液晶表示パネルの製造方法
【課題】液晶滴下法で製造する液晶の真空下での劣化及び基板内の気泡の発生を抑制した
液晶表示パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】複数の液晶表示パネル形成領域２２からなるパネル領域２２Ａが形成された
第１マザー基板１１Ｍと第２マザー基板１４Ｍを用意する第１の工程と、第１マザー基板
１１Ｍと第２マザー基板１４Ｍの少なくとも一方に、複数の液晶表示パネル形成領域２２
のそれぞれ外周囲に沿って環状にシール材１７を塗布する第２の工程と、環状に塗布され
たシール材１７の内側に液晶１８ａを滴下する第３の工程と第１マザー基板１１Ｍと第２
マザー基板１４Ｍを真空中で貼り合せる第４の工程と、マザー基板１０Ｍを各液晶表示パ
ネル１０ｐに分断する第５の工程とを有する液晶表示パネル１０の製造方法であって、第
３の工程において、第１マザー基板１１Ｍ又は第２マザー基板１４Ｍのパネル領域２２Ａ
外の複数箇所に液晶１８ｂを滴下する。
液晶表示パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】複数の液晶表示パネル形成領域２２からなるパネル領域２２Ａが形成された
第１マザー基板１１Ｍと第２マザー基板１４Ｍを用意する第１の工程と、第１マザー基板
１１Ｍと第２マザー基板１４Ｍの少なくとも一方に、複数の液晶表示パネル形成領域２２
のそれぞれ外周囲に沿って環状にシール材１７を塗布する第２の工程と、環状に塗布され
たシール材１７の内側に液晶１８ａを滴下する第３の工程と第１マザー基板１１Ｍと第２
マザー基板１４Ｍを真空中で貼り合せる第４の工程と、マザー基板１０Ｍを各液晶表示パ
ネル１０ｐに分断する第５の工程とを有する液晶表示パネル１０の製造方法であって、第
３の工程において、第１マザー基板１１Ｍ又は第２マザー基板１４Ｍのパネル領域２２Ａ
外の複数箇所に液晶１８ｂを滴下する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶滴下（One Drop Fill：以下、「ＯＤＦ」という）法を用いた液晶表示
パネルの製造方法に関し、詳しくは、真空下に曝される液晶の劣化を抑制し、且つ液晶層
内の気泡の発生を抑制したＯＤＦ法を用いた液晶表示パネルの製造方法に関するものであ
る。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルに液晶を封入する方法としてＯＤＦ法が知られている。ＯＤＦ法は、各
種配線等が形成された一対の基板を貼り合わせる前に、下側に配置される例えばアレイ基
板の各液晶表示パネル形成領域を囲むようにシール材を閉ループ状に塗布し、その内側に
液晶を滴下し、その後、上側にカラーフィルター基板を覆い被せ、紫外線の照射等により
シール材を硬化させて貼り合わせる方法である。
【０００３】
ＯＤＦ法では、閉ループ状に塗布したシール材の内側に液晶を直接滴下して封入するた
め、液晶注入口を形成する必要が無くなるので、液晶表示装置の額縁領域を狭くし、表示
領域を大きくすることができ、且つ製造工程数の簡易化を図ることができる。また、従来
から採用されている真空注入法では、薄型パネルに形成された液晶注入口に封止材を塗布
することが困難であることや、大型液晶表示装置の製造時の液晶の注入時間が増大すると
いった課題が存在しているが、ＯＤＦ法はこれらの課題を解決する方法として注目されて
いる。
【０００４】
また、下記特許文献１にはＯＤＦ法で製造される液晶表示装置の発明が開示されている
。下記特許文献１に示されている液晶表示装置の製造方法によれば、液晶の粘性を小さく
抑えたＯＤＦ法に最も適した液晶材料を用いることにより、応答速度、特に中間調の高速
化を図り、表示特性の更なる向上が可能となるとされている。更に、下記特許文献２には
、液晶組成分中に高揮発性の液晶組成成分を含有させた液晶表示素子の製造方法が開示さ
れている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−００１４８２号公報
【特許文献２】特開２００４−０２９４５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、ＯＤＦ法を用いる場合、液晶を滴下後、真空中で一対の基板の貼り合わせを行
うため、液晶が真空下に曝されることによって発生する品質劣化の問題がある。すなわち
、通常、液晶は常温・常圧下ではほとんど変質しないが、液晶表示パネル形成領域ごとに
少量滴下された液晶は、貼り合わせを行う際に真空に接する面積が大きい上、高真空下に
曝されるので、液晶中に含まれる成分の揮発が起こり、製品に悪影響を与えるおそれがあ
る。これは、液晶には、液晶の粘性を小さくするために、易気化成分が添加されているた
めである。
【０００７】
この液晶中の成分の揮発は、液晶滴下後に一対のマザー基板が近接配置された後に真空
排気されるため、図１３Ａに示すように、一対のマザー基板の中央部よりも周辺領域（斜
線で示した領域）で生じ易い。すなわち、発明者の実験によれば、図１３Ｂに示すように
、真空下におけるＯＤＦ法による液晶中の揮発性成分の変化量は、一対のマザー基板の周
辺領域における値をｃとし、中央部における値をｂとしたとき、一対のマザー基板の中央
部では小さく、周辺領域では大きく、ｃ>ｂとなっている。
【０００８】
このことは、製造工程中の大判のマザー基板の周辺領域に位置していた液晶表示パネル
は、液晶中の揮発性を有する成分量が多く減っている（変化している）ことを意味する。
さらに、一対のマザー基板の周辺領域における揮発性成分の変化量ｃは、今回の場合中央
部の変化量ｂに対して１０倍ほど大きくなっていることから、一対のマザー基板の周辺領
域では中央部よりも著しい液晶の劣化が起こっていることがわかる。さらに、従来の液晶
注入口を形成する真空注入法を用いて液晶を注入する場合、図１３Ｂに示すように、液晶
中の揮発性成分の変化量ａは、ｃ>ａ>ｂの関係となっている。すなわち、ＯＤＦ法による
一対のマザー基板の周辺領域の揮発性成分の変化量ｃはａの約２倍強となり、一方、中央
部の変化量ｂはａの約１／５程となっている。このことは、ＯＤＦ法を採用すると、真空
注入法を用いた場合と比べても、一対のマザー基板の周辺領域の揮発性成分の変化量は大
きく、中央部では揮発性成分の変化量が小さいことを意味している。
【０００９】
発明者等は、このような液晶中の揮発性成分の揮発による劣化及び気泡の発生を抑制す
べく種々実験を重ねてきた。その結果、液晶中の揮発性成分が揮発し易いマザー基板の最
も外周側に位置する液晶表示パネル形成領域よりもさらに外側に液晶を滴下しておくと、
マザー基板の液晶表示パネル形成領域の液晶よりも先に、この外側に滴下した液晶から揮
発性成分が揮発するため、液晶表示パネル形成領域内の液晶中の揮発成分が揮発し難くな
ることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。
【００１０】
すなわち、本発明の目的は、ＯＤＦ法を用いて製造する液晶表示装置において、真空下
に曝される液晶の劣化を抑制し、且つ液晶層内の気泡の発生を抑制した液晶表示装置の製
造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するため、本発明の液晶表示パネルの製造方法は、
複数の液晶表示パネル形成領域からなるパネル領域が形成された第１マザー基板及び第
２マザー基板を用意する第１の工程と、
前記第１マザー基板及び第２マザー基板の少なくとも一方に、前記複数の液晶表示パネ
ル領域のそれぞれ外周囲に沿って環状にシール材を塗布する第２の工程と、
前記環状に塗布されたシール材の内側に液晶を滴下する第３の工程と
前記第１マザー基板と前記第２マザー基板を真空中で貼り合せる第４の工程と、
前記マザー基板を各液晶表示パネルに分断する第５の工程とを有する液晶表示パネルの
製造方法であって、
前記第３の工程において、前記第１マザー基板又は前記第２マザー基板の前記パネル領
域外の複数箇所に前記液晶を滴下することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【００１２】
液晶中には、液晶の粘性を小さくするため、易気化成分が添加されている。ＯＤＦ法で
液晶表示パネルを製造する場合、液晶滴下後に広い面積で液晶が真空下に曝されるため、
易気化成分が容易に揮発するので、液晶の品質の劣化及び気泡の発生が生じる虞がある。
この現象は、ＯＤＦ法による液晶表示パネルの製造工程では、液晶滴下後に第１マザー基
板及び第２マザー基板が近接配置された後に真空排気されるため、第１マザー基板及び第
２マザー基板の周辺領域で生じ易い。なお、このような現象は、シール剤によって液晶注
入口を形成してこの液晶注入口から液晶を注入する場合には、液晶が真空下に曝される面
