液体及び気体の流動を使用して内視鏡のチャネルなどの通路を洗浄する装置及び方法
液体及び気体の流動によって内視鏡又はその他の内腔医療装置内の通路の内部を洗浄する装置及び方法を開示している。液体の流動は、通路の内部表面上を運動する細流、液滴、又はその他の液状体を包含可能であり、且つ、液体と乾燥固体と気体の間に３相接触界面を包含可能である。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
通路を洗浄する方法であって、
前記通路に沿って長さ方向に気体の流動を生成するステップと、
前記通路に沿って長さ方向に液体の流動を生成するステップであって、前記液体は、界面活性剤を有する、ステップと、
を有し、
前記液体の前記流動は、約１〜約５ミリリットル／分／前記通路の周囲長のミリメートルという周囲長によって正規化された液体流量を具備し、
前記液体は、約５０度を上回る、前記通路の内部表面上における前進接触角を具備し、且つ、０度を上回る後退接触角を具備し、
前記気体流動は、前記通路に沿った少なくともどこかにおいて、約２ｍ／ｓ〜約８０ｍ／ｓの速度を具備し、且つ、
前記界面活性剤は、０．１％の界面活性剤濃度において計測された５０ｍｍを下回るＲｏｓｓ Ｍｉｌｅｓ泡高さを具備する、方法。
【請求項２】
前記気体の前記流動は、前記通路内のすべての場所において約２ｍ／ｓ〜約８０ｍ／ｓの速度を具備する請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記液体は、約３３ｄｙｎｅｓ／ｃｍ〜約５０ｄｙｎｅｓ／ｃｍの表面張力を具備する請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記液体は、約３５ｄｙｎｅｓ／ｃｍ〜約４５ｄｙｎｅｓ／ｃｍの表面張力を具備する請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記液体は、約１０度〜約３０度の後退接触角を具備する請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記界面活性剤は、約９．２を上回る平均親水性−親油性バランスを具備する請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記界面活性剤は、非イオン系界面活性剤である請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記界面活性剤は、ＢＡＳＦ社によって販売されているＰＬＵＲＯＮＩＣ（登録商標）Ｌ４３及びＰＬＵＲＯＮＩＣ（登録商標）Ｌ６２ＬＦ及びｒｅｖｅｒｓｅ ＰＬＵＲＯＮＩＣ（登録商標）１７Ｒ２、１７Ｒ４、２５Ｒ２、２５Ｒ４、３１Ｒ１などのポリエチレン酸化物−ポリプロピレン酸化物コポリマ、ＳＵＲＦＹＮＯＬ（登録商標）４６５及び４８５などのアセチレン系界面活性剤と呼ばれるグリシジルエーテル−キャップ化アセチレンジオールエトキシレート、ＴＥＲＧＩＴＯＬ（登録商標）ＭＩＮＦＯＡＭ １Ｘ（登録商標）及びＭＩＮＦＯＡＭ ２Ｘ（登録商標）などのアルコールエトキシレート、Ｓｕｒｆｏｎｉｃ Ｔ−１５などのタロウアルコールエトキシレート、ＡＯ−４５５及びＡＯ−４０５などのアルコキシル化エーテルアルコキシル化エーテルアミン酸化物、ＤＯＷＦＡＸ（登録商標）などのアルキルジフェニル酸化物ジスルホン酸塩、エトキシル化アミド、エトキシル化カルボン酸、及びアルキル又は脂肪アルコールＰＥＯ−ＰＰＯ界面活性剤からなる群から選択された物質を有する請求項１記載の方法。
【請求項９】
前記界面活性剤混合物は、約０．０６％の合計界面活性剤濃度におけるアセチレン系界面活性剤とアルコキシル化エーテルアミン酸化物の水性混合物である請求項１記載の方法。
【請求項１０】
前記液体洗浄媒体は、ｐＨ調節剤、ビルダ、金属イオン封鎖剤、曇り点消泡剤、分散剤、溶剤、ヒドロトロープ、酸化剤、及び保存剤から構成された群から選択された１つ又は複数の成分を更に有する請求項１記載の方法。
【請求項１１】
前記組成は、８．０を上回るｐＨを具備する請求項１記載の方法。
【請求項１２】
前記組成は、約９．５〜約１１．５のｐＨを具備する請求項１記載の方法。
【請求項１３】
前記気体の前記流動は、前記通路に沿った少なくともどこかに約５ｍ／ｓ〜約１５ｍ／ｓの速度を具備する請求項１記載の方法。
【請求項１４】
前記通路は、実質的に水平の向きを具備する請求項１記載の方法。
【請求項１５】
前記通路は、実質的に垂直の向きを具備する請求項１記載の方法。
【請求項１６】
通路を洗浄する方法であって、気体と液体を前記通路に同時に供給するステップを有し、前記液体及び前記気体は、前記通路の内部表面の少なくともいずれかの部分上に細流液滴流動を実現するように、前記通路内において流動する、方法。
【請求項１７】
前記細流は、サブ細流への断片化を経験する請求項１６記載の方法。
【請求項１８】
前記液体は、約５０度を上回る、前記通路の内部表面上における前進接触角を具備し、且つ、０度を上回る後退接触角を具備する請求項１６記載の方法。
【請求項１９】
前記液体を供給する前記ステップは、洗浄ステップを実現する請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
前記液体を供給する前記ステップは、プレ洗浄ステップを実現する請求項１８記載の方法。
【請求項２１】
前記液体は、アルコールを有する請求項１６記載の方法。
【請求項２２】
前記液体は、実質的に純粋な水から構成される請求項１６記載の方法。
【請求項２３】
前記液体を供給する前記ステップは、すすぎを実現する請求項２２記載の方法。
【請求項２４】
前記液体は、非霧化方式において前記通路に導入される請求項１６記載の方法。
【請求項２５】
通路を洗浄する方法であって、気体及び液体を前記通路に同時に供給するステップを有し、前記気体及び前記液体は、前記通路の少なくともいずれかの内部表面上に運動する３相接触界面を実現する、方法。
【請求項２６】
通路を洗浄する方法であって、気体及び液体を前記通路に同時に供給するステップを有し、前記気体及び前記液体は、前記通路の少なくともいずれかの内部表面上に蛇行細流を実現する、方法。
【請求項２７】
通路を洗浄する方法であって、気体及び液体を前記通路に同時に供給するステップを有し、前記気体及び前記液体は、前記通路の少なくともいずれかの内部表面上に、サブ細流に断片化する細流を実現する、方法。
【請求項２８】
通路を洗浄する方法であって、気体及び液体を前記通路に同時に供給するステップを有し、前記液体は、前記通路の入口において非霧化方式において供給され、且つ、前記通路の出口において、前記液体は、泡状ではなく、且つ、前記液体の１０％を上回らないものが霧化される、方法。
【請求項２９】
前記通路の内部表面は、交互に湿潤及び乾燥させられる請求項２８記載の方法。
【請求項３０】
前記液体は、前記通路の少なくともいくつかの内部表面上に細流液滴流動を形成する請求項２８記載の方法。
【請求項３１】
通路を洗浄する方法であって、
前記通路をプレ洗浄するステップと、
前記通路を洗浄するステップと、
前記通路をすすぐステップと、
を有し、
前記プレ洗浄ステップは、前記通路を通じて液体と気体を同時に流動させるステップを有する、方法。
【請求項３２】
前記液体及び前記気体を前記通路を通じて流動させる前記ステップは、細流液滴流動を有する請求項３１記載の方法。
【請求項３３】
通路を洗浄する方法であって、
前記通路をプレ洗浄するステップと、
前記通路を洗浄するステップと、
前記通路をすすぐステップと、
を有し、
前記すすぎステップは、前記通路を通じて液体と気体を同時に流動させるステップを有する、方法。
【請求項３４】
前記液体と前記気体を前記通路を通じて流動させる前記ステップは、細流液滴流動を有する請求項３３記載の方法。
【請求項３５】
通路を洗浄する方法であって、
