説明

気体浮上ステージ装置及び基板検査装置

【課題】安価かつ簡便に流量を制限することができる気体噴出ノズルを提供する。
【解決手段】気体浮上ステージは多数の気体供給ノズルから噴出する気体噴流を基板の下面に吹き付けることによって基板を浮上移動させる。気体供給ノズルは雌ねじを形成する工程で作成された螺旋部を気体の流路中に備えている。螺旋部備えた気体噴出ノズルは雌ねじを形成する工程によって作成されているので、ステージの全面に安価かつ簡便に形成することができ、この螺旋部によって流量を制限することができる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、基板の下面に気体を吹き付けることによって基板を浮上させた状態で移動させる気体浮上ステージ装置及びこの気体浮上ステージ装置を用いて基板上の異物等を検査する基板検査装置に関する。
【背景技術】
【0002】
最近では、液晶ディスプレイ用のガラス基板の製造過程ではスループット向上等のためエア浮上を利用したステージが広く利用されている。通常エア浮上ステージに利用されているノズルは単純ノズルと呼ばれる真っ直な管で構成されたものや多孔質材を利用したものが使用されている。これらのノズルでは、装置稼動時において常時エアを供給し続けることが余儀なくされる。そのため、エアの必要流量は膨大となってしまう。
特許文献1には、気体を噴射するノズル内にフィンを形づくることで流量を制限する方法が提案されている。これにより上記問題を解決しながら、気体による力を誘導し浮上させることを可能としている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特表2003−507681公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、特許文献1に示すものは、ノズル径は通常2〜3mm程度となっており非常に小さい。そのため、ノズル内に多数のフィンを精度よく形成するには高度な技術を必要とするためステージの価格を高価なものとしている。また、基板サイズの大型化が進むとステージの大型化も避けられず必要なノズル数も多数となり、それに連れてステージの価格も急激に上昇するとこととなり、好ましくない。また、ノズルに精度よくフィンを形成できたとしても多大な作業時間がかかり、コストの増加につながる。
【0005】
本発明は、上述の点に鑑みてなされたものであり、安価かつ簡便に流量を制限することのできるノズルを備えた気体浮上ステージ装置及び基板検査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明に係る気体浮上ステージ装置の第1の特徴は、多数の気体供給ノズルから噴出する気体噴流を基板の下面に吹き付けることによって前記基板を浮上させながら移動させる気体浮上ステージ装置おいて、前記気体供給ノズルが雌ねじを形成する工程で作成された螺旋部を前記気体の流路中に備えた螺旋状気体噴出ノズルから構成されることにある。これは、気体供給ノズルに対して雌ねじを形成する工程によって螺旋部を作成するようにしたものである。これによって、気体浮上ステージの全面に安価かつ簡便に螺旋部を備えた気体供給ノズルを形成することができる。
【0007】
本発明に係る気体浮上ステージ装置の第2の特徴は、前記第1の特徴に記載の気体浮上ステージ装置において、前記気体浮上ステージ装置が前記基板の移動方向に対して垂直な方向に分割された長尺状の複数のエア噴出板手段から構成されることにある。これは、気体浮上ステージが複数の分割ステージから構成される点を明確にしたものである。
【0008】
本発明に係る気体浮上ステージ装置の第3の特徴は、前記第1の特徴又は第2の特徴に記載の気体浮上ステージ装置において、前記気体供給ノズルの気体噴き出し側の穴形状が円柱状であり、この円柱状に隣接して前記螺旋部が形成されていることにある。これは、気体供給ノズルの形状を特定したものであり、気体の噴き出し口側は通常の単純ノズルと呼ばれる円柱穴で構成され、この円柱穴に隣接した内側に螺旋部が設けられたものである。
【0009】
本発明に係る気体浮上ステージ装置の第4の特徴は、前記第3の特徴に記載の気体浮上ステージ装置において、前記気体供給ノズルへの気体供給側の穴形状が円柱状に形成されたことにある。これは、気体供給ノズルの供給口と排出口の両端部が単純ノズル構成の円柱穴で形成され、その中間に螺旋部が設けられているものである。
【0010】
本発明に係る基板検査装置の第1の特徴は、多数の気体供給ノズルから噴出する気体噴流を基板の下面に吹き付けることによって前記基板を浮上させながら移動させる気体浮上ステージ装置手段と、前記気体浮上ステージ手段によって移動する前記基板の欠陥を検査する基板検査手段とを備えた基板検査装置において、前記気体供給ノズルが雌ねじを形成する工程で作成された螺旋部を前記気体の流路中に備えた螺旋状気体噴出ノズルから構成されることにある。これは、前記気体浮上ステージ装置の第1の特徴を利用した基板検査装置の発明である。