積が小さいため、生じ難い。
【００１３】
本発明の液晶表示パネルの製造方法では、ＯＤＦ法によって液晶表示パネルを作製する
際、第１マザー基板又は第２マザー基板の周辺部のパネル領域外にも液晶を複数箇所に滴
下している。このようにすると、液晶滴下後に真空下に曝されても、第１マザー基板及び
第２マザー基板が近接配置されているために、第１マザー基板及び第２マザー基板の最外
周囲に位置する液晶から劣化ないし気泡の発生が生じるようになる。そのため、第１マザ
ー基板及び第２マザー基板の外周側の液晶表示パネル形成領域の液晶の劣化ないし液晶内
の気泡の発生を遅らせることができ、結果的に、両基板の貼り合わせが完了するまで、外
周側の液晶表示パネル形成領域の液晶の劣化ないし液晶内の気泡の発生を抑制することが
できる。そのため、本発明の液晶表示パネルの製造方法によれば、第１マザー基板及び第
２マザー基板によって同時に製造する全ての液晶表示パネルについて、液晶の劣化及び液
晶内の気泡の発生が少ない液晶表示パネルを製造することができるようになる。
【００１４】
また、本発明の液晶表示パネルの製造方法においては、前記第２の工程において、更に
、前記シール材を、前記第１マザー基板又は第２マザー基板の前記パネル領域の外周側を
一体に囲むように、環状に塗布し、前記第３の工程において、前記パネル領域の外周側を
一体に囲むように環状に形成されたシール材の外周側に前記液晶を複数箇所滴下すること
が好ましい。
【００１５】
本発明の液晶表示パネルの製造方法によれば、マザー基板に形成される複数の液晶表示
パネル形成領域とマザー基板のパネル領域の外周囲に滴下される液晶との間に、一体にシ
ール材によって壁が形成されている。そのため、マザー基板のパネル領域の外周囲に滴下
した液晶がマザー基板の液晶表示パネル形成領域内に侵入することを抑制することができ
るので、液晶表示パネルの実装領域の端子部などが液晶によって汚染されることを抑制す
ることができるようになる。
【００１６】
また、本発明の液晶表示パネルの製造方法においては、前記第２の工程において、前記
シール材を、前記第１マザー基板又は第２マザー基板の前記パネル領域の外周側に、前記
マザー基板の分断線上を避けて、環状に複数箇所に塗布し、前記第３の工程において、前
記パネル領域の外周側に形成した複数箇所の環状のシール材の内部にも前記液晶を滴下す
るようにしてもよい。
【００１７】
本発明の液晶表示パネルの製造方法によれば、マザー基板のパネル領域の外周側に滴下
される液晶は、マザー基板の分断線上を避けて形成した、複数の液晶表示パネル形成領域
の更に外周側に形成した環状のシール材の内部に滴下されている。そのため、マザー基板
を分断した際に、マザー基板上に液晶が残ることがないので、個々の液晶表示パネルの外
周部を液晶で汚すことなく製造することができ、また、余計な洗浄工程を設ける必要がな
くなる。
【００１８】
また、本発明の液晶表示パネルの製造方法においては、前記第３の工程において、前記
第１マザー基板又は前記第２マザー基板の前記パネル領域外に滴下する液晶の高さを、前
記液晶表示パネル形成領域内に滴下する液晶の高さよりも低くなるようにするとより好ま
しい。
【００１９】
本発明の液晶表示パネルの製造方法によれば、マザー基板のパネル領域の外周囲に滴下
する液晶の高さを液晶表示パネル形成領域内に滴下する液晶の高さより低くなるようにし
たので、無駄な液晶量を少なくすることができ、効率よく液晶の劣化ないし液晶内の気泡
の発生を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】図１Ａは実施形態1〜３に共通する液晶表示パネルの平面図であり、図１Ｂは図１ＡのＩＢ−ＩＢ線に沿った断面図である。
【図２】実施形態１の液晶表示パネルの製造工程を示したフローチャートである。
【図３】図３Ａは実施形態１の一方のマザー基板にシール材を塗布する工程を示す斜視図であり、図３Ｂは液晶を滴下する工程を示す斜視図であり、図３Ｃは両マザー基板を対向配置した斜視図である。
【図４】図４Ａは図３ＣのIVＡ−IVＡ線での断面図であり、図４Ｂは図４Ａに続く貼り合せ後の断面図である。
【図５】図５Ａは分断工程の切断線を示す平面図であり、図５Ｂは分断後の液晶表示パネルを示す平面図である。
【図６】実施形態２の液晶表示パネルの製造工程を示すフローチャートである。
【図７】図７Ａは実施形態２の一方のマザー基板にシール材を塗布する工程を示す斜視図であり、図７Ｂは液晶を滴下する工程を示す斜視図であり、図７Ｃは両マザー基板を対向配置した斜視図である。
【図８】図７Ａは図６ＣのVIIＡ‐VIIＡ線での断面図であり、図７Ｂは図７Ａに続く貼り合せ後の断面図である。
【図９】実施形態３の液晶表示パネルの製造工程を示すフローチャートである。
【図１０】図１０Ａは実施形態３の一方のマザー基板にシール材を塗布する工程を示す斜視図であり、図１０Ｂは液晶を滴下する工程を示す斜視図であり、図１０Ｃは両マザー基板を対向配置した斜視図である。
【図１１】図１１Ａは図１０ＣのXIＡ‐XIＡ線での断面図であり、図１１Ｂは図１１Ａに続く貼り合せ後の断面図である。
【図１２】図１２Ａは実施形態４の一方のマザー基板にシール材を塗布する工程を示す斜視図であり、図１２Ｂは液晶を滴下する工程を示す斜視図であり、図１２Ｃは両マザー基板を対向配置した斜視図である。
【図１３】図１３Ａは従来の真空下での液晶内の揮発成分の揮発しやすい部分を示す平面図であり、図１３Ｂは液晶内の揮発成分の揮発する位置による変化量の比較を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明を実施するための形態について、実施形態及び図面を参照しながら詳細に
説明する。ただし、以下に示す実施形態は、本発明の技術思想を具体化するためにＯＤＦ
法を用いた液晶表示パネルの製造方法を例にとって説明するものであって、本発明をこの
実施形態に記載されたＯＤＦ法を用いた液晶表示パネルの製造方法に特定することを意図
するものではなく、本発明は特許請求の範囲に含まれるその他の実施形態のものにも等し
く適応し得るものである。なお、この明細書における説明のために用いられた各図面にお
いては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に
縮尺を異ならせて表示しており、必ずしも実際の寸法に比例して表示されているものでは
ない。また、以下に述べるアレイ基板及びカラーフィルター基板の「表面」とは各種配線
が形成された面ないしは液晶と対向する側の面を示すものとし、「裏面」とは表示面側（
カラーフィルター基板の場合）ないしバックライト側（アレイ基板の場合）の面を示すも
のとする。
【００２２】
［実施形態１］
まず、図１を参照して、実施形態１のＯＤＦ法を用いた液晶表示パネルの製造方法によ
って製造される液晶表示パネル１０の構成について説明する。図１Ａ及び図１Ｂに示すよ
うに、実施形態１の液晶表示パネル１０は、ガラス等からなる第1透明基板１２上に各種
配線等を形成したアレイ基板１１と、ガラス等からなる第２透明基板１５上にカラーフィ
ルター等を形成したカラーフィルター基板１４とが対向配置されている。
【００２３】
アレイ基板１１は、カラーフィルター基板１４と対向配置させたときに所定スペースの
実装領域１２ａが形成されるように、カラーフィルター基板１４より若干サイズが大きい
ものが使用されている。この実装領域１２ａには、液晶１８ａを駆動するドライバーＩＣ
２１等が配置されている。
【００２４】
アレイ基板１１とカラーフィルター基板１４は、その周辺にシール材１７が環状に塗布
され、内部に液晶１８ａが封入された状態で貼り合わされている。なお、このシール材１
７で囲まれた領域の内側に表示領域１９が形成され、表示領域１９の外側が非表示領域２
０となっている。なお、アレイ基板１１とカラーフィルター基板１４とは、一定の隙間（
セルギャップ）を有するようにフォトスペーサー（図示省略）が形成され、また、アレイ
基板１１とカラーフィルター基板１４の裏側にはそれぞれ偏光板（図示省略）が形成され
ている。
【００２５】
次に、図２〜図５を参照して実施形態１の液晶表示パネルの製造工程を説明する。なお
、以下の説明は、図２のフローチャートに沿って説明する。
【００２６】
アレイ基板側の第１マザー基板１１Ｍ（以下単に第１マザー基板という）は、ガラス等
の第１透明基板１２上に、金属膜や絶縁膜、樹脂膜等の成膜とパターニングを繰り返して
信号線や走査線などの各種配線、スイッチング素子としての薄膜トランジスター（ＴＦＴ
：Thin Film Transistor）、ＩＴＯ（Indium Thin Oxide）やＩＺＯ（Indium Zinc Oxide
）等の透明導電性材料からなる下電極、電極間絶縁膜、ＩＴＯやＩＺＯ等の透明導電性材
