の平面図。
【図10】図8及び図9によるイオン出口の縦断面図。
【図11】出口ハウジングの底面の一部分のみが接地面として形成されている、本発明の代替の有利な実施形態に基づく、イオン出口の透視図。
【図12】出口ハウジングの側面が部分的に接地面として形成されている、本発明の更なる有利な実施形態に基づく、イオン出口の透視図。
【図13】出口面の反対側に位置する出口ハウジング背面が接地面として形成されている、本発明の更なる有利な実施形態に基づく、イオン出口の透視図。
【図14】出口ハウジングの2つの対向する側面が、それぞれ部分的に接地面として形成されている、本発明の更なる有利な実施形態に基づく、イオン出口の透視図。
【図15】装置のハウジング構成部品がイオン出口の周辺において接地されており、ヘアブラシ背面にイオン出口を備えた、本発明の更なる有利な実施形態に基づく、ヘアブラシ形のヘアケア装置の透視図。
【図16】装置背面のイオン出口周辺において、複数の独立したハウジング構成部品が設けられ、それらのうちの1つだけが接地されており、その他は接地されていない、図15と類似するヘアケア装置の透視図。
【発明を実施するための形態】
【0035】
図1及び2に示されたヘアケア装置1は、装置ベース本体2を含み、この装置ベース本体2はグリップ3を有し、後に説明される電子装置を本体内部又はアウタシェルに有している。前記のグリップ3は、機能ヘッド4を保持しており、この機能ヘッド4には、ヘアトリートメント器具5として、装置前面7にブラシの毛部分6が取り付けられている。しかしながら、ヘアケア装置がヘアフォーム装置及び/又はヘアドライヤーとして形成されている場合は、例えば、ヘアアイロン又はヘアフォームエレメント又は必要に応じて送風出口などのその他のヘアトリートメントツールも備えることができることは自明である。前記のヘアトリートメントツールは、必要に応じて、互いに組み合わせることもできる。
【0036】
前記のヘアトリートメント器具5は、機能ヘッド4に一体形成で固定することができる。この代替として、ヘアトリートメント器具5は、有利な場合、交換可能に機能ヘッド4に取り付けることができ、それによって、機能ヘッド4は、様々なヘアトリートメント器具5を装備し、利用することが可能となる。
【0037】
有利であるのは、この場合、ヘアケア装置1が互いに接合可能な複数のモジュールによるモジュール構造を有していることであり、その際、特に、機能ヘッド4全体及び/又は前記の方法ではヘアトリートメント器具5を、装置のベース本体2から独立して形成することができる。この場合、異なるモジュールとの間で、例えばラッチ凸部及びラッチ凹部の形でのポジティブロックに働く接続手段を設けることができ、このようなラッチは、ツールを用いないモジュールの脱着を可能にする。
【0038】
図1及び2に示されるように、ヘアトリートメント器具5の反対側の装置背面8の装置ベース本体2上には、更に、イオン供給装置9が設けられており、この装置は、装置ベース本体2の内部に配置されているイオンエミッターを有し、及び/又はイオン出口11に配置されている、イオンを排出するための高圧エレメント12を有することができる。前記の高圧エレメント12は、この場合、ケース又はカバーのような形の出口ハウジング13の中に配置され、この出口ハウジング13は、その出口面14に流出開口部17を有し、排出されるイオンはこの開口部から流出することができる。
【0039】
図に示されている実施形態では、イオン出口11がノズル形又はディフューザーのように形成され、イオンの流出する向きを調整するのに作用する(図2を参照)。この場合、有利であるのは、イオン出口11が、ブラシの毛部分6に対向しているか、又はブラシの毛部分6の反対側である、いわゆるヘアブラシの背を形成する装置背面8に配置されていることである。有利な場合、このとき、イオン出口11は、図2の図の平面を形成する長手方向中心面18に配置されており、イオン出口11の主要排出方向19が、裏側の装置表面に対してわずかに鋭角に傾けられており、装置表面から逸れた方向に向けられている(図2を参照)。この場合、傾斜角は0°〜45°であるのが有利であり、図に示された実施形態では、有利な場合、ほぼ20°〜30°とすることができる。図1及び2に示されているように、このとき、イオン出口11は、ブラシの毛部分6の反対側に位置する機能ヘッドの背面の端に配置されているため、イオン出口11から流出するイオンは、機能ヘッド4の背面上にイオン噴霧を形成する。特に、この場合、イオン出口11は、図1に示されるように、大まかに言って、ほぼグリップ3と機能ヘッド4との間に配置することができる。