前記通路の少なくとも入口において液体のプラグを形成するように、前記通路内に液体を供給するステップと、
前記液体の前記プラグを前記通路を通じて押し進めるように、前記通路内に気体を供給するステップと、
を有し、
前記気体流動は、前記通路内への前記液体の更なるものの導入の前に、前記通路の内部表面を実質的に乾燥又は脱湿させるべく十分な時間にわたって継続する、方法。
【請求項３６】
前記液体を前記通路内に供給する前記ステップは、合計プラグ長が前記通路の長さの約１０％未満になるように、前記通路の長手方向に沿った前記合計プラグ長を具備する１つのプラグ又は一連のプラグを生成するべく、実行される、請求項３５記載の方法。
【請求項３７】
前記気体流動は、時間との関係において安定している請求項３５記載の方法。
【請求項３８】
前記気体流動は、時間との関係において不安定である請求項３５記載の方法。
【請求項３９】
前記気体流動は、少なくとも約５秒にわたって継続する請求項３５記載の方法。
【請求項４０】
前記気体流動は、少なくとも約１５秒にわたって継続する請求項３５記載の方法。
【請求項４１】
通路を洗浄する方法であって、
前記通路に第１流動形態を供給するステップと、
前記通路に第２流動形態を供給するステップと、
を有し、
前記流動形態の中の１つのものは、細流液滴流動を有し、且つ、前記流動形態の第２のものは、プラグ流動を有する、方法。
【請求項４２】
少なくとも第１通路と、第２通路と、を具備する１つ又は複数の医療装置を洗浄する方法であって、
前記第１通路に、前記第１通路に適切な気体流動及び液体流動の第１の時間的配列を供給するステップと、
前記第２通路に、前記第２通路に適切な気体流動と液体流動の第２の時間的配列を供給するステップと、
を有し、
前記第２の時間的配列は、前記第１の時間的配列とは異なる、方法。
【請求項４３】
少なくとも、第１通路と、第２通路と、を具備する１つ又は複数の医療装置を洗浄する方法であって、
前記第１通路に、前記第１通路に適切な第１の流体流動状態を供給するステップと、
前記第２通路に、前記第２通路に適切な第２の流体流動状態を供給するステップと、
を有し、
前記第２の流体流動状態は、前記第１の流体流動状態とは異なる、方法。
【請求項４４】
前記第１流動状態及び前記第２流動状態は、液体流動に対する気体流動の比率において異なる、請求項４３記載の方法。
【請求項４５】
前記第１流動状態及び前記第２流動状態は、供給気体圧力において異なる請求項４３記載の方法。
【請求項４６】
前記第１流動状態は、第１流動形態を有し、且つ、第２流動状態は、第２流動形態を有する請求項４３記載の方法。
【請求項４７】
通路を洗浄する方法であって、
前記通路に、前記通路の第１部分を洗浄するのに適切な第１流体流動状態を供給するステップと、
前記通路に、前記通路の第２部分を洗浄するのに適切な第２流体流動状態を供給するステップと、
を有し、
前記第２流体流動状態は、前記第１流体流動状態と異なる、方法。
【請求項４８】
前記第１流動状態及び前記第２流動状態は、液体流動に対する気体流動の比率において異なる請求項４７記載の方法。
【請求項４９】
前記第１流動状態及び前記第２流動状態は、供給気体圧力において異なる請求項４７記載の方法。
【請求項５０】
前記第１流動状態は、第１流動形態を有し、且つ、第２流動状態は、第２流動形態を有する請求項４７記載の方法。
【請求項５１】
前記通路の前記第１部分は、前記通路の前記第２部分の上流に位置し、且つ、前記第１流動状態は、前記第２流動状態よりも早期に供給される請求項４７記載の方法。
【請求項５２】
第１通路と、第２通路と、を洗浄する装置であって、
前記第１通路及び前記第２通路に気体を供給する気体供給源と、
前記第１通路及び前記第２通路に液体を供給する液体供給源と、
前記気体供給源及び前記液体供給源の動作を制御するコントローラと、
を有し、
前記コントローラは、前記第１通路に適切な第１液体／気体比率において液体及び気体を前記第１通路に供給させ、且つ、前記第２通路にとって適切な第２液体／気体比率において液体及び気体を前記第２通路に供給させ、前記第２液体／気体比率は、前記第１液体／気体比率とは異なる、装置。
【請求項５３】
前記装置は、前記第２通路への前記液体及び前記気体の供給と同時に、前記液体及び前記気体を前記第１通路に供給させる請求項５２記載の装置。
【請求項５４】
前記装置は、前記第２通路への前記液体及び前記気体の供給と順番に、前記液体及び前記気体を前記第１通路に供給させる請求項５２記載の装置。
【請求項５５】
前記装置は、前記第２通路への前記液体及び前記気体の供給と同時に、且つ、これと順番に、前記液体及び前記気体を前記第１通路に供給させる請求項５２記載の装置。
【請求項５６】
前記第１通路及び前記第２通路は、異なる内視鏡内に存在する請求項５２記載の装置。
【請求項５７】
前記第１通路及び前記第２通路は、共通の内視鏡内に存在する請求項５２記載の装置。
【請求項５８】
前記第１通路及び前記第２通路は、異なる内部直径を具備する請求項５２記載の装置。
【請求項５９】
前記装置は、前記第１通路に適切な第１周囲長によって正規化された液体流量と、前記第２通路に適切な第２周囲長によって正規化された液体流量と、を生成する請求項５２記載の装置。
【請求項６０】
前記装置は、前記第１通路に適切な第１気体質量流束と、前記第２通路に適切な第２気体質量流束と、を生成する請求項５２記載の装置。
【請求項６１】
前記第１通路内には、前記第１通路に適切な気体質量流束と周囲長によって正規化された液体流量の第１の組合せが供給され、且つ、前記第２通路内には、前記第２通路に適切な気体質量流束と周囲長によって正規化された液体流量の第２の組合せが供給される請求項５２記載の装置。
【請求項６２】
第１通路と、第２通路と、を洗浄する装置であって、
気体を前記第１通路及び前記第２通路に供給する気体供給源と
液体を前記第１通路及び前記第２通路に供給する液体供給源と、
前記気体供給源及び前記液体供給源の動作を制御するコントローラと、
を有し、
前記コントローラは、液体及び気体を前記第１通路に適切な第１時間的配列において前記第１通路に供給させ、且つ、液体及び気体を前記第２通路に適切な第２時間的配列において前記第２通路に供給させ、前記第２時間的配列は、前記第１時間的配列とは異なる、装置。
【請求項６３】
前記装置は、前記第２通路への前記液体及び前記気体の供給と同時に、前記液体及び前記気体を前記第１通路に供給させる請求項６２記載の装置。
【請求項６４】
前記装置は、前記第２通路への前記液体及び前記気体の供給と順番に、前記液体及び前記気体を前記第１通路に供給させる請求項６２記載の装置。
【請求項６５】
前記装置は、前記第２通路への前記液体及び前記気体の供給と同時に、且つ、これと順番に、前記液体及び前記気体を前記第１通路に供給させる請求項６２記載の装置。
【請求項６６】
前記第１通路及び前記第２通路は、異なる内視鏡内に存在する請求項６２記載の装置。
【請求項６７】
前記第１通路及び前記第２通路は、共通内視鏡内に存在する請求項６２記載の装置。
【請求項６８】
前記第１通路及び前記第２通路は、異なる内部直径を具備する請求項６２記載の装置。
【請求項６９】
前記第１通路及び前記第２通路は、異なる長さを具備する請求項６２記載の装置。
【請求項７０】
通路を洗浄する装置であって、
気体を前記通路に供給する気体供給源と、
液体を前記通路に供給する液体供給源と、
を有し、
前記気体供給源は、前記通路に沿った少なくともどこかにおいて約２ｍ／ｓ〜約８０ｍ／ｓの流速で前記気体を供給し、
前記液体供給源は、約１〜約５ミリリットル／分／前記通路の周囲長のミリメートルという周囲長によって正規化された液体流量において前記液体を供給し、
前記液体は、約５０度を上回る、前記通路の内部表面上における前進接触角を具備し、且つ、０度を上回る後退接触角を具備し、