料からなる上電極、配向膜などを備え、複数個の液晶表示パネル形成領域２２を含むよう
にパネル２２Ａを形成する。なお、これらの下電極、電極間絶縁膜、上電極等の構成は、
周知のＦＦＳモードの液晶表示装置の場合と相違はないので、図１Ｂではこれらを総称し
て構造物１３として表している。そして、配向膜にラビング処理をして第１マザー基板１
１Ｍが完成される（ステップＳ１）。
【００２７】
また、カラーフィルター側の第２マザー基板１４Ｍ（以下単に第２マザー基板という）
は、ガラス等の第２透明基板１５上に金属膜や樹脂膜、絶縁膜等の成膜とパターニングを
繰り返し、遮光層、カラーフィルター層、オーバーコート層、配向膜等を備えるように形
成される。なお、図１Ｂではこれらを総称して構造物１６として表している。そして、配
向膜にラビング処理をして第２マザー基板１４Ｍが完成される（ステップＳ２）。
【００２８】
次に、図３Ａに示すように第１及び第２マザー基板１１Ｍ、１４Ｍを貼り合せるための
パネルシール材１７を塗布する。パネルシール材１７は、例えば専用のシールディスペン
サー２３を用いて、各液晶表示パネル形成領域２２の周囲を囲むように環状に塗布する（
ステップＳ３）。なお、実施形態１の液晶表示パネル１０の製造方法では、図３Ａに示す
ように第１マザー基板１１Ｍ側に形成した例を示す。また、パネルシール材は熱硬化性、
紫外線硬化性あるいはこれらを組み合わせたものを用いることができる。
【００２９】
また、各液晶表示パネル形成領域２２には、アレイ基板１１とカラーフィルター基板１
４間のセルギャップを一定に保つためのフォトスペーサー（図示省略）を設ける必要があ
るが、このフォトスペーサーは第１マザー基板又は第２マザー基板のいずれか一方の表面
に形成すればよい。
【００３０】
次に、図３Ｂに示すように第１マザー基板１１Ｍに専用の液晶滴下装置２４を用いて液
晶１８を滴下する（ステップＳ４、Ｓ５）。ここでは、液晶１８を、各液晶表示パネル形
成領域２２の略中央部、すなわち、第１マザー基板１１Ｍに形成されたパネルシール材１
７の内側に液晶１８ａとして滴下し、液晶表示パネル形成領域２２の外側、つまりパネル
領域２２Ａの外側に液晶１８ｂとして複数個所滴下する。なお、液晶１８ａと液晶１８ｂ
の滴下する順番は、特に限定はなく、液晶１８ａを先に滴下した後、液晶１８ｂを滴下し
てもよい。またその反対に、液晶１８ｂを滴下した後、液晶１８ａを滴下してもよい。
【００３１】
次に、第１及び第２マザー基板１１Ｍ、１４Ｍの貼り合わせを、公知の真空発生装置を
用いて真空状態にした貼り合せ装置２５内で行う（ステップＳ６）。貼り合せは図３Ｃ及
び図４Ａに示すように、パネルシール材１７を塗布し液晶１８ａ、１８ｂを滴下した第１
マザー基板１１Ｍと、第２マザー基板１４Ｍを対向配置し、第１及び第２マザー基板１１
Ｍ、１４Ｍを貼り合せ、滴下した液晶１８ａを液晶表示パネル形成領域２２内に充填させ
る（図４Ｂ参照）。なお、貼り合わせた第１及び第２マザー基板を１０Ｍとする。
【００３２】
このとき、実施形態１の液晶表示パネル１０の製造方法では、第１マザー基板１１Ｍの
液晶表示パネル形成領域２２内に液晶１８ａを滴下するだけでなく、パネル領域２２Ａの
外側にも液晶１８ｂを複数箇所に滴下している。このようにすることで、前述したように
、液晶の揮発性成分が揮発しやすいマザー基板１０Ｍの最も外側にある液晶表示パネル形
成領域２２（図１３Ａ斜線部参照）よりもさらに外側に滴下した液晶１８ｂの揮発性成分
が先に揮発し始め（図４Ａの矢印参照）、液晶表示パネル形成領域２２内に滴下した液晶
１８ａの劣化ないし液晶内の気泡の発生を遅らせることができ、第１及び第２マザー基板
１１Ｍ，１４Ｍの貼り合わせが完了するまでに、第１及び第２マザー基板１１Ｍ，１４Ｍ
の最も外側にある液晶表示パネル形成領域２２内の液晶が劣化ないし液晶内の気泡の発生
を抑制することができる。そして、パネルシール材１７を加熱あるいは、紫外線を照射す
ることで硬化させ、貼り合わせが完了する。
【００３３】
その後、図５Ａに示すように、貼り合わせが完了したマザー基板１０Ｍを切断線２６に
沿って図５Ｂに示すように、個々の液晶表示パネル１０ｐに分断する分断工程及び、基板
上に残った外側に添付した液晶１８ｂを洗浄する洗浄工程を行う（ステップＳ７）。そし
て、個々の液晶表示パネルに分断した液晶表示パネル１０ｐにドライバーＩＣ２１等を設
置し、図１に示すような実施形態１の液晶表示パネル１０が完成する（ステップＳ８）。
【００３４】
以上より、実施形態１の液晶表示パネルの製造方法によれば、第１マザー基板及び第２
マザー基板によって同時に製造する全ての液晶表示パネルについて、液晶の劣化及び液晶
内の気泡の発生が少ない製造歩留まりのよい液晶表示パネルを製造することができるよう
になる。
【００３５】
[実施形態２]
実施形態１の液晶表示パネルの製造方法では、単にパネル領域の外側に液晶を滴下した
場合を示した。実施形態２の液晶表示パネルの製造方法では、複数の液晶表示パネル形成
領域を一体に囲むようにパネル領域２２Ａの外側に環状のシール材を形成し、この環状の
シール材の外側に液晶を滴下する場合を説明する。なお、実施形態２の液晶表示パネルの
製造方法では、シール材を形成する位置が異なるのみなので、実施形態１の液晶表示パネ
ルの製造方法と共通する構成には同一の符号を参照し、詳細な説明は省略する。
【００３６】
実施形態２の液晶表示パネル１０Ａの製造工程を図１及び図１、図６〜図８を参照して
説明する。なお、以下、図６のフローチャートに沿って説明する。
【００３７】
実施形態２の液晶表示パネル１０Ａの製造方法は、図６のフローチャートに示すように
、実施形態１の液晶表示パネル１０の製造方法に比べて、シール材を複数の液晶表示パネ
ル形成領域を一体に囲むようにパネル領域２２Ａの外側に環状に形成する工程が追加され
ている。なお、他の工程は実施形態１と同じである。この液晶表示パネル形成領域を一体
に囲むように環状に形成したシール材を外周環状シール材という。
【００３８】
まず、上記実施形態１と同様に、第１マザー基板１１ＡＭ及び第２マザー基板１４ＡＭ
を用意する。この工程は上記実施形態１で説明したステップＳ１及びステップＳ２と同一
であるので、詳細な説明は省略する（ステップＳ１Ａ、Ｓ２Ａ）。
【００３９】
次に、図７Ａに示すように第１及び第２マザー基板１１ＡＭ、１４ＡＭを貼り合せるた
めのシール材１７Ａを塗布する（ステップＳ３Ａ、Ｓ４Ａ）。このシール材１７Ａは、液
晶表示パネル形成領域２２を囲むように環状に形成されるパネルシール材１７Ａａ（ステ
ップＳ３Ａ）と、パネル領域２２Ａの外側に形成される外周環状シール材１７Ａｂとから
なる（ステップＳ４Ａ）。これらのシール材１７Ａは、図７Ａに示すように、実施形態１
と同様に例えば専用のシールディスペンサー２３を用いて、第１マザー基板１１ＢＭ側に
形成する。なお、シール材は熱硬化性、紫外線硬化性あるいはこれらを組み合わせたもの
を用いることができる。
【００４０】
次に、図７Ｂに示すように第１マザー基板１１ＡＭに専用の液晶滴下装置２４を用いて
液晶１８Ａを滴下する。ここでは、液晶１８Ａを、各液晶表示パネル形成領域２２の中央
部、すなわち、第１マザー基板１１Ｍに形成されたパネルシール材１７Ａａの内側に液晶
１８Ａａとして滴下し（ステップＳ５Ａ）、外周環状シール材１７Ａｂの外側に液晶１８
Ａｂとして複数箇所に滴下する（ステップＳ６Ａ）。なお、先述したように、ステップＳ
５ＡとステップＳ６Ａの順番が逆でも構わない。
【００４１】
次に、第１及び第２マザー基板１１ＡＭ、１４ＡＭの貼り合わせを、実施形態１と同様
に公知の真空発生装置を用いて真空状態にした貼り合せ装置２５内で行う（ステップＳ７
Ａ）。貼り合せは図７Ｃ、図８Ａに示すように、シール材１７Ａを塗布し液晶１８Ａを滴
下した第１マザー基板１１ＡＭと、第２マザー基板１４ＡＭを対向配置し、第１及び第２
マザー基板１１ＡＭ、１４ＡＭを貼り合せ、滴下した液晶１８Ａａを液晶表示パネル形成
領域２２内に充填させる（図８Ｂ参照）。
【００４２】
このとき、実施形態２の液晶表示パネル１０Ａの製造方法では、第１マザー基板１１Ａ
Ｍの液晶表示パネル形成領域２２内に液晶１８Ａａを滴下するだけでなく、パネル領域２
２Ａの外側に塗布した環状の外周環状シール材１７Ａｂの外側にも液晶１８Ａｂを複数箇
所に滴下している。このようにすることで、液晶内の揮発性成分の揮発を抑制すると共に
、マザー基板１０ＡＭの外周環状シール材１７Ａｂの外側に滴下した液晶１８Ａｂがマザ
ー基板１０ＡＭの内側に侵入することを抑制することができる。そして、各シール材１７
Ａａ、１７Ａｂを加熱あるいは、紫外線を照射することで硬化させ、貼り合わせが完了す
る。
【００４３】
その後、実施形態１と同様に、貼り合わせが完了したマザー基板１０ＡＭを切断線２６
に沿って複数の液晶表示パネル１０Ａｐに分断する分断工程及び、基板上に残った外側に