【0040】
装置ベース本体2の内部には、特に図に示されていないエネルギー供給ユニットが収納されており、有利な場合には、このユニットをバッテリ又は蓄電池の形で形成することができる。有利であるのは、ヘアケア装置1がエネルギーを自給するように形成されていることであり、すなわち、この装置には、コンセントからの電流が供給される常設の電源装置がない。もちろん、装置ベース本体2内部のバッテリに充電するための電源ケーブルを挿入することはできる。前記のエネルギー供給ユニットによって、イオンを発生させるために、イオン供給装置9にエネルギーが供給される。
【0041】
有利な場合、図2に示されているように、不要な装置の帯電を防止し、装置動作の安全性を向上させるため、ヘアケア装置11には接地装置20が装備されている。図2に示されている実施形態においては、接地装置20が、機能ヘッド4の部分に接地面21を有することができ(「第3の接地面」)、この接地面が、機能ヘッド4の部分、特にヘアトリートメント器具5の部分において、高い電荷フィールドが形成されるのを遮断する。図2による実施形態では、接地面21が、直接、ヘケトリートメント装置5に接続されており、その際、この接地面は、キャリアとして形成され、ヘアトリートメント器具5の下にあり、接地面の上にヘアトリートメント器具が固定されている(図2を参照)。有利なことに、ここでは、接地面21が、金属表面及び/又は金属コーティングからなり、通常は、プラスチックから形成される機能ヘッド本体の上に取り付けられている。接地面21は、特に、装置の内部に配置されているグラウンドモジュールの内部で、装置電位に接続することが可能である。
【0042】
この代替又は補足として、機能ヘッド側の接地面21は、ブラシの毛部分6のエッジに配置されている金属表面体を、有利な場合には金属帯の形で有することも可能であり、この金属帯は、環状にブラシの毛部分6を取り囲むか、又は、図3に示されているように、U字型に3つの側面を取り囲んでいる。ブラシの毛部分6及び機能ヘッド4の残りの本体部は、非導電性に形成され、特にプラスチックから作ることができる。図3に従って、ブラシの毛部分6のエッジに接地面21が取り付けられている場合、ブラシの毛部分6を取り囲む接地面21の範囲は、この部分に発生する帯電を相殺するのに十分な範囲である。有利であるのは、金属帯が、ヘアトリートメント器具5の周囲の少なくとも50%に広がっていることである。
【0043】
図4及び5に示されているように、ヘアケア装置1は、装置背面8に複数のイオン出口11を有することもでき、この場合、図4及び5に示されている実施形態では、2つのイオン出口11が設けられ、これらのイオン出口11は、装置の長手方向から見て同じ高さに配置され、長手方向の中心面18に関して左右対称に位置決めされている。有利であるのは、この場合、イオン出口11が機能ヘッドの背面の端に配置されており、その際、イオン噴霧を均等に分配するために、それらのイオン出口11が、60°〜120°の角度で、好ましくは約90°の角度をつけて互いに傾けられていることである。このとき、図に示された実施形態においては、イオン出口11の主要排出方向18が、装置背面8の表面と平行に調整されているため、イオンは、実質的に機能ヘッド背面と平行に流出する。図に示された形態においては、この場合、イオン出口11が、イオンを違った方向に流出させるため、機能ヘッド4又はその背面上にイオン噴霧が均等に分配される。
【0044】
この図4及び5による実施形態の代替として、長手方向の中心面18に複数のイオン出口11を配置することも可能である(図6及び7を参照)。この場合、有利であるのは、2つのイオン出口11が、互いに向かい合っており、その際、機能ヘッドの背面上に発生するイオン噴霧を流出させるために、これらのイオン出口11が、機能ヘッドの背面の端部における対向する両側に配置されていることである(図6及び7を参照)。
【0045】
有利な場合、2つのイオン出口11は装置背面の表面に対して様々な角度に傾けることができる。一方のイオン出口の主要排出方向18は、実質的に装置背面8の表面と平行に調整され、もう一方のイオン出口11は、装置背面の前記表面に対して、好ましくは0°〜40°の角度で、特に10°〜30°の角度でわずかに鋭角に傾けられている。図6及び7に示されるように、この場合、特に有利であるのは、グリップ3と機能ヘッド4との間の移行部に配置されているイオン出口11がわずかに傾けられ、グリップ3から離れた機能ヘッドの背面の端部に配置されたイオン出口11は、装置背面8と平行に配置されることである。