【0011】
本発明に係る基板検査装置の第2の特徴は、前記第1の特徴に記載の基板検査装置において、前記気体浮上ステージ手段が前記基板の移動方向に対して垂直な方向に分割された長尺状の複数のエア噴出板手段から構成されることにある。これは、前記気体浮上ステージ装置の第2の特徴を利用した基板検査装置の発明である。
【0012】
本発明に係る基板検査装置の第3の特徴は、前記第1又は第2の特徴に記載の基板検査装置において、前記気体供給ノズルの気体噴き出し側の穴形状が円柱状であり、この円柱状に隣接して前記螺旋部が形成されていることにある。これは、前記気体浮上ステージ装置の第3の特徴を利用した基板検査装置の発明である。
【0013】
本発明に係る基板検査装置の第4の特徴は、請求項7に記載の基板検査装置において、前記気体供給ノズルへの気体供給側の穴形状が円柱状に形成されたことにある。これは、前記気体浮上ステージ装置の第4の特徴に利用した基板検査装置の発明である。
【発明の効果】
【0014】
本発明によれば、安価で簡便に流量を制限できるノズルを形成することができる。また、必要なエアの流量をおさえることのできるノズルを、雌ねじを切る要領で、螺旋部を形成することで安価で簡便に作成することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【図1】本発明の基板検査装置の概略構成を示す図である。
【図2】図1の浮上ステージの詳細構成を示す概略図である。
【図3】浮上ステージの各分割ステージに設けられたエア供給ノズルの詳細構成を示す図である。
【図4】螺旋状気体噴出ノズルを生成する過程を示す図である。
【図5】螺旋状気体噴出ノズルの寸法を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0016】
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。図1は、本発明の基板検査装置の概略構成を示す図である。この実施の形態に係る基板検査装置は、液晶ディスプレイ用のガラス基板を検査するガラス基板検査装置である。このガラス基板検査装置は本体フレーム101上に浮上ステージ102が設置されている。浮上ステージ102はステージ上の基板100をエア浮上させる。本体フレーム101の上部には光学フレーム103が設置してある。光学フレーム103は、本体フレーム101の長手方向(X方向)に沿って、その両端部に設けられたボールねじ104の送りに応じて本体フレーム101上を長手方向(X方向)に沿って移動する。
【0017】
光学フレーム103の移動方向(X方向)と直交する方向をY方向とする。光学フレーム103上には、光学検査部105が設置してある。光学検査部105は光学フレーム103上をY方向に移動する。これら光学フレーム103をX方向に、光学検査部105をY方向にそれぞれ移動させることで、光学検査部105は浮上ステージ102上の基板100の全体を検査できるように構成されている。
【0018】
図2は図1の浮上ステージの詳細構成を示す概略図である。図に示すように、浮上ステージ102はX方向に2分割、Y方向に4分割された8つの分割ステージ200〜207で構成される。これらの分割ステージ200〜207にはエア供給ノズルと真空ノズルが表面全体にわたって規則的に多数設けられている。
【0019】
基板100は図示してない搬送ロボットによって浮上ステージ102上に供給される。このとき分割ステージ200と分割ステージ201との間、分割ステージ201と分割ステージ202との間に搬送ロボットのハンドが侵入できるようになっている。浮上ステージ102上に供給された基板100は、チャック機構212に保持され、浮上ステージ102の各表面のエア供給ノズルから噴出するエアによって所定の空間位置に保持される。基板100は、チャック機構212を含む搬送機構213によって浮上ステージ102上をX方向に移動する。搬送機構213は、ボールねじ送り機構にて基板100を移動させる。
【0020】
X方向に移動した基板100が光学検査部105の下側に達するとそこで光学的検査が行われる。この光学検査部105は、例えば発光手段と受光手段を備えたものからなり、発光手段からレーザ光を基板100の表面に向けられて斜め上方から照明光を照射させて、受光手段によって基板100表面からの反射光を受光するような構成が用いられる。これにより、基板100に異物が付着しているか否かなどの基板中の欠陥を検査している。基板100が一度光学検査部105を通過し、1ライン分の検査が終了すると、光学検査部105がY方向にシフトし、次のラインの検査を行う。これらの動作を繰返し行うことで基板100の全面検査を可能とする。基板100全面の検査が終了すると基板100の良否判定を行い、基板100は次の工程へ流される。