添付した液晶１８Ａｂを洗浄する洗浄工程を行う（ステップＳ８Ａ）。そして、個々に分
断した液晶表示パネル１０Ａｐ（図５Ｂ参照）にドライバーＩＣ２１等を設置し、図１に
示すような実施形態２の液晶表示パネル１０Ａが完成する（ステップＳ９Ａ）。
【００４４】
以上より、実施形態２の液晶表示装置の製造方法によれば、実施形態１と同様に液晶の
成分変化を抑制することで不良品の発生を抑制し、製造歩留まりのよい液晶表示パネルを
製造することができるとともに、液晶表示パネルの実装領域の端子部などが液晶によって
汚染されることを抑制することができるようになる。
【００４５】
[実施形態３]
実施形態２の液晶表示パネルの製造方法では、パネル領域の外側に滴下した液晶が液晶
表示パネル形成領域に侵入するのを抑制するために外周環状シール材を形成した場合を説
明した。実施形態３の液晶表示パネルの製造方法では、パネル領域の外側に小さな環状の
シール材を複数個形成し、この小さな環状のシール材の内側に液晶を滴下する場合を説明
する。なお、実施形態３の液晶表示パネルの製造方法では、シール材を形成する位置が異
なるのみなので、実施形態１の液晶表示パネルの製造方法と共通する構成には同一の符号
を参照し、詳細な説明は省略する。
【００４６】
実施形態３の液晶表示パネルの製造工程を図１、図９〜図１１を参照して説明する。な
お、以下、図９のフローチャートに沿って説明する。
【００４７】
実施形態３の液晶表示パネル１０Ｂの製造方法は、図９のフローチャートに示すように
、実施形態１の液晶表示パネル１０の製造方法に比べて、シール材をパネル領域の外側に
小さな環状のシール材を複数個形成する工程が追加されている。なお、他の工程は実施形
態１と同じである。このパネル領域の外側に形成した複数個の小さな環状のシール材を外
側小環状シール材という。
【００４８】
まず、上記実施形態１と同様に第１マザー基板１１ＢＭ及び第２マザー基板１４ＢＭを
用意する。この工程は上記実施形態１で説明したステップＳ１、Ｓ２と同一であるので、
詳細な説明は省略する（ステップＳ１Ｂ、Ｓ２Ｂ）。
【００４９】
次に、図１０Ａに示すように第１及び第２マザー基板１１ＢＭ、１４ＢＭを貼り合せる
ためのシール材１７Ｂを塗布する。このシール材１７Ｂには、液晶表示パネル形成領域２
２を囲むように環状に形成されるパネルシール材１７Ｂａと（ステップＳ３Ｂ）、パネル
領域２２Ａの外側に形成される外側小環状シール材１７Ｂｂとがある（ステップＳ４Ｂ）
。また、この外側小環状シール材１７Ｂｂは、マザー基板１０ＢＭを切断する切断線２６
Ｂと重なる位置を避けて塗布される。これらのシール材１７Ｂは、図１０Ａに示すように
、実施形態１と同様に例えば専用のシールディスペンサー２３を用いて、第１マザー基板
１１ＢＭ側に形成する。なお、シール材は熱硬化性、紫外線硬化性あるいはこれらを組み
合わせたものを用いることができる。
【００５０】
次に、図１０Ｂに示すように第１マザー基板１１ＢＭに専用の液晶滴下装置２４を用い
て液晶１８Ｂを滴下する。ここでは、液晶１８Ｂを、各液晶表示パネル形成領域２２の中
央部、すなわち、第１マザー基板１１Ｍに形成されたパネルシール材１７Ｂａの内側に液
晶１８Ｂａとして滴下し（ステップＳ５Ｂ）、外側小環状シール材１７Ｂｂの内側に液晶
１８Ｂｂとして滴下する（ステップＳ６Ｂ）。
【００５１】
次に、第１及び第２マザー基板１１ＢＭ、１４ＢＭの貼り合わせを、公知の真空発生装
置を用いて真空状態にした貼り合せ装置２５内で行う（ステップＳ７Ｂ）。貼り合せは図
１０Ｃ及び図１１Ａに示すように、シール材１７Ｂを塗布し液晶１８Ｂを滴下した第１マ
ザー基板１１ＢＭと、第２マザー基板１４ＢＭを対向配置し、第１及び第２マザー基板１
１ＢＭ、１４ＢＭを貼り合せ、滴下した液晶１８Ｂａを液晶表示パネル形成領域２２内に
充填させる（図１１Ｂ参照）。
【００５２】
このとき、実施形態３の液晶表示パネル１０Ｂの製造方法では、ＯＤＦ法によって液晶
表示パネルを作製する際、第１マザー基板１１ＢＭの液晶表示パネル形成領域２２内の他
に、外側小環状シール材１７Ｂｂの内部にも液晶１８Ｂｂを滴下している。このようにす
ることで、液晶表示パネル形成領域２２の外側に滴下した液晶１８Ｂｂを外側小環状シー
ル材１７Ｂｂの中へ閉じ込めておくことができる。そして、シール材１７Ｂを加熱あるい
は、紫外線を照射することで硬化させ、貼り合わせが完了する。
【００５３】
その後、貼り合わせが完了したマザー基板１０ＢＭを複数の液晶表示パネル１０Ｂｐに
分断する分断工程を行う（ステップＳ８Ｂ）。このとき、外側小環状シール材１７Ｂｂを
形成することで、マザー基板１０ＢＭを分断した際に、パネル領域２２Ａの外側に滴下し
た液晶は外側小環状シール材１７Ｂｂ内に閉じ込められているため、飛散することがない
ので特別な洗浄工程を設ける必要はない。その後、分断したそれぞれの液晶表示パネル１
０ＢｐにドライバーＩＣ２１等を設置し、図１Ａに示すような実施形態１の液晶表示パネ
ル１０Ｂが完成する（ステップＳ９Ｂ）。
【００５４】
以上より、実施形態３の液晶表示パネル１０Ｂの製造方法によれば、実施形態１と同様
に液晶の成分変化を抑制することで不良品の発生を抑制し、製造歩留まりのよい液晶表示
パネルを製造することができるとともに、個々の液晶表示パネルの外周部を液晶で汚すこ
となく製造することができ、また、余計な洗浄工程を設ける必要がなくなる。
【００５５】
なお、上記実施形態１〜３の液晶表示パネルの製造方法において、パネル領域の外側に
滴下する液晶の高さを、液晶表示パネル形成領域内に滴下する液晶よりも低くすることが
できる。このようにすることで、無駄な液晶量を少なくすることができ、効率よく液晶の
劣化ないし液晶内の気泡の発生を抑制することができる。
【００５６】
また、上記実施形態１〜３では、液晶は液晶表示パネル形成領域内を先に滴下した場合
を説明したが、これに限らず、液晶表示パネル形成領域の外側を先に滴下してもよい。
【００５７】
さらに、上記実施形態１〜３の液晶表示パネルの製造方法では、第１マザー基板にシー
ル材の塗布及び液晶の滴下をした場合を説明したが、これに限らず、第２マザー基板にシ
ール材の塗布及び液晶の滴下をしてもよく、また、シール材の塗布及び液晶の滴下を第１
マザー基板及び第２マザー基板のそれぞれ別々に行ってもよい。
【００５８】
また、パネル領域２２Ａの外側に形成されるシール材１７Ｃの形成例として、図１２Ａ
〜図１２Ｃに示す実施形態４の液晶表示装置１０Ｃのように、マザー基板１０ＣＭの基板
辺に向かって開口するコの字状のシール材１７Ｃｂと、コの字状の開口辺を塞ぐとともに
、第１マザー基板の４辺に沿って形成された外周シール材１７Ｃｃからなるものでもよい
。このようにコの字状シール材１７Ｃｂと外周シール材１７Ｃｃを形成することで、実施
形態３では外側小環状シール材１７Ｂｂを一つ一つ形成しているのに対し、実施形態４で
はいわゆる一筆書きで形成することができるようになり、容易にパネルシール材１７Ｃａ
以外のシール材１７Ｃｂ、１７Ｃｃを形成することができるようになる。なお、他の工程
は実施形態３の液晶表示装置の製造工程と共通するので説明は省略する。
【符号の説明】
【００５９】
１０、１０Ａ〜１０Ｃ：液晶表示パネル １０ｐ、１０Ａｐ〜１０Ｃｐ：分断後の液晶
表示パネル １０Ｍ、１０ＡＭ〜１０ＣＭ：マザー基板 １１：アレイ基板 １１Ｍ、１
１ＡＭ〜１１ＣＭ：第１マザー基板 １２：第１透明基板 １２ａ：実装領域 １３：第
１構造物 １４：カラーフィルター基板 １４Ｍ、１４ＡＭ〜１４ＣＭ：第２マザー基板
１５：第２透明基板 １６：第２構造物 １７：パネルシール材 １７Ａ：シール材
１７Ａａ：パネルシール材 １７Ａｂ：外周環状シール材 １７Ｂ：シール材 １７Ｂａ
：パネルシール材 １７Ｂｂ：外側小環状シール材 １７Ｃａ：パネルシール材 １７Ｃ
ｂ：コの字状のシール材 １７Ｃｃ：外周シール材 １８、１８Ａ〜１８Ｃ：液晶 １８
ａ、１８Ａａ〜１８Ｃａ：パネル内液晶 １８ｂ、１８Ａｂ〜１８Ｃｂ：パネル外液晶
１９：表示領域 ２０：非表示領域 ２１：ドライバーＩＣ ２２：液晶表示パネル形成
領域 ２２Ａ：パネル領域 ２３：シールディスペンサー ２４：液晶滴下装置 ２５：
装置 ２６、２６Ｂ、２６Ｃ：切断線
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶滴下（One Drop Fill：以下、「ＯＤＦ」という）法を用いた液晶表示
パネルの製造方法に関し、詳しくは、真空下に曝される液晶の劣化を抑制し、且つ液晶層
内の気泡の発生を抑制したＯＤＦ法を用いた液晶表示パネルの製造方法に関するものであ
る。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルに液晶を封入する方法としてＯＤＦ法が知られている。ＯＤＦ法は、各