【0046】
図8〜10に示されるように、有利であるのは、前記の接地装置20が、この場合、イオン出口11に組み込まれた接地面22(「第1の接地面」)をも含んでいることである。この場合、特に、この接地面22は、イオンエミッター又はその高圧エレメント12を取り囲む出口ハウジング13のハウジング外面上に設けられている。図8にもっとも良く示されているように、大まかに言って、ケースの形をした出口ハウジング13は、正面を形成する出口面14を有し、その出口面14に、排出されるイオンを流出するための流出開口部17が設けられている。高圧エレメント12は、出口ハウジング13の中央に配置されるとともに、出口ハウジング13内部において、前記の流出開口部17の少し手前で終了している(図10を参照)。この高圧エレメント12は、典型的な場合には、ワイアを有しているか、又は、通常、絶縁被覆の中に通されているワイアからなり、一方、出口ハウジングは、通常、その他の、第3の材料、例えばプラスチックからなる(図10では、素材の区別は明らかにされていない)。
【0047】
図8〜10による実施形態では、高圧エレメント12に関して周辺側の側面16に、接地面22が取り付けられている。この接地面は、図8〜10に従って、装置ベース本体2に向けられている出口ハウジング13の底面であることができる。この代替又は補足として、接地面は、図12に示されるように、出口ハウジング13の側壁面16でもよい。
【0048】
図8〜10に従って、出口ハウジング13の底面全体は、接地面22として、特に金属表面の形に形成されており、この場合、ハウジング本体は、通常、非導電性に形成され、特にプラスチックから作ることができる。図11に示されているように、出口ハウジング13の該当する面(図11の場合は底側の面)には、部分的にのみ接地面22を取り付けることができる。すなわち、接地面22は、必ずしも側面全体を覆う必要はない(図11を参照)。
【0049】
図12による実施形態の場合も、側面16の半分だけが、接地面22として形成されている。
【0050】
図13に示されているように、出口面14の反対側に位置する、出口ハウジング13の背面も接地面22として形成することができる。
【0051】
図14には、更なる実施形態が示されている。ここでは、互いに対向する出口ハウジング13の側面16にそれぞれ接地面22が取り付けられており、この場合、図に示された実施形態では、これらの接地面が、側面16を部分的に覆う帯の形にのみ形成されている。
【0052】
図15は、本発明の更なる実施形態によるヘアケア装置1を示している。特に説明がない限り、このヘアケア装置は、これまでの実施形態に相当し、その場合、図15には、対応する構成部品と一致する番号が使用されている。図15によるヘアケア装置は、機能ヘッドの背面全体が接地されていることによって、これまでのものとは実質的に異なっている。機能ヘッド4の背面を形成し、イオン出口11を取り囲んでいるハウジング構成部品108は、非導電性材料、特にプラスチックからなるため、ハウジング構成部品108は静電気を帯電する。しかしながら、前記のハウジング構成部品108は、高圧回路のグラウンドへの接続によって接地されることによって、静電気の帯電は不可能ではないが、十分に制限されるため、帯電によって生じる電気フィールドは小さく、イオン出口からのイオンの拡散は妨げられない。電気的接地は、この場合、接地面122(「第2の接地面」)によって行うことができる。ここでは、接地面122を、ハウジング構成部品108内のボルトボスの中にある、電気的に接続されるボルトとしても形成することができる。この代替又は補足として、ハウジング構成部品108への金属電極の接地圧を、好ましくは、ハウジング構成部品の内部に取り付けることができる。両方の場合も、グラウンドに接続されている接地面がハウジング構成部品18に設けられ、ハウジング構成部品の静電気帯電を防止又は抑制している。
【0053】
図15に示されるように、イオン出口11周辺において、接地されているハウジング構成部品108は、実質的に裏側の装置本体表面の全体又は一部に広がっており、その上にイオン出口11から流出するイオン噴霧が広がる。接地されているハウジング構成部品108は、この場合、イオン出口11の出口面14とは反対の、イオン出口11の後部から開始して、特に広い範囲に、イオン出口11の前まで、すなわち、イオン出口11からのイオンの排出方向から見て前記のイオン出口11の下流へ広がっている(図15を参照)。イオン出口11は、接地されているハウジング構成部品108の表面において、いわば島を形成しており、その際、ハウジング構成部品108の大部分(図に示されている実施形態ではハウジング構成部品108の3分の2以上)は、イオン出口11の排出側に位置している(図15を参照)。