【0021】
図3は浮上ステージの各分割ステージに設けられたエア供給ノズルの詳細構成を示す図である。分割ステージ200〜208に設けられた多数のエア供給ノズルは、図3(A)に示すようにステージ上面から見た形状が単純な円形であり、ステージ表面に平行な面における断面形状も同じく単純な円形であり、ステージの横方向から見た横断面形状が直管となっている単純ノズル210ではなく、図3(B)に示すようにステージ上面から見た形状が二重円形をしており、ステージ表面に平行な面における断面形状は円形状をしているが、ステージ表面からの距離に応じて円の中心が螺旋状に変動しており、ステージの横方向から見た横断面形状は互いにピッチのずれたネジ山が交互に対向した螺旋部300を単純ノズル210の途中に備えた螺旋状気体噴出ノズルを構成している。
【0022】
図3(C)に示すように螺旋状気体噴出ノズル310の上側、すなわち浮上ステージ102の各分割ステージ200〜208の上面に基板100が存在する場合、基板100が螺旋状気体噴出ノズル310のエア出口部分で障害物となるため螺旋状気体噴出ノズル310の出口付近の圧力は上昇する。この場合、螺旋状気体噴出ノズル310へのエアの給気圧とノズル出口付近の排気圧との圧力差が小さくなり、気体であるエアは螺旋状気体噴出ノズル310に沿ってスムーズに流れ、その状態が安定的に保たれる。
【0023】
一方、図3(B)に示すように螺旋状気体噴出ノズル310の上側、すなわち浮上ステージ102の各分割ステージ200〜208の上面に基板100が存在しない場合、螺旋状気体噴出ノズル310の出口部分には障害物となるものが無い状態といえる。この場合における螺旋状気体噴出ノズル310の出口付近の圧力は大気圧と同じなので、図3(B)に示すような場合には、螺旋状気体噴出ノズル310へのエアの給気圧とノズル出口付近の排気圧との間の圧力差が大きい状態となり、気体(エア)の速度(流速)は基板100が螺旋状気体噴出ノズル310の上面に存在しない場合(図3(B)の場合)に比べ一時的に高くなる。
【0024】
螺旋状気体噴出ノズル310の出口部分に障害物が存在しない状態で気体の速度が高くなると、螺旋状気体噴出ノズル310の螺旋部300によって気体(エア)の一部が剥離し、図3(B)に示すように螺旋部300に渦が発生する。螺旋部300に発生した渦は、螺旋状気体噴出ノズル310内の流路を狭めるように作用する。これによって螺旋状気体噴出ノズル310の流路断面積が減少し、螺旋状気体噴出ノズル310を通過する気体の流量が減少する。
【0025】
浮上ステージ102が図3(A)に示すような単純ノズル210で構成されている場合に、浮上ステージ102上に基板100が存在しない状態の時には、単純ノズル210に対するエアの給気圧と単純ノズル210の出口付近の排気圧との間の圧力差は大きくなる。これは螺旋状気体噴出ノズル310を使用した場合(図3(B))と同様である。ところが、単純ノズル210の場合はノズル内の流路で気体の剥離現象が起こらないので、気体の流量は減少することなく、螺旋状気体噴出ノズル310を使用した場合に比べ多量のエアが単純ノズル210内を通過し排出することとなる。
【0026】
以上のように、螺旋状気体噴出ノズル310を用いて浮上ステージ102を構成することによって、基板100が螺旋状気体噴出ノズル310の上側(浮上ステージ102上面)に存在しない場合には、螺旋状気体噴出ノズル310から噴出するエアの流量を抑えることが可能となる。これによって浮上ステージ102全体で必要なエアの流量を抑える(制限する)ことが可能となる。
【0027】
図4は、螺旋状気体噴出ノズルを生成する過程を示す図である。図4(A)はノズルを生成する前の状態の分割ステージ200の長手方向に沿った断面形状を示す図である。まず、第1のステップとして、図4(B)に示すように、分割ステージ200に複数のメネジを形成するのと同じ要領で螺旋部300を分割ステージ200の上面及び下面が貫通するように形成する。第2のステップとして、分割ステージ200の上面側から螺旋状気体噴出ノズル310の上面側の開口部径と同径のドリルを用いて単純ノズルと同形状の円柱穴を開ける。第3のステップとして、分割ステージ200の下面側から螺旋状気体噴出ノズル310の下面側の開口部径と同径のドリルを用いて単純ノズルと同形状の円柱穴402を開ける。以上のようにして、分割ステージ200の上側の円柱穴401と下側の円柱穴402との間に螺旋部300が存在する螺旋状気体噴出ノズル310を多数備えた分割ステージ200を作成することができる。
【0028】