前記界面活性剤は、０．１％の界面活性剤濃度において計測された５０ｍｍを下回るＲｏｓｓ Ｍｉｌｅｓ泡高さを具備する、装置。
【請求項７１】
前記装置は、前記液体の流動を実質的に安定状態方式によって供給するベくコントローラを有する請求項７０記載の装置。
【請求項７２】
前記装置は、前記気体の流動を実質的に安定状態方式によって供給するべくコントローラを有する請求項７０記載の装置。
【請求項７３】
前記装置は、約３０ｐｓｉｇを上回らない圧力において前記通路の入口に前記気体を供給する請求項７０記載の装置。
【請求項７４】
前記液体は、界面活性剤を有する請求項７０記載の装置。
【請求項７５】
前記装置は、前記通路の前記内部表面が前記液体によって覆われていない際に前記通路の少なくともいくつかの内部表面のドライアウトを生成する請求項７０記載の装置。
【請求項７６】
前記気体の流動は、前記通路内の少なくともどこかにおいて約５ｍ／ｓ〜約１５ｍ／ｓの速度を具備する請求項７０記載の装置。
【請求項７７】
前記気体の流動は、前記通路内の少なくともどこかにおいて約２ｍ／ｓ〜約８０ｍ／ｓの速度を具備する請求項７０記載の装置。
【請求項７８】
前記気体の流動は、前記通路内のすべての場所において約２ｍ／ｓ〜約８０ｍ／ｓの速度を具備する請求項７０記載の装置。
【請求項７９】
通路を洗浄する装置であって、
前記通路に気体を供給する気体供給源と、
前記通路に液体を供給する液体供給源と、
を有し、
前記装置は、前記通路の内部表面の少なくともいずれかの部分上に細流液滴流動を実現するように、前記液体及び前記気体を前記通路に供給する、装置。
【請求項８０】
前記液体は、界面活性剤を有する水性溶液を有する請求項７９記載の装置。
【請求項８１】
前記液体は、アルコールを有する請求項７９記載の装置。
【請求項８２】
前記液体は、実質的に純粋な水から構成される請求項７９記載の装置。
【請求項８３】
前記装置は、前記通路の前記内部表面が前記液体と接触していない際に、前記通路の少なくともいくつかの内部表面のドライアウトを生成する請求項７９記載の装置。
【請求項８４】
通路を洗浄する装置であって、
前記通路に気体を供給する気体供給源と、
前記通路に液体を供給する液体供給源と、
前記気体供給源及び前記液体供給源の動作を制御するコントローラと、
を有し、
いくつかの期間において、前記コントローラは、前記液体及び前記気体の両方を実質的に安定状態方式によって前記通路に供給させ、且つ、
いくつかのその他の期間において、前記コントローラは、前記液体及び前記気体の中の少なくとも１つのものが非安定状態方式によって前記通路に供給されるように、前記液体及び前記気体を前記通路に供給させる、装置。
【請求項８５】
前記非安定状態方式による動作においては、前記動作の少なくとも一部が周期的な方式によって不安定である請求項８４記載の装置。
【請求項８６】
前記周期的な方式は、少なくとも１０回の反復周期を有する請求項８５記載の装置。
【請求項８７】
前記非安定状態方式による動作においては、前記動作の少なくとも一部分が非周期的な方式によって不安定である請求項８４記載の装置。
【請求項８８】
前記液体は、非安定状態方式によって供給される請求項８４記載の装置。
【請求項８９】
前記気体は、非安定状態方式によって供給される請求項８４記載の装置。
【請求項９０】
通路を洗浄する装置であって、
前記通路に気体を供給する気体供給源と、
前記通路に液体を供給する液体供給源と、
前記気体供給源及び前記液体供給源の動作を制御するコントローラと、
を有し、
少なくともなんらかの期間にわたって、前記コントローラは、前記液体の一部が前記通路に供給されることを伴うことなしに、前記気体を前記通路に供給させ、且つ、
なんらかのその他の後の期間において、前記コントローラは、前記液体を前記通路に供給させる、装置。
【請求項９１】
前記気体は、前記通路の内部表面の少なくとも一部分のドライアウト又は脱湿を生成するべく十分な持続時間にわたって供給される請求項９０記載の装置。
【請求項９２】
前記気体は、少なくとも約５秒にわたって供給される請求項９０記載の装置。
【請求項９３】
前記気体は、少なくとも約１５秒にわたって供給される請求項９０記載の装置。
【請求項９４】
前記装置は、前記気体を除湿する除湿機、又は前記気体を加熱する加熱機、又は除湿機及び加熱機の両方を有する請求項９０記載の装置。
【請求項９５】
前記液体は、前記通路への気体の供給と同時に前記通路に供給される請求項９０記載の装置。
【請求項９６】
前記液体が前記通路に供給される際には、気体は前記通路に供給されない請求項９０記載の装置。
【請求項９７】
前記液体は、界面活性剤を有する請求項９０記載の装置。
【請求項９８】
前記液体は、アルコールを有する請求項９０記載の装置。
【請求項９９】
前記液体は、実質的に純粋な水から構成される請求項９０記載の装置。
【請求項１００】
通路を洗浄する装置であって、
前記通路に気体を供給する気体供給源と、
前記通路に液体を供給する液体供給源と、
前記気体供給源及び前記液体供給源の動作を制御するコントローラと、
を有し、
前記コントローラは、気体を実質的に一定の流量において前記通路に供給させ、且つ、液体を脈動方式によって前記通路に供給させる、装置。
【請求項１０１】
前記脈動方式は、大きな液体流量と小さな液体流量の交互に変化する周期を有する請求項１００記載の装置。
【請求項１０２】
前記脈動方式は、有限の液体流量とゼロの液体流量の交互に変化する周期を有する請求項１００記載の装置。
【請求項１０３】
前記ゼロの液体流量の周期は、前記通路の内部表面が、前記有限の液体流量の前記周期の次のものの前に、本質的に完全なドライアウト状態となるような持続時間を有する請求項１０２記載の装置。
【請求項１０４】
通路を洗浄する方法であって、前記通路の内部表面との３相接触界面を具備する運動する液状体を生成するステップを有し、前記通路の前記内部表面のそれぞれのパッチは、洗浄の際に少なくとも一回だけ前記３相接触界面の中のいずれかのものによって清掃される、方法。
【請求項１０５】
前記通路の前記内部表面のそれぞれのパッチは、前記洗浄の際に少なくとも５回にわたって前記３相接触界面の中のいずれかのものによって清掃される請求項１０４記載の方法。
【請求項１０６】
前記通路の前記内部表面のそれぞれのパッチは、前記洗浄の際に少なくとも２５回にわたって前記３相接触界面の中のいずれかのものによって清掃される請求項１０４記載の方法。
【請求項１０７】
内視鏡の通路を洗浄する装置であって、
前記通路に流体を供給する流体供給源と、
前記内視鏡の第１アクセスポイントに接続して第１流動接続を確立する第１コネクタであって、前記第１流動接続は、第１弁を具備する、第１コネクタと、
前記内視鏡の第２アクセスポイントに接続して第２流動接続を確立する第２コネクタであって、前記第２流動接続は、第２弁を具備する第２コネクタと、
前記第１弁を開放すると共に前記第２弁を閉鎖することにより、前記通路を通じて、第１方向において、或いは、前記第１弁を閉鎖すると共に前記第２弁を開放することにより、第２方向において、流動を誘導するコントローラと、
を有する装置。
【請求項１０８】
１つ又は複数の内視鏡の第１通路及び第２通路を洗浄する装置であって、
前記通路に気体を供給する気体供給源と、
前記通路に液体を供給する液体供給システムと、
前記第１通路に必要とされる最大気体流量が前記第１通路に供給されている際に、前記第２通路に供給されている気体流量は、前記第２通路に必要とされている最大気体流量を下回っており、且つ、前記第２通路に必要とされている前記最大気体流量が前記第２通路に供給されている際には、前記第１通路に供給されている気体流量は、前記第１通路に必要とされている前記最大気体流量を下回るように、前記気体供給源を制御するコントローラと、
を有する装置。
【請求項１０９】
通路を洗浄する装置であって、
前記通路に気体を供給する気体供給システムと、
前記通路に液体を供給する液体供給システムと、