【0054】
前記のイオン出口11は、この場合、前記のハウジング構成部品108の中に一体形成されており、特に、このハウジング構成部品は、イオン出口11の流出開口部17のスペースを作るため、ドーム形に膨張し、流出開口部17は、図に示された実施形態では、イオンエミッターを出口側で取り囲んでいる、好ましくはプラスチック製のスリーブ170によって形成される(図15を参照)。
【0055】
図15に示されている、イオンエミッターの流出範囲において、ハウジング構成部品の全体を覆う接地の替わりに、図16に示されているように、イオン出口11の周辺において、複数の、独立したハウジング構成部品108a及び108bを設け、それらの少なくとも1つが接地され、その他の少なくとも1つは接地されていないようにすることができる。接地されていない部分は静電気に帯電することができ、それによってイオンの向きが変えられる。これとは反対に、接地されている部分によって、イオンは障害なく広がることができるため、結果的にイオン噴霧の制御が可能となる。イオン出口11の周辺において、接地されているハウジング構成部品と接地されていないハウジング構成部品のパターンは、この限りにおいて、イオンガイド装置を形成する。
【0056】
図16に示されているように、このイオンガイド装置又は接地されているハウジング構成部品及び接地されていないハウジング構成部品108a及び108bのパターンは、有利な場合、ヘアケア装置1の長手方向の中心面18に対して左右対称に配置されるか、又は形成されることができる。具体的には、図16で示されている、イオン出口11から不等辺四角形に広がっている中央のハウジング構成部品108aが前記の方法で接地されている。この中央の帯形のハウジング構成部品108aの左右には、2つの側面のハウジング構成部品108bが取り付けられ、これらは接地されていないため、静電気に帯電することができる。この実施例の場合、イオンガイド装置は、いわゆる流出ダクト又は流出ルートを形成し、これによりイオン流出が適切な方向へ向けられ、側面へ大きく広がるのを抑制する。しかし、適用に応じて、イオン噴霧の広がりを適切に制御できるようにするため、接地又は非接地のハウジング構成部品による別のパターンも適用に従って準備することができる。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
グリップ(3)と、該グリップ(3)に接続可能であり、とくにブラシの毛部分及び/又は歯の部分(6)であるヘアトリートメント器具(5)を有する機能ヘッド(4)と、を備えるヘアケア装置であり、
前記ヘアトリートメント器具(5)の反対側の装置背面(8)と、少なくとも1つのスイッチユニット、イオン源、イオン出口(11)及び該イオン出口(11)を取り囲むスリーブ(13、170)を有する、髪にイオンを供給するためのイオン供給装置(9)と、を更に備えるヘアケア装置であって、
前記イオン出口(11)周辺のハウジング部(13)に配置され、電子電荷を消散させる/制限する接地面(22)を更に備え、
前記イオン源は、前記接地面の電位レベルに対して、−10〜−3KVの電位レベルをもち、
前記スリーブ(13、170)は、前記接地面の電位レベルに対して、−2.5〜−1KV又は前記イオン源の電位レベルの20%〜50%の電位レベルをもち、
前記装置背面(8)は、前記接地面の電位レベルに対して、−500〜−100V又は前記イオン源の電位レベルの2%〜10%の電位レベルをもつことを特徴とする、ヘアケア装置。
【請求項2】
前記スイッチユニットが、前記接地面と同じ電位レベルをもつ、請求項1に記載のヘアケア装置。
【請求項3】
前記装置背面(8)が、前記イオン出口(11)周辺において、好ましくは構成部品内部に、少なくとももう1つの接地面(122)を備えている、請求項1又は2に記載のヘアケア装置。
【請求項4】
前記もう1つの接地面(122)が、ハウジング構成部品(108)に配置されており、該ハウジング構成部品(108)が、イオン排出方向に見て、前記イオン出口(11)の下流に、該イオン出口(11)に隣接して配置されている、請求項3に記載のヘアケア装置。