種配線等が形成された一対の基板を貼り合わせる前に、下側に配置される例えばアレイ基
板の各液晶表示パネル形成領域を囲むようにシール材を閉ループ状に塗布し、その内側に
液晶を滴下し、その後、上側にカラーフィルター基板を覆い被せ、紫外線の照射等により
シール材を硬化させて貼り合わせる方法である。
【０００３】
ＯＤＦ法では、閉ループ状に塗布したシール材の内側に液晶を直接滴下して封入するた
め、液晶注入口を形成する必要が無くなるので、液晶表示装置の額縁領域を狭くし、表示
領域を大きくすることができ、且つ製造工程数の簡易化を図ることができる。また、従来
から採用されている真空注入法では、薄型パネルに形成された液晶注入口に封止材を塗布
することが困難であることや、大型液晶表示装置の製造時の液晶の注入時間が増大すると
いった課題が存在しているが、ＯＤＦ法はこれらの課題を解決する方法として注目されて
いる。
【０００４】
また、下記特許文献１にはＯＤＦ法で製造される液晶表示装置の発明が開示されている
。下記特許文献１に示されている液晶表示装置の製造方法によれば、液晶の粘性を小さく
抑えたＯＤＦ法に最も適した液晶材料を用いることにより、応答速度、特に中間調の高速
化を図り、表示特性の更なる向上が可能となるとされている。更に、下記特許文献２には
、液晶組成分中に高揮発性の液晶組成成分を含有させた液晶表示素子の製造方法が開示さ
れている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−００１４８２号公報
【特許文献２】特開２００４−０２９４５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、ＯＤＦ法を用いる場合、液晶を滴下後、真空中で一対の基板の貼り合わせを行
うため、液晶が真空下に曝されることによって発生する品質劣化の問題がある。すなわち
、通常、液晶は常温・常圧下ではほとんど変質しないが、液晶表示パネル形成領域ごとに
少量滴下された液晶は、貼り合わせを行う際に真空に接する面積が大きい上、高真空下に
曝されるので、液晶中に含まれる成分の揮発が起こり、製品に悪影響を与えるおそれがあ
る。これは、液晶には、液晶の粘性を小さくするために、易気化成分が添加されているた
めである。
【０００７】
この液晶中の成分の揮発は、液晶滴下後に一対のマザー基板が近接配置された後に真空
排気されるため、図１３Ａに示すように、一対のマザー基板の中央部よりも周辺領域（斜
線で示した領域）で生じ易い。すなわち、発明者の実験によれば、図１３Ｂに示すように
、真空下におけるＯＤＦ法による液晶中の揮発性成分の変化量は、一対のマザー基板の周
辺領域における値をｃとし、中央部における値をｂとしたとき、一対のマザー基板の中央
部では小さく、周辺領域では大きく、ｃ>ｂとなっている。
【０００８】
このことは、製造工程中の大判のマザー基板の周辺領域に位置していた液晶表示パネル
は、液晶中の揮発性を有する成分量が多く減っている（変化している）ことを意味する。
さらに、一対のマザー基板の周辺領域における揮発性成分の変化量ｃは、今回の場合中央
部の変化量ｂに対して１０倍ほど大きくなっていることから、一対のマザー基板の周辺領
域では中央部よりも著しい液晶の劣化が起こっていることがわかる。さらに、従来の液晶
注入口を形成する真空注入法を用いて液晶を注入する場合、図１３Ｂに示すように、液晶
中の揮発性成分の変化量ａは、ｃ>ａ>ｂの関係となっている。すなわち、ＯＤＦ法による
一対のマザー基板の周辺領域の揮発性成分の変化量ｃはａの約２倍強となり、一方、中央
部の変化量ｂはａの約１／５程となっている。このことは、ＯＤＦ法を採用すると、真空
注入法を用いた場合と比べても、一対のマザー基板の周辺領域の揮発性成分の変化量は大
きく、中央部では揮発性成分の変化量が小さいことを意味している。
【０００９】
発明者等は、このような液晶中の揮発性成分の揮発による劣化及び気泡の発生を抑制す
べく種々実験を重ねてきた。その結果、液晶中の揮発性成分が揮発し易いマザー基板の最
も外周側に位置する液晶表示パネル形成領域よりもさらに外側に液晶を滴下しておくと、
マザー基板の液晶表示パネル形成領域の液晶よりも先に、この外側に滴下した液晶から揮
発性成分が揮発するため、液晶表示パネル形成領域内の液晶中の揮発成分が揮発し難くな
ることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。
【００１０】
すなわち、本発明の目的は、ＯＤＦ法を用いて製造する液晶表示装置において、真空下
に曝される液晶の劣化を抑制し、且つ液晶層内の気泡の発生を抑制した液晶表示装置の製
造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するため、本発明の液晶表示パネルの製造方法は、
複数の液晶表示パネル形成領域からなるパネル領域が形成された第１マザー基板及び第
２マザー基板を用意する第１の工程と、
前記第１マザー基板及び第２マザー基板の少なくとも一方に、前記複数の液晶表示パネ
ル領域のそれぞれ外周囲に沿って環状にシール材を塗布する第２の工程と、
前記環状に塗布されたシール材の内側に液晶を滴下する第３の工程と
前記第１マザー基板と前記第２マザー基板を真空中で貼り合せる第４の工程と、
前記マザー基板を各液晶表示パネルに分断する第５の工程とを有する液晶表示パネルの
製造方法であって、
前記第３の工程において、前記第１マザー基板又は前記第２マザー基板の前記パネル領
域外の複数箇所に前記液晶を滴下することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【００１２】
液晶中には、液晶の粘性を小さくするため、易気化成分が添加されている。ＯＤＦ法で
液晶表示パネルを製造する場合、液晶滴下後に広い面積で液晶が真空下に曝されるため、
易気化成分が容易に揮発するので、液晶の品質の劣化及び気泡の発生が生じる虞がある。
この現象は、ＯＤＦ法による液晶表示パネルの製造工程では、液晶滴下後に第１マザー基
板及び第２マザー基板が近接配置された後に真空排気されるため、第１マザー基板及び第
２マザー基板の周辺領域で生じ易い。なお、このような現象は、シール剤によって液晶注
入口を形成してこの液晶注入口から液晶を注入する場合には、液晶が真空下に曝される面
積が小さいため、生じ難い。
【００１３】
本発明の液晶表示パネルの製造方法では、ＯＤＦ法によって液晶表示パネルを作製する
際、第１マザー基板又は第２マザー基板の周辺部のパネル領域外にも液晶を複数箇所に滴
下している。このようにすると、液晶滴下後に真空下に曝されても、第１マザー基板及び
第２マザー基板が近接配置されているために、第１マザー基板及び第２マザー基板の最外
周囲に位置する液晶から劣化ないし気泡の発生が生じるようになる。そのため、第１マザ
ー基板及び第２マザー基板の外周側の液晶表示パネル形成領域の液晶の劣化ないし液晶内
の気泡の発生を遅らせることができ、結果的に、両基板の貼り合わせが完了するまで、外
周側の液晶表示パネル形成領域の液晶の劣化ないし液晶内の気泡の発生を抑制することが
できる。そのため、本発明の液晶表示パネルの製造方法によれば、第１マザー基板及び第
２マザー基板によって同時に製造する全ての液晶表示パネルについて、液晶の劣化及び液
晶内の気泡の発生が少ない液晶表示パネルを製造することができるようになる。
【００１４】
また、本発明の液晶表示パネルの製造方法においては、前記第２の工程において、更に
、前記シール材を、前記第１マザー基板又は第２マザー基板の前記パネル領域の外周側を
一体に囲むように、環状に塗布し、前記第３の工程において、前記パネル領域の外周側を
一体に囲むように環状に形成されたシール材の外周側に前記液晶を複数箇所滴下すること
が好ましい。
【００１５】
本発明の液晶表示パネルの製造方法によれば、マザー基板に形成される複数の液晶表示
パネル形成領域とマザー基板のパネル領域の外周囲に滴下される液晶との間に、一体にシ
ール材によって壁が形成されている。そのため、マザー基板のパネル領域の外周囲に滴下
した液晶がマザー基板の液晶表示パネル形成領域内に侵入することを抑制することができ
るので、液晶表示パネルの実装領域の端子部などが液晶によって汚染されることを抑制す
ることができるようになる。
【００１６】
また、本発明の液晶表示パネルの製造方法においては、前記第２の工程において、前記
シール材を、前記第１マザー基板又は第２マザー基板の前記パネル領域の外周側に、前記
マザー基板の分断線上を避けて、環状に複数箇所に塗布し、前記第３の工程において、前
記パネル領域の外周側に形成した複数箇所の環状のシール材の内部にも前記液晶を滴下す
るようにしてもよい。
【００１７】
本発明の液晶表示パネルの製造方法によれば、マザー基板のパネル領域の外周側に滴下
される液晶は、マザー基板の分断線上を避けて形成した、複数の液晶表示パネル形成領域