円柱穴401と円柱穴402との間に螺旋部300が存在する螺旋状気体噴出ノズル310の形状の詳細について説明する。図5は、螺旋状気体噴出ノズルの寸法を示す図である。螺旋状気体噴出ノズル310の形状を変化させる第1の方法として、図5に示す螺旋部300の高さ(ねじ山の高さ)tを変化させる方法がある。螺旋部300の高さtを大きくすると、流路が急激に変わることになる。そのため、気体の速度が高くなったときに剥離が発生し易くなる。
螺旋状気体噴出ノズル310の形状を変化させる第2の方法として、図5に示す螺旋部300(ねじ山)のピッチPを変化させる方法がある。螺旋部300の高さtを変化させる場合と同様に螺旋部300のピッチPを変化させることで、気体剥離のおきやすさを変化させることが可能となる。螺旋部300の高さt及び/又は螺旋部300のピッチPを変化させた螺旋状気体噴出ノズル310を成形するには、雌ねじを加工するための機具の形状等を変化させることで可能である。
【0029】
螺旋状気体噴出ノズル310の形状を変化させる第3の方法として、図5に示す螺旋部300の長さLを変化させる方法がある。また、第4の方法として、図5に示すステージ上面と螺旋部300との間の距離mを変化させる方法がある。これら第3、第4の方法は図4に示すノズル生成過程における穴開け工程でその穴の深さを変更することで可能となる。
螺旋状気体噴出ノズル310の形状を変化させる第5の方法として、図5に示す螺旋状気体噴出ノズル310の直径Dを変化させる方法がある。第6の方法として、螺旋状気体噴出ノズル310のノズル出口をテーパー状にする方法がある。これらの第5、第6の方法は、図4に示すノズル生成過程が終了した後に出口部を加工することで可能となる。なお、気体の流量を抑える(制限する)ためには、螺旋部300の高さtや螺旋状気体噴出ノズル310の直径Dを適宜調整することで可能である。
【符号の説明】
【0030】
100…基板、
101…本体フレーム、
102…浮上ステージ、
103…光学フレーム、
104…ボールねじ
105…光学検査部、
200〜208…分割ステージ、
210…単純ノズル、
212…チャック機構、
213…搬送機構、
300…螺旋部、
310…螺旋状気体噴出ノズル、
401…円柱穴、
402…円柱穴

【特許請求の範囲】
【請求項1】
多数の気体供給ノズルから噴出する気体噴流を基板の下面に吹き付けることによって前記基板を浮上させながら移動させる気体浮上ステージ装置おいて、前記気体供給ノズルが雌ねじを形成する工程で作成された螺旋部を前記気体の流路中に備えた螺旋状気体噴出ノズルから構成されることを特徴とする気体浮上ステージ装置。
【請求項2】
請求項1に記載の気体浮上ステージ装置において、前記気体浮上ステージ手段が前記基板の移動方向に対して垂直な方向に分割された長尺状の複数のエア噴出板手段から構成されることを特徴とする気体浮上ステージ装置。
【請求項3】
請求項1又は2に記載の気体浮上ステージ装置において、前記気体供給ノズルの気体噴き出し側の穴形状が円柱状であり、この円柱状に隣接して前記螺旋部が形成されていることを特徴とする気体浮上ステージ装置。
【請求項4】
請求項3に記載の気体浮上ステージ装置において、前記気体供給ノズルへの気体供給側の穴形状が円柱状に形成されたことを特徴とする気体浮上ステージ装置。
【請求項5】
多数の気体供給ノズルから噴出する気体噴流を基板の下面に吹き付けることによって前記基板を浮上させながら移動させる気体浮上ステージ装置手段と、
前記気体浮上ステージ手段によって移動する前記基板の欠陥を検査する基板検査手段とを備えた基板検査装置において、
前記気体供給ノズルが雌ねじを形成する工程で作成された螺旋部を前記気体の流路中に備えた螺旋状気体噴出ノズルから構成されることを特徴とする基板検査装置。
【請求項6】
請求項5に記載の基板検査装置において、前記気体浮上ステージ手段が前記基板の移動方向に対して垂直な方向に分割された長尺状の複数のエア噴出板手段から構成されることを特徴とする基板検査装置。
【請求項7】
請求項5又は6に記載の基板検査装置において、前記気体供給ノズルの気体噴き出し側の穴形状が円柱状であり、この円柱状に隣接して前記螺旋部が形成されていることを特徴とする基板検査装置。
【請求項8】
請求項7に記載の基板検査装置において、前記気体供給ノズルへの気体供給側の穴形状が円柱状に形成されたことを特徴とする基板検査装置。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【公開番号】特開2013−71807(P2013−71807A)
【公開日】平成25年4月22日(2013.4.22)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−211916(P2011−211916)
【出願日】平成23年9月28日(2011.9.28)
【出願人】(501387839)株式会社日立ハイテクノロジーズ (4,325)