前記気体供給システム又は前記液体供給システム又はこれらの両方の少なくとも一部に消毒剤を供給するコントローラと、
を有し、
前記コントローラは、前記気体供給システム又は前記液体供給システム又はこれらの両方の少なくとも一部分に、前記装置の少なくとも一部分を消毒するのに好適な細流液滴流動を生成するように、動作を制御する、装置。
【請求項１１０】
第１通路を洗浄する装置であって、
気体を供給する気体供給源と、
液体を供給する液体供給源と、
前記第１通路への前記気体の第１流量を計測する第１流量計と、
制御システムと、
を有し、
前記制御システムは、前記気体の前記計測された第１流量に応答して前記液体の前記第１流量を設定する、装置。
【請求項１１１】
前記流量計は、前記液体と前記気体の合流点の上流において前記気体の前記流量を計測する請求項１１０記載の装置。
【請求項１１２】
前記装置は、第２通路を洗浄する能力をも有しており、且つ、前記装置は、前記第２通路への第２気体流量を計測する第２流量計を有し、且つ、前記制御システムは、前記第２通路への第２液体流量をも設定する請求項１１０記載の装置。
【請求項１１３】
前記第１液体流量と前記第１気体流量の間には、第１の関係が存在し、且つ、前記第２液体流量と前記第２気体流量の間には、第２の関係が存在し、且つ、前記第１の関係と前記第２の関係は、同一である請求項１１２記載の装置。
【請求項１１４】
前記第１液体流量と前記第１気体流量の間には、第１の関係が存在し、且つ、前記第２液体流量と前記第２気体流量の間には、第２の関係が存在し、且つ、前記第１の関係と前記第２の関係は、互いに異なる請求項１１２記載の装置。
【請求項１１５】
前記第１通路は、第１内視鏡内に存在し、且つ、前記第２通路は、第２内視鏡内に存在する請求項１１２記載の装置。
【請求項１１６】
前記第１通路及び前記第２通路は、共通内視鏡内に存在する請求項１１２記載の装置。
【請求項１１７】
前記第１液体流量は、第１液体ポンプによって供給され、且つ、前記第２液体流量は、第２液体ポンプによって供給される請求項１１２記載の装置。
【請求項１１８】
第１通路及び第２通路を洗浄する装置であって、
気体を供給する気体供給源と、
液体を供給する液体供給源と、
前記第１通路への前記気体の第１気体流量を計測する第１流量計と、
前記第２通路への前記気体の第２気体流量を計測する第２流量計と、
制御システムと、
を有し、
前記制御システムは、前記第１気体流量及び前記第２気体流量の合計に応答して合計液体流量を設定し、且つ、
前記合計液体流量を第１液体流量と第２液体流量に分割するべく比例弁を更に有する装置。
【請求項１１９】
前記比例弁は、前記コントローラによって制御される請求項１１８記載の装置。
【請求項１２０】
洗浄流体を内視鏡に供給するコネクタであって、
第１入力流路と、
第１位置と第２位置の間において前記第１入力流路の位置を調節するアクチュエータと、
を有し、
前記第１位置において、前記第１入力流路は、第１チャネルと整合し、且つ、前記第２位置において、前記入力流路は、第２チャネルと整合する、コネクタ。
【請求項１２１】
第２入力流路を更に有し、前記アクチュエータは、第３位置と第４位置の間において前記第２入力流路の位置を調節し、前記第３位置において、前記第２入力流路は、第３チャネルと整合し、且つ、前記第４位置において、前記第２入力流路は、第４チャネルと整合する請求項１２０記載の装置。
【請求項１２２】
洗浄流体を内視鏡に供給するコネクタであって、
入力流路と、
第１位置、第２位置、第３位置、及び第４位置の間において前記入力流路の位置を調節するアクチュエータと、
を有し、
前記第１位置において、前記入力流路は、第１チャネルと整合し、且つ、前記第２位置において、前記入力流路は、第２チャネルと整合し、且つ、前記第３位置において、前記入力流路は、第３チャネルと整合し、且つ、前記第４位置において、前記入力流路は、第４チャネルと整合する、コネクタ。
【請求項１２３】
内視鏡の外部表面を洗浄する装置であって、
少なくとも部分的に液体中に沈んだ状態において前記内視鏡を収容するベイスンと、
前記内視鏡の前記外部表面の少なくともいくつかのものに向かって、前記ベイスン内に、液体を誘導する流動システムと、
を有し、
前記流動システムは、前記液体の流動を増幅するエダクタを有し、
前記エダクタは、泡を含む液体を排出する、装置。
【請求項１２４】
前記エダクタは、前記取入口内において前記液体と共に多少の気体を流入させるように、前記ベイスン内の液体レベルに十分近接して配置される請求項１２３記載の装置。
【請求項１２５】
前記エダクタは、前記エダクタの吸引領域内への気体取入口を有する請求項１２３記載の装置。
【請求項１２６】
内視鏡の外部表面を洗浄する装置であって、
液体中に少なくとも部分的に沈んだ状態において前記内視鏡を収容するベイスンと、
複数のエダクタを通じて、前記内視鏡の前記外部表面の少なくともいくつかのものに向かって、前記ベイスン内に、液体を誘導する流動システムと、
を有し、
前記エダクタの中の少なくとも１つのものは、前記エダクタの中の少なくとも別の１つのものが第２流量を搬送する際に同時に第１流量を搬送し、前記第１流量は、前記第２流量とは異なる、装置。
【請求項１２７】
前記第２流量は、ゼロである請求項１２６記載の装置。
【請求項１２８】
前記エダクタが前記第１流量を搬送し、且つ、前記エダクタのその他のものが前記第２流量を搬送するパターンは、時間の関数として変化する請求項１２６記載の装置。
【請求項１２９】
噴霧を前記内視鏡に対して誘導するように配置された噴霧ノズルを更に有する請求項１２６記載の装置。
【請求項１３０】
前記噴霧ノズルは、前記内視鏡の上方に配置される請求項１２９記載の装置。
【請求項１３１】
通路を洗浄する方法であって、
前記通路の内部表面の表面エネルギーを増大させるのに好適な界面活性剤を有する液体を調製するステップと、
前記通路の前記内部表面の交互に変化する湿潤及び脱湿を実現するように、前記通路を通じて気体及び前記液体を流動させるステップと、
を有する方法。
【請求項１３２】
前記流動させるステップは、前記通路の前記内部表面の少なくとも一部分上に細流液滴流動を生成するステップを有する請求項１３１記載の方法。
【請求項１３３】
前記流動させるステップは、前記通路の前記内部表面の少なくとも一部分上にプラグ流動を生成するステップを有する請求項１３１記載の方法。
【請求項１】
通路を洗浄する方法であって、
前記通路に沿って長さ方向に気体の流動を生成するステップと、
前記通路に沿って長さ方向に液体の流動を生成するステップであって、前記液体は、界面活性剤を有する、ステップと、
を有し、
前記液体の前記流動は、約１〜約５ミリリットル／分／前記通路の周囲長のミリメートルという周囲長によって正規化された液体流量を具備し、
前記液体は、約５０度を上回る、前記通路の内部表面上における前進接触角を具備し、且つ、０度を上回る後退接触角を具備し、
前記気体流動は、前記通路に沿った少なくともどこかにおいて、約２ｍ／ｓ〜約８０ｍ／ｓの速度を具備し、且つ、
前記界面活性剤は、０．１％の界面活性剤濃度において計測された５０ｍｍを下回るＲｏｓｓ Ｍｉｌｅｓ泡高さを具備する、方法。
【請求項２】