の更に外周側に形成した環状のシール材の内部に滴下されている。そのため、マザー基板
を分断した際に、マザー基板上に液晶が残ることがないので、個々の液晶表示パネルの外
周部を液晶で汚すことなく製造することができ、また、余計な洗浄工程を設ける必要がな
くなる。
【００１８】
また、本発明の液晶表示パネルの製造方法においては、前記第３の工程において、前記
第１マザー基板又は前記第２マザー基板の前記パネル領域外に滴下する液晶の高さを、前
記液晶表示パネル形成領域内に滴下する液晶の高さよりも低くなるようにするとより好ま
しい。
【００１９】
本発明の液晶表示パネルの製造方法によれば、マザー基板のパネル領域の外周囲に滴下
する液晶の高さを液晶表示パネル形成領域内に滴下する液晶の高さより低くなるようにし
たので、無駄な液晶量を少なくすることができ、効率よく液晶の劣化ないし液晶内の気泡
の発生を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】図１Ａは実施形態1〜３に共通する液晶表示パネルの平面図であり、図１Ｂは図１ＡのＩＢ−ＩＢ線に沿った断面図である。
【図２】実施形態１の液晶表示パネルの製造工程を示したフローチャートである。
【図３】図３Ａは実施形態１の一方のマザー基板にシール材を塗布する工程を示す斜視図であり、図３Ｂは液晶を滴下する工程を示す斜視図であり、図３Ｃは両マザー基板を対向配置した斜視図である。
【図４】図４Ａは図３ＣのIVＡ−IVＡ線での断面図であり、図４Ｂは図４Ａに続く貼り合せ後の断面図である。
【図５】図５Ａは分断工程の切断線を示す平面図であり、図５Ｂは分断後の液晶表示パネルを示す平面図である。
【図６】実施形態２の液晶表示パネルの製造工程を示すフローチャートである。
【図７】図７Ａは実施形態２の一方のマザー基板にシール材を塗布する工程を示す斜視図であり、図７Ｂは液晶を滴下する工程を示す斜視図であり、図７Ｃは両マザー基板を対向配置した斜視図である。
【図８】図７Ａは図６ＣのVIIＡ‐VIIＡ線での断面図であり、図７Ｂは図７Ａに続く貼り合せ後の断面図である。
【図９】実施形態３の液晶表示パネルの製造工程を示すフローチャートである。
【図１０】図１０Ａは実施形態３の一方のマザー基板にシール材を塗布する工程を示す斜視図であり、図１０Ｂは液晶を滴下する工程を示す斜視図であり、図１０Ｃは両マザー基板を対向配置した斜視図である。
【図１１】図１１Ａは図１０ＣのXIＡ‐XIＡ線での断面図であり、図１１Ｂは図１１Ａに続く貼り合せ後の断面図である。
【図１２】図１２Ａは実施形態４の一方のマザー基板にシール材を塗布する工程を示す斜視図であり、図１２Ｂは液晶を滴下する工程を示す斜視図であり、図１２Ｃは両マザー基板を対向配置した斜視図である。
【図１３】図１３Ａは従来の真空下での液晶内の揮発成分の揮発しやすい部分を示す平面図であり、図１３Ｂは液晶内の揮発成分の揮発する位置による変化量の比較を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明を実施するための形態について、実施形態及び図面を参照しながら詳細に
説明する。ただし、以下に示す実施形態は、本発明の技術思想を具体化するためにＯＤＦ
法を用いた液晶表示パネルの製造方法を例にとって説明するものであって、本発明をこの
実施形態に記載されたＯＤＦ法を用いた液晶表示パネルの製造方法に特定することを意図
するものではなく、本発明は特許請求の範囲に含まれるその他の実施形態のものにも等し
く適応し得るものである。なお、この明細書における説明のために用いられた各図面にお
いては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に
縮尺を異ならせて表示しており、必ずしも実際の寸法に比例して表示されているものでは
ない。また、以下に述べるアレイ基板及びカラーフィルター基板の「表面」とは各種配線
が形成された面ないしは液晶と対向する側の面を示すものとし、「裏面」とは表示面側（
カラーフィルター基板の場合）ないしバックライト側（アレイ基板の場合）の面を示すも
のとする。
【００２２】
［実施形態１］
まず、図１を参照して、実施形態１のＯＤＦ法を用いた液晶表示パネルの製造方法によ
って製造される液晶表示パネル１０の構成について説明する。図１Ａ及び図１Ｂに示すよ
うに、実施形態１の液晶表示パネル１０は、ガラス等からなる第1透明基板１２上に各種
配線等を形成したアレイ基板１１と、ガラス等からなる第２透明基板１５上にカラーフィ
ルター等を形成したカラーフィルター基板１４とが対向配置されている。
【００２３】
アレイ基板１１は、カラーフィルター基板１４と対向配置させたときに所定スペースの
実装領域１２ａが形成されるように、カラーフィルター基板１４より若干サイズが大きい
ものが使用されている。この実装領域１２ａには、液晶１８ａを駆動するドライバーＩＣ
２１等が配置されている。
【００２４】
アレイ基板１１とカラーフィルター基板１４は、その周辺にシール材１７が環状に塗布
され、内部に液晶１８ａが封入された状態で貼り合わされている。なお、このシール材１
７で囲まれた領域の内側に表示領域１９が形成され、表示領域１９の外側が非表示領域２
０となっている。なお、アレイ基板１１とカラーフィルター基板１４とは、一定の隙間（
セルギャップ）を有するようにフォトスペーサー（図示省略）が形成され、また、アレイ
基板１１とカラーフィルター基板１４の裏側にはそれぞれ偏光板（図示省略）が形成され
ている。
【００２５】
次に、図２〜図５を参照して実施形態１の液晶表示パネルの製造工程を説明する。なお
、以下の説明は、図２のフローチャートに沿って説明する。
【００２６】
アレイ基板側の第１マザー基板１１Ｍ（以下単に第１マザー基板という）は、ガラス等
の第１透明基板１２上に、金属膜や絶縁膜、樹脂膜等の成膜とパターニングを繰り返して
信号線や走査線などの各種配線、スイッチング素子としての薄膜トランジスター（ＴＦＴ
：Thin Film Transistor）、ＩＴＯ（Indium Thin Oxide）やＩＺＯ（Indium Zinc Oxide
）等の透明導電性材料からなる下電極、電極間絶縁膜、ＩＴＯやＩＺＯ等の透明導電性材
料からなる上電極、配向膜などを備え、複数個の液晶表示パネル形成領域２２を含むよう
にパネル２２Ａを形成する。なお、これらの下電極、電極間絶縁膜、上電極等の構成は、
周知のＦＦＳモードの液晶表示装置の場合と相違はないので、図１Ｂではこれらを総称し
て構造物１３として表している。そして、配向膜にラビング処理をして第１マザー基板１
１Ｍが完成される（ステップＳ１）。
【００２７】
また、カラーフィルター側の第２マザー基板１４Ｍ（以下単に第２マザー基板という）
は、ガラス等の第２透明基板１５上に金属膜や樹脂膜、絶縁膜等の成膜とパターニングを
繰り返し、遮光層、カラーフィルター層、オーバーコート層、配向膜等を備えるように形
成される。なお、図１Ｂではこれらを総称して構造物１６として表している。そして、配
向膜にラビング処理をして第２マザー基板１４Ｍが完成される（ステップＳ２）。
【００２８】
次に、図３Ａに示すように第１及び第２マザー基板１１Ｍ、１４Ｍを貼り合せるための
パネルシール材１７を塗布する。パネルシール材１７は、例えば専用のシールディスペン
サー２３を用いて、各液晶表示パネル形成領域２２の周囲を囲むように環状に塗布する（
ステップＳ３）。なお、実施形態１の液晶表示パネル１０の製造方法では、図３Ａに示す
ように第１マザー基板１１Ｍ側に形成した例を示す。また、パネルシール材は熱硬化性、
紫外線硬化性あるいはこれらを組み合わせたものを用いることができる。
【００２９】
また、各液晶表示パネル形成領域２２には、アレイ基板１１とカラーフィルター基板１
４間のセルギャップを一定に保つためのフォトスペーサー（図示省略）を設ける必要があ
るが、このフォトスペーサーは第１マザー基板又は第２マザー基板のいずれか一方の表面
に形成すればよい。
【００３０】
次に、図３Ｂに示すように第１マザー基板１１Ｍに専用の液晶滴下装置２４を用いて液
晶１８を滴下する（ステップＳ４、Ｓ５）。ここでは、液晶１８を、各液晶表示パネル形
成領域２２の略中央部、すなわち、第１マザー基板１１Ｍに形成されたパネルシール材１
７の内側に液晶１８ａとして滴下し、液晶表示パネル形成領域２２の外側、つまりパネル
領域２２Ａの外側に液晶１８ｂとして複数個所滴下する。なお、液晶１８ａと液晶１８ｂ
の滴下する順番は、特に限定はなく、液晶１８ａを先に滴下した後、液晶１８ｂを滴下し
てもよい。またその反対に、液晶１８ｂを滴下した後、液晶１８ａを滴下してもよい。
【００３１】
次に、第１及び第２マザー基板１１Ｍ、１４Ｍの貼り合わせを、公知の真空発生装置を
用いて真空状態にした貼り合せ装置２５内で行う（ステップＳ６）。貼り合せは図３Ｃ及