【請求項5】
少なくとも1つの接地面(22、122)が、金属表面を有し、該金属表面が、前記イオン出口(11)周辺において、前記機能ヘッド(4)及び/又は前記ハウジング部(13)の、非導電性の、好ましくはプラスチックからなる、本体部及び/又はハウジング壁部に取り付けられている、請求項1〜4のいずれか一項に記載のヘアケア装置。
【請求項6】
前記機能ヘッド(4)に、更なる接地面(21)が配置されている、請求項1〜5のいずれか一項に記載のヘアケア装置。
【請求項7】
前記機能ヘッド(4)に取り付けられている前記接地面(21)が、前記ヘアトリートメント器具(5)を少なくとも部分的に、好ましくは環状に取り囲んでいる、及び/又は、直接、前記ヘアトリートメント器具(5)に隣接して配置されている、請求項6に記載のヘアケア装置。
【請求項8】
前記接地面(22)が、前記イオン出口(11)を取り囲む前記ハウジング部(13)に配置されるとともに、前記イオン出口(11)で、イオンを排出するための高圧エレメント(12)を取り囲むハウジング表面を形成する、請求項1〜7のいずれか一項に記載のヘアケア装置。
【請求項9】
前記イオン出口(11)を取り囲む前記ハウジング部(13)が、イオンを流出させるための流出開口部(17)の設けられている出口面(14)と、少なくとももう1つの閉じられたハウジング側面(16)と、を有し、前記接地面(22)が、前記閉じられた側面に設けられている、請求項8に記載のヘアケア装置。
【請求項10】
前記イオン出口(11)を取り囲むハウジング部(13)が、スリーブとして形成されている、請求項8又は9に記載のヘアケア装置。
【請求項11】
前記イオン出口(11)の前記出口面(14)が、対向電極がないように形成されている、請求項1〜10のいずれか一項に記載のヘアケア装置。
【請求項12】
唯一の前記イオン出口(11)又はすべての前記イオン出口(11)が、前記ヘアトリートメント器具(5)の反対側の前記装置背面(8)に配置されている、請求項1の前提部分又は請求項1〜11のいずれか一項に記載のヘアケア装置。
【請求項13】
前記機能ヘッド背面上に発生するイオン噴霧が製造可能であるように、少なくとも1つの前記イオン出口(11)又はすべての前記イオン出口(11)が、前記機能ヘッド(4)の前記背面の端部に配置されている、請求項1〜12のいずれか一項に記載のヘアケア装置。
【請求項14】
前記イオン供給装置(9)にエネルギーを供給するためのエネルギーアキュムレータが、好ましくはバッテリ及び/又は蓄電池の形で設けられている、請求項13に記載のヘアケア装置。
【請求項15】
前記機能ヘッド(4)及び/又は前記ヘアトリートメント器具(5)が、前記グリップ(3)を形成する装置ベース本体(2)から取り外し可能に固定されている、請求項14に記載のヘアケア装置。
【請求項1】
グリップ(3)と、該グリップ(3)に接続可能であり、とくにブラシの毛部分及び/又は歯の部分(6)であるヘアトリートメント器具(5)を有する機能ヘッド(4)と、を備えるヘアケア装置であり、
前記ヘアトリートメント器具(5)の反対側の装置背面(8)と、少なくとも1つのスイッチユニット、イオン源、イオン出口(11)及び該イオン出口(11)を取り囲むスリーブ(13、170)を有する、髪にイオンを供給するためのイオン供給装置(9)と、を更に備えるヘアケア装置であって、
前記イオン出口(11)周辺のハウジング部(13)に配置され、電子電荷を消散させる/制限する接地面(22)を更に備え、
前記イオン源は、前記接地面の電位レベルに対して、−10〜−3KVの電位レベルをもち、
前記スリーブ(13、170)は、前記接地面の電位レベルに対して、−2.5〜−1KV又は前記イオン源の電位レベルの20%〜50%の電位レベルをもち、
前記装置背面(8)は、前記接地面の電位レベルに対して、−500〜−100V又は前記イオン源の電位レベルの2%〜10%の電位レベルをもつことを特徴とする、ヘアケア装置。
【請求項2】
前記スイッチユニットが、前記接地面と同じ電位レベルをもつ、請求項1に記載のヘアケア装置。
【請求項3】
前記装置背面(8)が、前記イオン出口(11)周辺において、好ましくは構成部品内部に、少なくとももう1つの接地面(122)を備えている、請求項1又は2に記載のヘアケア装置。
【請求項4】
前記もう1つの接地面(122)が、ハウジング構成部品(108)に配置されており、該ハウジング構成部品(108)が、イオン排出方向に見て、前記イオン出口(11)の下流に、該イオン出口(11)に隣接して配置されている、請求項3に記載のヘアケア装置。