前記気体の前記流動は、前記通路内のすべての場所において約２ｍ／ｓ〜約８０ｍ／ｓの速度を具備する請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記液体は、約３３ｄｙｎｅｓ／ｃｍ〜約５０ｄｙｎｅｓ／ｃｍの表面張力を具備する請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記液体は、約３５ｄｙｎｅｓ／ｃｍ〜約４５ｄｙｎｅｓ／ｃｍの表面張力を具備する請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記液体は、約１０度〜約３０度の後退接触角を具備する請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記界面活性剤は、約９．２を上回る平均親水性−親油性バランスを具備する請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記界面活性剤は、非イオン系界面活性剤である請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記界面活性剤は、ＢＡＳＦ社によって販売されているＰＬＵＲＯＮＩＣ（登録商標）Ｌ４３及びＰＬＵＲＯＮＩＣ（登録商標）Ｌ６２ＬＦ及びｒｅｖｅｒｓｅ ＰＬＵＲＯＮＩＣ（登録商標）１７Ｒ２、１７Ｒ４、２５Ｒ２、２５Ｒ４、３１Ｒ１などのポリエチレン酸化物−ポリプロピレン酸化物コポリマ、ＳＵＲＦＹＮＯＬ（登録商標）４６５及び４８５などのアセチレン系界面活性剤と呼ばれるグリシジルエーテル−キャップ化アセチレンジオールエトキシレート、ＴＥＲＧＩＴＯＬ（登録商標）ＭＩＮＦＯＡＭ １Ｘ（登録商標）及びＭＩＮＦＯＡＭ ２Ｘ（登録商標）などのアルコールエトキシレート、Ｓｕｒｆｏｎｉｃ Ｔ−１５などのタロウアルコールエトキシレート、ＡＯ−４５５及びＡＯ−４０５などのアルコキシル化エーテルアルコキシル化エーテルアミン酸化物、ＤＯＷＦＡＸ（登録商標）などのアルキルジフェニル酸化物ジスルホン酸塩、エトキシル化アミド、エトキシル化カルボン酸、及びアルキル又は脂肪アルコールＰＥＯ−ＰＰＯ界面活性剤からなる群から選択された物質を有する請求項１記載の方法。
【請求項９】
前記界面活性剤混合物は、約０．０６％の合計界面活性剤濃度におけるアセチレン系界面活性剤とアルコキシル化エーテルアミン酸化物の水性混合物である請求項１記載の方法。
【請求項１０】
前記液体洗浄媒体は、ｐＨ調節剤、ビルダ、金属イオン封鎖剤、曇り点消泡剤、分散剤、溶剤、ヒドロトロープ、酸化剤、及び保存剤から構成された群から選択された１つ又は複数の成分を更に有する請求項１記載の方法。
【請求項１１】
前記組成は、８．０を上回るｐＨを具備する請求項１記載の方法。
【請求項１２】
前記組成は、約９．５〜約１１．５のｐＨを具備する請求項１記載の方法。
【請求項１３】
前記気体の前記流動は、前記通路に沿った少なくともどこかに約５ｍ／ｓ〜約１５ｍ／ｓの速度を具備する請求項１記載の方法。
【請求項１４】
前記通路は、実質的に水平の向きを具備する請求項１記載の方法。
【請求項１５】
前記通路は、実質的に垂直の向きを具備する請求項１記載の方法。
【請求項１６】
通路を洗浄する方法であって、気体と液体を前記通路に同時に供給するステップを有し、前記液体及び前記気体は、前記通路の内部表面の少なくともいずれかの部分上に細流液滴流動を実現するように、前記通路内において流動する、方法。
【請求項１７】
前記細流は、サブ細流への断片化を経験する請求項１６記載の方法。
【請求項１８】
前記液体は、約５０度を上回る、前記通路の内部表面上における前進接触角を具備し、且つ、０度を上回る後退接触角を具備する請求項１６記載の方法。
【請求項１９】
前記液体を供給する前記ステップは、洗浄ステップを実現する請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
前記液体を供給する前記ステップは、プレ洗浄ステップを実現する請求項１８記載の方法。
【請求項２１】
前記液体は、アルコールを有する請求項１６記載の方法。
【請求項２２】
前記液体は、実質的に純粋な水から構成される請求項１６記載の方法。
【請求項２３】
前記液体を供給する前記ステップは、すすぎを実現する請求項２２記載の方法。
【請求項２４】
前記液体は、非霧化方式において前記通路に導入される請求項１６記載の方法。
【請求項２５】
通路を洗浄する方法であって、気体及び液体を前記通路に同時に供給するステップを有し、前記気体及び前記液体は、前記通路の少なくともいずれかの内部表面上に運動する３相接触界面を実現する、方法。
【請求項２６】
通路を洗浄する方法であって、気体及び液体を前記通路に同時に供給するステップを有し、前記気体及び前記液体は、前記通路の少なくともいずれかの内部表面上に蛇行細流を実現する、方法。
【請求項２７】
通路を洗浄する方法であって、気体及び液体を前記通路に同時に供給するステップを有し、前記気体及び前記液体は、前記通路の少なくともいずれかの内部表面上に、サブ細流に断片化する細流を実現する、方法。
【請求項２８】
通路を洗浄する方法であって、気体及び液体を前記通路に同時に供給するステップを有し、前記液体は、前記通路の入口において非霧化方式において供給され、且つ、前記通路の出口において、前記液体は、泡状ではなく、且つ、前記液体の１０％を上回らないものが霧化される、方法。
【請求項２９】
前記通路の内部表面は、交互に湿潤及び乾燥させられる請求項２８記載の方法。
【請求項３０】
前記液体は、前記通路の少なくともいくつかの内部表面上に細流液滴流動を形成する請求項２８記載の方法。
【請求項３１】
通路を洗浄する方法であって、
前記通路をプレ洗浄するステップと、
前記通路を洗浄するステップと、
前記通路をすすぐステップと、
を有し、
前記プレ洗浄ステップは、前記通路を通じて液体と気体を同時に流動させるステップを有する、方法。
【請求項３２】
前記液体及び前記気体を前記通路を通じて流動させる前記ステップは、細流液滴流動を有する請求項３１記載の方法。
【請求項３３】
通路を洗浄する方法であって、
前記通路をプレ洗浄するステップと、
前記通路を洗浄するステップと、
前記通路をすすぐステップと、
を有し、
前記すすぎステップは、前記通路を通じて液体と気体を同時に流動させるステップを有する、方法。
【請求項３４】
前記液体と前記気体を前記通路を通じて流動させる前記ステップは、細流液滴流動を有する請求項３３記載の方法。
【請求項３５】
通路を洗浄する方法であって、
前記通路の少なくとも入口において液体のプラグを形成するように、前記通路内に液体を供給するステップと、
前記液体の前記プラグを前記通路を通じて押し進めるように、前記通路内に気体を供給するステップと、
を有し、
前記気体流動は、前記通路内への前記液体の更なるものの導入の前に、前記通路の内部表面を実質的に乾燥又は脱湿させるべく十分な時間にわたって継続する、方法。
【請求項３６】
前記液体を前記通路内に供給する前記ステップは、合計プラグ長が前記通路の長さの約１０％未満になるように、前記通路の長手方向に沿った前記合計プラグ長を具備する１つのプラグ又は一連のプラグを生成するべく、実行される、請求項３５記載の方法。
【請求項３７】
前記気体流動は、時間との関係において安定している請求項３５記載の方法。
【請求項３８】
前記気体流動は、時間との関係において不安定である請求項３５記載の方法。
【請求項３９】
前記気体流動は、少なくとも約５秒にわたって継続する請求項３５記載の方法。
【請求項４０】
前記気体流動は、少なくとも約１５秒にわたって継続する請求項３５記載の方法。
【請求項４１】
通路を洗浄する方法であって、
前記通路に第１流動形態を供給するステップと、
前記通路に第２流動形態を供給するステップと、
を有し、
前記流動形態の中の１つのものは、細流液滴流動を有し、且つ、前記流動形態の第２のものは、プラグ流動を有する、方法。
【請求項４２】
少なくとも第１通路と、第２通路と、を具備する１つ又は複数の医療装置を洗浄する方法であって、
前記第１通路に、前記第１通路に適切な気体流動及び液体流動の第１の時間的配列を供給するステップと、
前記第２通路に、前記第２通路に適切な気体流動と液体流動の第２の時間的配列を供給するステップと、
を有し、
前記第２の時間的配列は、前記第１の時間的配列とは異なる、方法。
【請求項４３】
少なくとも、第１通路と、第２通路と、を具備する１つ又は複数の医療装置を洗浄する方法であって、