び図４Ａに示すように、パネルシール材１７を塗布し液晶１８ａ、１８ｂを滴下した第１
マザー基板１１Ｍと、第２マザー基板１４Ｍを対向配置し、第１及び第２マザー基板１１
Ｍ、１４Ｍを貼り合せ、滴下した液晶１８ａを液晶表示パネル形成領域２２内に充填させ
る（図４Ｂ参照）。なお、貼り合わせた第１及び第２マザー基板を１０Ｍとする。
【００３２】
このとき、実施形態１の液晶表示パネル１０の製造方法では、第１マザー基板１１Ｍの
液晶表示パネル形成領域２２内に液晶１８ａを滴下するだけでなく、パネル領域２２Ａの
外側にも液晶１８ｂを複数箇所に滴下している。このようにすることで、前述したように
、液晶の揮発性成分が揮発しやすいマザー基板１０Ｍの最も外側にある液晶表示パネル形
成領域２２（図１３Ａ斜線部参照）よりもさらに外側に滴下した液晶１８ｂの揮発性成分
が先に揮発し始め（図４Ａの矢印参照）、液晶表示パネル形成領域２２内に滴下した液晶
１８ａの劣化ないし液晶内の気泡の発生を遅らせることができ、第１及び第２マザー基板
１１Ｍ，１４Ｍの貼り合わせが完了するまでに、第１及び第２マザー基板１１Ｍ，１４Ｍ
の最も外側にある液晶表示パネル形成領域２２内の液晶が劣化ないし液晶内の気泡の発生
を抑制することができる。そして、パネルシール材１７を加熱あるいは、紫外線を照射す
ることで硬化させ、貼り合わせが完了する。
【００３３】
その後、図５Ａに示すように、貼り合わせが完了したマザー基板１０Ｍを切断線２６に
沿って図５Ｂに示すように、個々の液晶表示パネル１０ｐに分断する分断工程及び、基板
上に残った外側に添付した液晶１８ｂを洗浄する洗浄工程を行う（ステップＳ７）。そし
て、個々の液晶表示パネルに分断した液晶表示パネル１０ｐにドライバーＩＣ２１等を設
置し、図１に示すような実施形態１の液晶表示パネル１０が完成する（ステップＳ８）。
【００３４】
以上より、実施形態１の液晶表示パネルの製造方法によれば、第１マザー基板及び第２
マザー基板によって同時に製造する全ての液晶表示パネルについて、液晶の劣化及び液晶
内の気泡の発生が少ない製造歩留まりのよい液晶表示パネルを製造することができるよう
になる。
【００３５】
[実施形態２]
実施形態１の液晶表示パネルの製造方法では、単にパネル領域の外側に液晶を滴下した
場合を示した。実施形態２の液晶表示パネルの製造方法では、複数の液晶表示パネル形成
領域を一体に囲むようにパネル領域２２Ａの外側に環状のシール材を形成し、この環状の
シール材の外側に液晶を滴下する場合を説明する。なお、実施形態２の液晶表示パネルの
製造方法では、シール材を形成する位置が異なるのみなので、実施形態１の液晶表示パネ
ルの製造方法と共通する構成には同一の符号を参照し、詳細な説明は省略する。
【００３６】
実施形態２の液晶表示パネル１０Ａの製造工程を図１及び図１、図６〜図８を参照して
説明する。なお、以下、図６のフローチャートに沿って説明する。
【００３７】
実施形態２の液晶表示パネル１０Ａの製造方法は、図６のフローチャートに示すように
、実施形態１の液晶表示パネル１０の製造方法に比べて、シール材を複数の液晶表示パネ
ル形成領域を一体に囲むようにパネル領域２２Ａの外側に環状に形成する工程が追加され
ている。なお、他の工程は実施形態１と同じである。この液晶表示パネル形成領域を一体
に囲むように環状に形成したシール材を外周環状シール材という。
【００３８】
まず、上記実施形態１と同様に、第１マザー基板１１ＡＭ及び第２マザー基板１４ＡＭ
を用意する。この工程は上記実施形態１で説明したステップＳ１及びステップＳ２と同一
であるので、詳細な説明は省略する（ステップＳ１Ａ、Ｓ２Ａ）。
【００３９】
次に、図７Ａに示すように第１及び第２マザー基板１１ＡＭ、１４ＡＭを貼り合せるた
めのシール材１７Ａを塗布する（ステップＳ３Ａ、Ｓ４Ａ）。このシール材１７Ａは、液
晶表示パネル形成領域２２を囲むように環状に形成されるパネルシール材１７Ａａ（ステ
ップＳ３Ａ）と、パネル領域２２Ａの外側に形成される外周環状シール材１７Ａｂとから
なる（ステップＳ４Ａ）。これらのシール材１７Ａは、図７Ａに示すように、実施形態１
と同様に例えば専用のシールディスペンサー２３を用いて、第１マザー基板１１ＢＭ側に
形成する。なお、シール材は熱硬化性、紫外線硬化性あるいはこれらを組み合わせたもの
を用いることができる。
【００４０】
次に、図７Ｂに示すように第１マザー基板１１ＡＭに専用の液晶滴下装置２４を用いて
液晶１８Ａを滴下する。ここでは、液晶１８Ａを、各液晶表示パネル形成領域２２の中央
部、すなわち、第１マザー基板１１Ｍに形成されたパネルシール材１７Ａａの内側に液晶
１８Ａａとして滴下し（ステップＳ５Ａ）、外周環状シール材１７Ａｂの外側に液晶１８
Ａｂとして複数箇所に滴下する（ステップＳ６Ａ）。なお、先述したように、ステップＳ
５ＡとステップＳ６Ａの順番が逆でも構わない。
【００４１】
次に、第１及び第２マザー基板１１ＡＭ、１４ＡＭの貼り合わせを、実施形態１と同様
に公知の真空発生装置を用いて真空状態にした貼り合せ装置２５内で行う（ステップＳ７
Ａ）。貼り合せは図７Ｃ、図８Ａに示すように、シール材１７Ａを塗布し液晶１８Ａを滴
下した第１マザー基板１１ＡＭと、第２マザー基板１４ＡＭを対向配置し、第１及び第２
マザー基板１１ＡＭ、１４ＡＭを貼り合せ、滴下した液晶１８Ａａを液晶表示パネル形成
領域２２内に充填させる（図８Ｂ参照）。
【００４２】
このとき、実施形態２の液晶表示パネル１０Ａの製造方法では、第１マザー基板１１Ａ
Ｍの液晶表示パネル形成領域２２内に液晶１８Ａａを滴下するだけでなく、パネル領域２
２Ａの外側に塗布した環状の外周環状シール材１７Ａｂの外側にも液晶１８Ａｂを複数箇
所に滴下している。このようにすることで、液晶内の揮発性成分の揮発を抑制すると共に
、マザー基板１０ＡＭの外周環状シール材１７Ａｂの外側に滴下した液晶１８Ａｂがマザ
ー基板１０ＡＭの内側に侵入することを抑制することができる。そして、各シール材１７
Ａａ、１７Ａｂを加熱あるいは、紫外線を照射することで硬化させ、貼り合わせが完了す
る。
【００４３】
その後、実施形態１と同様に、貼り合わせが完了したマザー基板１０ＡＭを切断線２６
に沿って複数の液晶表示パネル１０Ａｐに分断する分断工程及び、基板上に残った外側に
添付した液晶１８Ａｂを洗浄する洗浄工程を行う（ステップＳ８Ａ）。そして、個々に分
断した液晶表示パネル１０Ａｐ（図５Ｂ参照）にドライバーＩＣ２１等を設置し、図１に
示すような実施形態２の液晶表示パネル１０Ａが完成する（ステップＳ９Ａ）。
【００４４】
以上より、実施形態２の液晶表示装置の製造方法によれば、実施形態１と同様に液晶の
成分変化を抑制することで不良品の発生を抑制し、製造歩留まりのよい液晶表示パネルを
製造することができるとともに、液晶表示パネルの実装領域の端子部などが液晶によって
汚染されることを抑制することができるようになる。
【００４５】
[実施形態３]
実施形態２の液晶表示パネルの製造方法では、パネル領域の外側に滴下した液晶が液晶
表示パネル形成領域に侵入するのを抑制するために外周環状シール材を形成した場合を説
明した。実施形態３の液晶表示パネルの製造方法では、パネル領域の外側に小さな環状の
シール材を複数個形成し、この小さな環状のシール材の内側に液晶を滴下する場合を説明
する。なお、実施形態３の液晶表示パネルの製造方法では、シール材を形成する位置が異
なるのみなので、実施形態１の液晶表示パネルの製造方法と共通する構成には同一の符号
を参照し、詳細な説明は省略する。
【００４６】
実施形態３の液晶表示パネルの製造工程を図１、図９〜図１１を参照して説明する。な
お、以下、図９のフローチャートに沿って説明する。
【００４７】
実施形態３の液晶表示パネル１０Ｂの製造方法は、図９のフローチャートに示すように
、実施形態１の液晶表示パネル１０の製造方法に比べて、シール材をパネル領域の外側に
小さな環状のシール材を複数個形成する工程が追加されている。なお、他の工程は実施形
態１と同じである。このパネル領域の外側に形成した複数個の小さな環状のシール材を外
側小環状シール材という。
【００４８】
まず、上記実施形態１と同様に第１マザー基板１１ＢＭ及び第２マザー基板１４ＢＭを
用意する。この工程は上記実施形態１で説明したステップＳ１、Ｓ２と同一であるので、
詳細な説明は省略する（ステップＳ１Ｂ、Ｓ２Ｂ）。
【００４９】
次に、図１０Ａに示すように第１及び第２マザー基板１１ＢＭ、１４ＢＭを貼り合せる
ためのシール材１７Ｂを塗布する。このシール材１７Ｂには、液晶表示パネル形成領域２
２を囲むように環状に形成されるパネルシール材１７Ｂａと（ステップＳ３Ｂ）、パネル
領域２２Ａの外側に形成される外側小環状シール材１７Ｂｂとがある（ステップＳ４Ｂ）
。また、この外側小環状シール材１７Ｂｂは、マザー基板１０ＢＭを切断する切断線２６