【請求項5】
少なくとも1つの接地面(22、122)が、金属表面を有し、該金属表面が、前記イオン出口(11)周辺において、前記機能ヘッド(4)及び/又は前記ハウジング部(13)の、非導電性の、好ましくはプラスチックからなる、本体部及び/又はハウジング壁部に取り付けられている、請求項1〜4のいずれか一項に記載のヘアケア装置。
【請求項6】
前記機能ヘッド(4)に、更なる接地面(21)が配置されている、請求項1〜5のいずれか一項に記載のヘアケア装置。
【請求項7】
前記機能ヘッド(4)に取り付けられている前記接地面(21)が、前記ヘアトリートメント器具(5)を少なくとも部分的に、好ましくは環状に取り囲んでいる、及び/又は、直接、前記ヘアトリートメント器具(5)に隣接して配置されている、請求項6に記載のヘアケア装置。
【請求項8】
前記接地面(22)が、前記イオン出口(11)を取り囲む前記ハウジング部(13)に配置されるとともに、前記イオン出口(11)で、イオンを排出するための高圧エレメント(12)を取り囲むハウジング表面を形成する、請求項1〜7のいずれか一項に記載のヘアケア装置。
【請求項9】
前記イオン出口(11)を取り囲む前記ハウジング部(13)が、イオンを流出させるための流出開口部(17)の設けられている出口面(14)と、少なくとももう1つの閉じられたハウジング側面(16)と、を有し、前記接地面(22)が、前記閉じられた側面に設けられている、請求項8に記載のヘアケア装置。
【請求項10】
前記イオン出口(11)を取り囲むハウジング部(13)が、スリーブとして形成されている、請求項8又は9に記載のヘアケア装置。
【請求項11】
前記イオン出口(11)の前記出口面(14)が、対向電極がないように形成されている、請求項1〜10のいずれか一項に記載のヘアケア装置。
【請求項12】
唯一の前記イオン出口(11)又はすべての前記イオン出口(11)が、前記ヘアトリートメント器具(5)の反対側の前記装置背面(8)に配置されている、請求項1の前提部分又は請求項1〜11のいずれか一項に記載のヘアケア装置。
【請求項13】
前記機能ヘッド背面上に発生するイオン噴霧が製造可能であるように、少なくとも1つの前記イオン出口(11)又はすべての前記イオン出口(11)が、前記機能ヘッド(4)の前記背面の端部に配置されている、請求項1〜12のいずれか一項に記載のヘアケア装置。
【請求項14】
前記イオン供給装置(9)にエネルギーを供給するためのエネルギーアキュムレータが、好ましくはバッテリ及び/又は蓄電池の形で設けられている、請求項13に記載のヘアケア装置。
【請求項15】
前記機能ヘッド(4)及び/又は前記ヘアトリートメント器具(5)が、前記グリップ(3)を形成する装置ベース本体(2)から取り外し可能に固定されている、請求項14に記載のヘアケア装置。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【公表番号】特表2010−534539(P2010−534539A)
【公表日】平成22年11月11日(2010.11.11)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−518548(P2010−518548)
【出願日】平成20年7月25日(2008.7.25)
【国際出願番号】PCT/EP2008/006132
【国際公開番号】WO2009/015833
【国際公開日】平成21年2月5日(2009.2.5)
【出願人】(591027846)ブラウン、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング (50)
【氏名又は名称原語表記】Braun GmbH
【Fターム(参考)】
【公表日】平成22年11月11日(2010.11.11)
【国際特許分類】
【出願日】平成20年7月25日(2008.7.25)
【国際出願番号】PCT/EP2008/006132
【国際公開番号】WO2009/015833
【国際公開日】平成21年2月5日(2009.2.5)
【出願人】(591027846)ブラウン、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング (50)
【氏名又は名称原語表記】Braun GmbH
【Fターム(参考)】
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