前記第１通路に、前記第１通路に適切な第１の流体流動状態を供給するステップと、
前記第２通路に、前記第２通路に適切な第２の流体流動状態を供給するステップと、
を有し、
前記第２の流体流動状態は、前記第１の流体流動状態とは異なる、方法。
【請求項４４】
前記第１流動状態及び前記第２流動状態は、液体流動に対する気体流動の比率において異なる、請求項４３記載の方法。
【請求項４５】
前記第１流動状態及び前記第２流動状態は、供給気体圧力において異なる請求項４３記載の方法。
【請求項４６】
前記第１流動状態は、第１流動形態を有し、且つ、第２流動状態は、第２流動形態を有する請求項４３記載の方法。
【請求項４７】
通路を洗浄する方法であって、
前記通路に、前記通路の第１部分を洗浄するのに適切な第１流体流動状態を供給するステップと、
前記通路に、前記通路の第２部分を洗浄するのに適切な第２流体流動状態を供給するステップと、
を有し、
前記第２流体流動状態は、前記第１流体流動状態と異なる、方法。
【請求項４８】
前記第１流動状態及び前記第２流動状態は、液体流動に対する気体流動の比率において異なる請求項４７記載の方法。
【請求項４９】
前記第１流動状態及び前記第２流動状態は、供給気体圧力において異なる請求項４７記載の方法。
【請求項５０】
前記第１流動状態は、第１流動形態を有し、且つ、第２流動状態は、第２流動形態を有する請求項４７記載の方法。
【請求項５１】
前記通路の前記第１部分は、前記通路の前記第２部分の上流に位置し、且つ、前記第１流動状態は、前記第２流動状態よりも早期に供給される請求項４７記載の方法。
【請求項５２】
第１通路と、第２通路と、を洗浄する装置であって、
前記第１通路及び前記第２通路に気体を供給する気体供給源と、
前記第１通路及び前記第２通路に液体を供給する液体供給源と、
前記気体供給源及び前記液体供給源の動作を制御するコントローラと、
を有し、
前記コントローラは、前記第１通路に適切な第１液体／気体比率において液体及び気体を前記第１通路に供給させ、且つ、前記第２通路にとって適切な第２液体／気体比率において液体及び気体を前記第２通路に供給させ、前記第２液体／気体比率は、前記第１液体／気体比率とは異なる、装置。
【請求項５３】
前記装置は、前記第２通路への前記液体及び前記気体の供給と同時に、前記液体及び前記気体を前記第１通路に供給させる請求項５２記載の装置。
【請求項５４】
前記装置は、前記第２通路への前記液体及び前記気体の供給と順番に、前記液体及び前記気体を前記第１通路に供給させる請求項５２記載の装置。
【請求項５５】
前記装置は、前記第２通路への前記液体及び前記気体の供給と同時に、且つ、これと順番に、前記液体及び前記気体を前記第１通路に供給させる請求項５２記載の装置。
【請求項５６】
前記第１通路及び前記第２通路は、異なる内視鏡内に存在する請求項５２記載の装置。
【請求項５７】
前記第１通路及び前記第２通路は、共通の内視鏡内に存在する請求項５２記載の装置。
【請求項５８】
前記第１通路及び前記第２通路は、異なる内部直径を具備する請求項５２記載の装置。
【請求項５９】
前記装置は、前記第１通路に適切な第１周囲長によって正規化された液体流量と、前記第２通路に適切な第２周囲長によって正規化された液体流量と、を生成する請求項５２記載の装置。
【請求項６０】
前記装置は、前記第１通路に適切な第１気体質量流束と、前記第２通路に適切な第２気体質量流束と、を生成する請求項５２記載の装置。
【請求項６１】
前記第１通路内には、前記第１通路に適切な気体質量流束と周囲長によって正規化された液体流量の第１の組合せが供給され、且つ、前記第２通路内には、前記第２通路に適切な気体質量流束と周囲長によって正規化された液体流量の第２の組合せが供給される請求項５２記載の装置。
【請求項６２】
第１通路と、第２通路と、を洗浄する装置であって、
気体を前記第１通路及び前記第２通路に供給する気体供給源と
液体を前記第１通路及び前記第２通路に供給する液体供給源と、
前記気体供給源及び前記液体供給源の動作を制御するコントローラと、
を有し、
前記コントローラは、液体及び気体を前記第１通路に適切な第１時間的配列において前記第１通路に供給させ、且つ、液体及び気体を前記第２通路に適切な第２時間的配列において前記第２通路に供給させ、前記第２時間的配列は、前記第１時間的配列とは異なる、装置。
【請求項６３】
前記装置は、前記第２通路への前記液体及び前記気体の供給と同時に、前記液体及び前記気体を前記第１通路に供給させる請求項６２記載の装置。
【請求項６４】
前記装置は、前記第２通路への前記液体及び前記気体の供給と順番に、前記液体及び前記気体を前記第１通路に供給させる請求項６２記載の装置。
【請求項６５】
前記装置は、前記第２通路への前記液体及び前記気体の供給と同時に、且つ、これと順番に、前記液体及び前記気体を前記第１通路に供給させる請求項６２記載の装置。
【請求項６６】
前記第１通路及び前記第２通路は、異なる内視鏡内に存在する請求項６２記載の装置。
【請求項６７】
前記第１通路及び前記第２通路は、共通内視鏡内に存在する請求項６２記載の装置。
【請求項６８】
前記第１通路及び前記第２通路は、異なる内部直径を具備する請求項６２記載の装置。
【請求項６９】
前記第１通路及び前記第２通路は、異なる長さを具備する請求項６２記載の装置。
【請求項７０】
通路を洗浄する装置であって、
気体を前記通路に供給する気体供給源と、
液体を前記通路に供給する液体供給源と、
を有し、
前記気体供給源は、前記通路に沿った少なくともどこかにおいて約２ｍ／ｓ〜約８０ｍ／ｓの流速で前記気体を供給し、
前記液体供給源は、約１〜約５ミリリットル／分／前記通路の周囲長のミリメートルという周囲長によって正規化された液体流量において前記液体を供給し、
前記液体は、約５０度を上回る、前記通路の内部表面上における前進接触角を具備し、且つ、０度を上回る後退接触角を具備し、
前記界面活性剤は、０．１％の界面活性剤濃度において計測された５０ｍｍを下回るＲｏｓｓ Ｍｉｌｅｓ泡高さを具備する、装置。
【請求項７１】
前記装置は、前記液体の流動を実質的に安定状態方式によって供給するベくコントローラを有する請求項７０記載の装置。
【請求項７２】
前記装置は、前記気体の流動を実質的に安定状態方式によって供給するべくコントローラを有する請求項７０記載の装置。
【請求項７３】
前記装置は、約３０ｐｓｉｇを上回らない圧力において前記通路の入口に前記気体を供給する請求項７０記載の装置。
【請求項７４】
前記液体は、界面活性剤を有する請求項７０記載の装置。
【請求項７５】
前記装置は、前記通路の前記内部表面が前記液体によって覆われていない際に前記通路の少なくともいくつかの内部表面のドライアウトを生成する請求項７０記載の装置。
【請求項７６】
前記気体の流動は、前記通路内の少なくともどこかにおいて約５ｍ／ｓ〜約１５ｍ／ｓの速度を具備する請求項７０記載の装置。
【請求項７７】
前記気体の流動は、前記通路内の少なくともどこかにおいて約２ｍ／ｓ〜約８０ｍ／ｓの速度を具備する請求項７０記載の装置。
【請求項７８】
前記気体の流動は、前記通路内のすべての場所において約２ｍ／ｓ〜約８０ｍ／ｓの速度を具備する請求項７０記載の装置。
【請求項７９】
通路を洗浄する装置であって、
前記通路に気体を供給する気体供給源と、
前記通路に液体を供給する液体供給源と、
を有し、
前記装置は、前記通路の内部表面の少なくともいずれかの部分上に細流液滴流動を実現するように、前記液体及び前記気体を前記通路に供給する、装置。
【請求項８０】
前記液体は、界面活性剤を有する水性溶液を有する請求項７９記載の装置。
【請求項８１】
前記液体は、アルコールを有する請求項７９記載の装置。
【請求項８２】
前記液体は、実質的に純粋な水から構成される請求項７９記載の装置。
【請求項８３】
前記装置は、前記通路の前記内部表面が前記液体と接触していない際に、前記通路の少なくともいくつかの内部表面のドライアウトを生成する請求項７９記載の装置。
【請求項８４】
通路を洗浄する装置であって、
前記通路に気体を供給する気体供給源と、
前記通路に液体を供給する液体供給源と、
前記気体供給源及び前記液体供給源の動作を制御するコントローラと、
を有し、
いくつかの期間において、前記コントローラは、前記液体及び前記気体の両方を実質的に安定状態方式によって前記通路に供給させ、且つ、
いくつかのその他の期間において、前記コントローラは、前記液体及び前記気体の中の少なくとも１つのものが非安定状態方式によって前記通路に供給されるように、前記液体及び前記気体を前記通路に供給させる、装置。
【請求項８５】
前記非安定状態方式による動作においては、前記動作の少なくとも一部が周期的な方式によって不安定である請求項８４記載の装置。
【請求項８６】
前記周期的な方式は、少なくとも１０回の反復周期を有する請求項８５記載の装置。
【請求項８７】
前記非安定状態方式による動作においては、前記動作の少なくとも一部分が非周期的な方式によって不安定である請求項８４記載の装置。
【請求項８８】
前記液体は、非安定状態方式によって供給される請求項８４記載の装置。
【請求項８９】
前記気体は、非安定状態方式によって供給される請求項８４記載の装置。
【請求項９０】
通路を洗浄する装置であって、
前記通路に気体を供給する気体供給源と、
前記通路に液体を供給する液体供給源と、
前記気体供給源及び前記液体供給源の動作を制御するコントローラと、
を有し、
少なくともなんらかの期間にわたって、前記コントローラは、前記液体の一部が前記通路に供給されることを伴うことなしに、前記気体を前記通路に供給させ、且つ、
なんらかのその他の後の期間において、前記コントローラは、前記液体を前記通路に供給させる、装置。
【請求項９１】
前記気体は、前記通路の内部表面の少なくとも一部分のドライアウト又は脱湿を生成するべく十分な持続時間にわたって供給される請求項９０記載の装置。
【請求項９２】
前記気体は、少なくとも約５秒にわたって供給される請求項９０記載の装置。
【請求項９３】
前記気体は、少なくとも約１５秒にわたって供給される請求項９０記載の装置。
【請求項９４】
前記装置は、前記気体を除湿する除湿機、又は前記気体を加熱する加熱機、又は除湿機及び加熱機の両方を有する請求項９０記載の装置。
【請求項９５】
前記液体は、前記通路への気体の供給と同時に前記通路に供給される請求項９０記載の装置。
【請求項９６】
前記液体が前記通路に供給される際には、気体は前記通路に供給されない請求項９０記載の装置。
【請求項９７】
前記液体は、界面活性剤を有する請求項９０記載の装置。
【請求項９８】
前記液体は、アルコールを有する請求項９０記載の装置。
【請求項９９】
前記液体は、実質的に純粋な水から構成される請求項９０記載の装置。
【請求項１００】
通路を洗浄する装置であって、
前記通路に気体を供給する気体供給源と、
前記通路に液体を供給する液体供給源と、
前記気体供給源及び前記液体供給源の動作を制御するコントローラと、
を有し、
前記コントローラは、気体を実質的に一定の流量において前記通路に供給させ、且つ、液体を脈動方式によって前記通路に供給させる、装置。
【請求項１０１】
前記脈動方式は、大きな液体流量と小さな液体流量の交互に変化する周期を有する請求項１００記載の装置。
【請求項１０２】
前記脈動方式は、有限の液体流量とゼロの液体流量の交互に変化する周期を有する請求項１００記載の装置。
【請求項１０３】
前記ゼロの液体流量の周期は、前記通路の内部表面が、前記有限の液体流量の前記周期の次のものの前に、本質的に完全なドライアウト状態となるような持続時間を有する請求項１０２記載の装置。
【請求項１０４】
通路を洗浄する方法であって、前記通路の内部表面との３相接触界面を具備する運動する液状体を生成するステップを有し、前記通路の前記内部表面のそれぞれのパッチは、洗浄の際に少なくとも一回だけ前記３相接触界面の中のいずれかのものによって清掃される、方法。
【請求項１０５】
前記通路の前記内部表面のそれぞれのパッチは、前記洗浄の際に少なくとも５回にわたって前記３相接触界面の中のいずれかのものによって清掃される請求項１０４記載の方法。
【請求項１０６】
前記通路の前記内部表面のそれぞれのパッチは、前記洗浄の際に少なくとも２５回にわたって前記３相接触界面の中のいずれかのものによって清掃される請求項１０４記載の方法。
【請求項１０７】
内視鏡の通路を洗浄する装置であって、
前記通路に流体を供給する流体供給源と、
前記内視鏡の第１アクセスポイントに接続して第１流動接続を確立する第１コネクタであって、前記第１流動接続は、第１弁を具備する、第１コネクタと、
前記内視鏡の第２アクセスポイントに接続して第２流動接続を確立する第２コネクタであって、前記第２流動接続は、第２弁を具備する第２コネクタと、
前記第１弁を開放すると共に前記第２弁を閉鎖することにより、前記通路を通じて、第１方向において、或いは、前記第１弁を閉鎖すると共に前記第２弁を開放することにより、第２方向において、流動を誘導するコントローラと、
を有する装置。
【請求項１０８】
１つ又は複数の内視鏡の第１通路及び第２通路を洗浄する装置であって、
前記通路に気体を供給する気体供給源と、
前記通路に液体を供給する液体供給システムと、
前記第１通路に必要とされる最大気体流量が前記第１通路に供給されている際に、前記第２通路に供給されている気体流量は、前記第２通路に必要とされている最大気体流量を下回っており、且つ、前記第２通路に必要とされている前記最大気体流量が前記第２通路に供給されている際には、前記第１通路に供給されている気体流量は、前記第１通路に必要とされている前記最大気体流量を下回るように、前記気体供給源を制御するコントローラと、
を有する装置。
【請求項１０９】
通路を洗浄する装置であって、
前記通路に気体を供給する気体供給システムと、
前記通路に液体を供給する液体供給システムと、
前記気体供給システム又は前記液体供給システム又はこれらの両方の少なくとも一部に消毒剤を供給するコントローラと、
を有し、
前記コントローラは、前記気体供給システム又は前記液体供給システム又はこれらの両方の少なくとも一部分に、前記装置の少なくとも一部分を消毒するのに好適な細流液滴流動を生成するように、動作を制御する、装置。
【請求項１１０】
第１通路を洗浄する装置であって、
気体を供給する気体供給源と、
液体を供給する液体供給源と、
前記第１通路への前記気体の第１流量を計測する第１流量計と、
制御システムと、
を有し、
前記制御システムは、前記気体の前記計測された第１流量に応答して前記液体の前記第１流量を設定する、装置。
【請求項１１１】
前記流量計は、前記液体と前記気体の合流点の上流において前記気体の前記流量を計測する請求項１１０記載の装置。
【請求項１１２】
前記装置は、第２通路を洗浄する能力をも有しており、且つ、前記装置は、前記第２通路への第２気体流量を計測する第２流量計を有し、且つ、前記制御システムは、前記第２通路への第２液体流量をも設定する請求項１１０記載の装置。
【請求項１１３】
前記第１液体流量と前記第１気体流量の間には、第１の関係が存在し、且つ、前記第２液体流量と前記第２気体流量の間には、第２の関係が存在し、且つ、前記第１の関係と前記第２の関係は、同一である請求項１１２記載の装置。
【請求項１１４】
前記第１液体流量と前記第１気体流量の間には、第１の関係が存在し、且つ、前記第２液体流量と前記第２気体流量の間には、第２の関係が存在し、且つ、前記第１の関係と前記第２の関係は、互いに異なる請求項１１２記載の装置。
【請求項１１５】
前記第１通路は、第１内視鏡内に存在し、且つ、前記第２通路は、第２内視鏡内に存在する請求項１１２記載の装置。
【請求項１１６】
前記第１通路及び前記第２通路は、共通内視鏡内に存在する請求項１１２記載の装置。
【請求項１１７】
前記第１液体流量は、第１液体ポンプによって供給され、且つ、前記第２液体流量は、第２液体ポンプによって供給される請求項１１２記載の装置。
【請求項１１８】
第１通路及び第２通路を洗浄する装置であって、
気体を供給する気体供給源と、
液体を供給する液体供給源と、
前記第１通路への前記気体の第１気体流量を計測する第１流量計と、
前記第２通路への前記気体の第２気体流量を計測する第２流量計と、
制御システムと、
を有し、
前記制御システムは、前記第１気体流量及び前記第２気体流量の合計に応答して合計液体流量を設定し、且つ、
前記合計液体流量を第１液体流量と第２液体流量に分割するべく比例弁を更に有する装置。
【請求項１１９】
前記比例弁は、前記コントローラによって制御される請求項１１８記載の装置。
【請求項１２０】
洗浄流体を内視鏡に供給するコネクタであって、
第１入力流路と、
第１位置と第２位置の間において前記第１入力流路の位置を調節するアクチュエータと、
を有し、
前記第１位置において、前記第１入力流路は、第１チャネルと整合し、且つ、前記第２位置において、前記入力流路は、第２チャネルと整合する、コネクタ。
【請求項１２１】
第２入力流路を更に有し、前記アクチュエータは、第３位置と第４位置の間において前記第２入力流路の位置を調節し、前記第３位置において、前記第２入力流路は、第３チャネルと整合し、且つ、前記第４位置において、前記第２入力流路は、第４チャネルと整合する請求項１２０記載の装置。
【請求項１２２】
洗浄流体を内視鏡に供給するコネクタであって、
入力流路と、
第１位置、第２位置、第３位置、及び第４位置の間において前記入力流路の位置を調節するアクチュエータと、
を有し、
前記第１位置において、前記入力流路は、第１チャネルと整合し、且つ、前記第２位置において、前記入力流路は、第２チャネルと整合し、且つ、前記第３位置において、前記入力流路は、第３チャネルと整合し、且つ、前記第４位置において、前記入力流路は、第４チャネルと整合する、コネクタ。
【請求項１２３】
内視鏡の外部表面を洗浄する装置であって、
少なくとも部分的に液体中に沈んだ状態において前記内視鏡を収容するベイスンと、
前記内視鏡の前記外部表面の少なくともいくつかのものに向かって、前記ベイスン内に、液体を誘導する流動システムと、
を有し、
前記流動システムは、前記液体の流動を増幅するエダクタを有し、
前記エダクタは、泡を含む液体を排出する、装置。
【請求項１２４】
前記エダクタは、前記取入口内において前記液体と共に多少の気体を流入させるように、前記ベイスン内の液体レベルに十分近接して配置される請求項１２３記載の装置。
【請求項１２５】
前記エダクタは、前記エダクタの吸引領域内への気体取入口を有する請求項１２３記載の装置。
【請求項１２６】
内視鏡の外部表面を洗浄する装置であって、
液体中に少なくとも部分的に沈んだ状態において前記内視鏡を収容するベイスンと、
複数のエダクタを通じて、前記内視鏡の前記外部表面の少なくともいくつかのものに向かって、前記ベイスン内に、液体を誘導する流動システムと、
を有し、
前記エダクタの中の少なくとも１つのものは、前記エダクタの中の少なくとも別の１つのものが第２流量を搬送する際に同時に第１流量を搬送し、前記第１流量は、前記第２流量とは異なる、装置。
【請求項１２７】
前記第２流量は、ゼロである請求項１２６記載の装置。
【請求項１２８】
前記エダクタが前記第１流量を搬送し、且つ、前記エダクタのその他のものが前記第２流量を搬送するパターンは、時間の関数として変化する請求項１２６記載の装置。
【請求項１２９】
噴霧を前記内視鏡に対して誘導するように配置された噴霧ノズルを更に有する請求項１２６記載の装置。
【請求項１３０】
前記噴霧ノズルは、前記内視鏡の上方に配置される請求項１２９記載の装置。
【請求項１３１】
通路を洗浄する方法であって、
前記通路の内部表面の表面エネルギーを増大させるのに好適な界面活性剤を有する液体を調製するステップと、
前記通路の前記内部表面の交互に変化する湿潤及び脱湿を実現するように、前記通路を通じて気体及び前記液体を流動させるステップと、
を有する方法。
【請求項１３２】
前記流動させるステップは、前記通路の前記内部表面の少なくとも一部分上に細流液滴流動を生成するステップを有する請求項１３１記載の方法。
【請求項１３３】
前記流動させるステップは、前記通路の前記内部表面の少なくとも一部分上にプラグ流動を生成するステップを有する請求項１３１記載の方法。
【図１】
【図２ａ】
【図２ｂ】
【図２ｃ】
【図２ｄ】
【図２ｅ】
【図２ｆ】
【図３ａ】
【図３ｂ】
【図４】
【図５ａ】
【図５ｂ】
【図５ｃ】
【図６】
【図７ａ】
【図７ｂ】
【図７ｃ】
【図８】
【図９ａ】
【図９ｂ】
【図１０ａ】
【図１０ｂ】
【図１０ｃ】
【図１０ｄ】
【図１０ｅ】
【図１１】
【図１２】
【図１３ａ】
【図１３ｂ】
【図１３ｃ】
【図１３ｄ】
【図１４】
【図１５ａ】
【図１５ｂ】
【図１６ａ】
【図１６ｂ】
【図１７】
【図１８ａ】
【図１８ｂ】
【図１９ａ】
【図１９ｂｃ】
【図２０】
【図２１ａ】
【図２１ｂ】
【図２１ｃ】
【図２１ｄ】
【図２２ａ】
【図２２ｂ】
【図２２ｃ】
【図２２ｄ】
【図２２ｅ】
【図２３】
【図２５ａ】
【図２５ｂ】
【図７ｄ】
【図７ｅ】
【図２４】
【図２６ａ】
【図２６ｂ】
【図２ａ】
【図２ｂ】
【図２ｃ】
【図２ｄ】
【図２ｅ】
【図２ｆ】
【図３ａ】
【図３ｂ】
【図４】
【図５ａ】
【図５ｂ】
【図５ｃ】
【図６】
【図７ａ】
【図７ｂ】
【図７ｃ】
【図８】
【図９ａ】
【図９ｂ】
【図１０ａ】
【図１０ｂ】
【図１０ｃ】
【図１０ｄ】
【図１０ｅ】
【図１１】
【図１２】
【図１３ａ】
【図１３ｂ】
【図１３ｃ】
【図１３ｄ】
【図１４】
【図１５ａ】
【図１５ｂ】
【図１６ａ】
【図１６ｂ】
【図１７】
【図１８ａ】
【図１８ｂ】
【図１９ａ】
【図１９ｂｃ】
【図２０】
【図２１ａ】
【図２１ｂ】
【図２１ｃ】
【図２１ｄ】
【図２２ａ】
【図２２ｂ】
【図２２ｃ】
【図２２ｄ】
【図２２ｅ】
【図２３】
【図２５ａ】
【図２５ｂ】
【図７ｄ】
【図７ｅ】
【図２４】
【図２６ａ】
【図２６ｂ】
【公表番号】特表２０１２−５０４４３１（Ｐ２０１２−５０４４３１Ａ）
【公表日】平成２４年２月２３日（２０１２．２．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５２９３６８（Ｐ２０１１−５２９３６８）
【出願日】平成２１年９月２９日（２００９．９．２９）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００９／０５８８６１
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／０３９７３６
【国際公開日】平成２２年４月８日（２０１０．４．８）
【出願人】（５０２２１６８７５）プリンストン トレード アンド テクノロジー インコーポレイテッド (4)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２４年２月２３日（２０１２．２．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年９月２９日（２００９．９．２９）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００９／０５８８６１
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／０３９７３６
【国際公開日】平成２２年４月８日（２０１０．４．８）
【出願人】（５０２２１６８７５）プリンストン トレード アンド テクノロジー インコーポレイテッド (4)
【Ｆターム（参考）】
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