Ｂと重なる位置を避けて塗布される。これらのシール材１７Ｂは、図１０Ａに示すように
、実施形態１と同様に例えば専用のシールディスペンサー２３を用いて、第１マザー基板
１１ＢＭ側に形成する。なお、シール材は熱硬化性、紫外線硬化性あるいはこれらを組み
合わせたものを用いることができる。
【００５０】
次に、図１０Ｂに示すように第１マザー基板１１ＢＭに専用の液晶滴下装置２４を用い
て液晶１８Ｂを滴下する。ここでは、液晶１８Ｂを、各液晶表示パネル形成領域２２の中
央部、すなわち、第１マザー基板１１Ｍに形成されたパネルシール材１７Ｂａの内側に液
晶１８Ｂａとして滴下し（ステップＳ５Ｂ）、外側小環状シール材１７Ｂｂの内側に液晶
１８Ｂｂとして滴下する（ステップＳ６Ｂ）。
【００５１】
次に、第１及び第２マザー基板１１ＢＭ、１４ＢＭの貼り合わせを、公知の真空発生装
置を用いて真空状態にした貼り合せ装置２５内で行う（ステップＳ７Ｂ）。貼り合せは図
１０Ｃ及び図１１Ａに示すように、シール材１７Ｂを塗布し液晶１８Ｂを滴下した第１マ
ザー基板１１ＢＭと、第２マザー基板１４ＢＭを対向配置し、第１及び第２マザー基板１
１ＢＭ、１４ＢＭを貼り合せ、滴下した液晶１８Ｂａを液晶表示パネル形成領域２２内に
充填させる（図１１Ｂ参照）。
【００５２】
このとき、実施形態３の液晶表示パネル１０Ｂの製造方法では、ＯＤＦ法によって液晶
表示パネルを作製する際、第１マザー基板１１ＢＭの液晶表示パネル形成領域２２内の他
に、外側小環状シール材１７Ｂｂの内部にも液晶１８Ｂｂを滴下している。このようにす
ることで、液晶表示パネル形成領域２２の外側に滴下した液晶１８Ｂｂを外側小環状シー
ル材１７Ｂｂの中へ閉じ込めておくことができる。そして、シール材１７Ｂを加熱あるい
は、紫外線を照射することで硬化させ、貼り合わせが完了する。
【００５３】
その後、貼り合わせが完了したマザー基板１０ＢＭを複数の液晶表示パネル１０Ｂｐに
分断する分断工程を行う（ステップＳ８Ｂ）。このとき、外側小環状シール材１７Ｂｂを
形成することで、マザー基板１０ＢＭを分断した際に、パネル領域２２Ａの外側に滴下し
た液晶は外側小環状シール材１７Ｂｂ内に閉じ込められているため、飛散することがない
ので特別な洗浄工程を設ける必要はない。その後、分断したそれぞれの液晶表示パネル１
０ＢｐにドライバーＩＣ２１等を設置し、図１Ａに示すような実施形態１の液晶表示パネ
ル１０Ｂが完成する（ステップＳ９Ｂ）。
【００５４】
以上より、実施形態３の液晶表示パネル１０Ｂの製造方法によれば、実施形態１と同様
に液晶の成分変化を抑制することで不良品の発生を抑制し、製造歩留まりのよい液晶表示
パネルを製造することができるとともに、個々の液晶表示パネルの外周部を液晶で汚すこ
となく製造することができ、また、余計な洗浄工程を設ける必要がなくなる。
【００５５】
なお、上記実施形態１〜３の液晶表示パネルの製造方法において、パネル領域の外側に
滴下する液晶の高さを、液晶表示パネル形成領域内に滴下する液晶よりも低くすることが
できる。このようにすることで、無駄な液晶量を少なくすることができ、効率よく液晶の
劣化ないし液晶内の気泡の発生を抑制することができる。
【００５６】
また、上記実施形態１〜３では、液晶は液晶表示パネル形成領域内を先に滴下した場合
を説明したが、これに限らず、液晶表示パネル形成領域の外側を先に滴下してもよい。
【００５７】
さらに、上記実施形態１〜３の液晶表示パネルの製造方法では、第１マザー基板にシー
ル材の塗布及び液晶の滴下をした場合を説明したが、これに限らず、第２マザー基板にシ
ール材の塗布及び液晶の滴下をしてもよく、また、シール材の塗布及び液晶の滴下を第１
マザー基板及び第２マザー基板のそれぞれ別々に行ってもよい。
【００５８】
また、パネル領域２２Ａの外側に形成されるシール材１７Ｃの形成例として、図１２Ａ
〜図１２Ｃに示す実施形態４の液晶表示装置１０Ｃのように、マザー基板１０ＣＭの基板
辺に向かって開口するコの字状のシール材１７Ｃｂと、コの字状の開口辺を塞ぐとともに
、第１マザー基板の４辺に沿って形成された外周シール材１７Ｃｃからなるものでもよい
。このようにコの字状シール材１７Ｃｂと外周シール材１７Ｃｃを形成することで、実施
形態３では外側小環状シール材１７Ｂｂを一つ一つ形成しているのに対し、実施形態４で
はいわゆる一筆書きで形成することができるようになり、容易にパネルシール材１７Ｃａ
以外のシール材１７Ｃｂ、１７Ｃｃを形成することができるようになる。なお、他の工程
は実施形態３の液晶表示装置の製造工程と共通するので説明は省略する。
【符号の説明】
【００５９】
１０、１０Ａ〜１０Ｃ：液晶表示パネル １０ｐ、１０Ａｐ〜１０Ｃｐ：分断後の液晶
表示パネル １０Ｍ、１０ＡＭ〜１０ＣＭ：マザー基板 １１：アレイ基板 １１Ｍ、１
１ＡＭ〜１１ＣＭ：第１マザー基板 １２：第１透明基板 １２ａ：実装領域 １３：第
１構造物 １４：カラーフィルター基板 １４Ｍ、１４ＡＭ〜１４ＣＭ：第２マザー基板
１５：第２透明基板 １６：第２構造物 １７：パネルシール材 １７Ａ：シール材
１７Ａａ：パネルシール材 １７Ａｂ：外周環状シール材 １７Ｂ：シール材 １７Ｂａ
：パネルシール材 １７Ｂｂ：外側小環状シール材 １７Ｃａ：パネルシール材 １７Ｃ
ｂ：コの字状のシール材 １７Ｃｃ：外周シール材 １８、１８Ａ〜１８Ｃ：液晶 １８
ａ、１８Ａａ〜１８Ｃａ：パネル内液晶 １８ｂ、１８Ａｂ〜１８Ｃｂ：パネル外液晶
１９：表示領域 ２０：非表示領域 ２１：ドライバーＩＣ ２２：液晶表示パネル形成
領域 ２２Ａ：パネル領域 ２３：シールディスペンサー ２４：液晶滴下装置 ２５：
装置 ２６、２６Ｂ、２６Ｃ：切断線
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の液晶表示パネル形成領域からなるパネル領域が形成された第１マザー基板及び第
２マザー基板を用意する第１の工程と、
前記第１マザー基板及び第２マザー基板の少なくとも一方に、前記複数の液晶表示パネ
ル領域のそれぞれ外周囲に沿って環状にシール材を塗布する第２の工程と、
前記環状に塗布されたシール材の内側に液晶を滴下する第３の工程と
前記第１マザー基板と前記第２マザー基板を真空中で貼り合せる第４の工程と、
前記マザー基板を各液晶表示パネルに分断する第５の工程とを有する液晶表示パネルの
製造方法であって、
前記第３の工程において、前記第１マザー基板又は前記第２マザー基板の前記パネル領
域外の複数箇所に前記液晶を滴下することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項２】
前記第２の工程において、更に、前記シール材を、前記第１マザー基板又は第２マザー
基板の前記パネル領域の外周側を一体に囲むように、環状に塗布し、
前記第３の工程において、前記パネル領域の外周側を一体に囲むように環状に形成され
たシール材の外周側に前記液晶を複数箇所滴下することを特徴とする請求項１に記載の液
晶表示パネルの製造方法。
【請求項３】
前記第２の工程において、前記シール材を、前記第１マザー基板又は第２マザー基板の
前記パネル領域の外周側に、前記マザー基板の分断線上を避けて、環状に複数箇所に塗布
し、
前記第３の工程において、前記パネル領域の外周側に形成した複数箇所の環状のシール
材の内部にも前記液晶を滴下することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネルの製
造方法。
【請求項４】
前記第３の工程において、前記第１マザー基板又は前記第２マザー基板の前記パネル領
域外に滴下する液晶の高さを、前記液晶表示パネル形成領域内に滴下する液晶の高さより
も低くなるようにしたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示パネル
の製造方法。
【請求項１】
複数の液晶表示パネル形成領域からなるパネル領域が形成された第１マザー基板及び第
２マザー基板を用意する第１の工程と、
前記第１マザー基板及び第２マザー基板の少なくとも一方に、前記複数の液晶表示パネ
ル領域のそれぞれ外周囲に沿って環状にシール材を塗布する第２の工程と、
前記環状に塗布されたシール材の内側に液晶を滴下する第３の工程と
前記第１マザー基板と前記第２マザー基板を真空中で貼り合せる第４の工程と、
前記マザー基板を各液晶表示パネルに分断する第５の工程とを有する液晶表示パネルの
製造方法であって、
前記第３の工程において、前記第１マザー基板又は前記第２マザー基板の前記パネル領
域外の複数箇所に前記液晶を滴下することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項２】
前記第２の工程において、更に、前記シール材を、前記第１マザー基板又は第２マザー
基板の前記パネル領域の外周側を一体に囲むように、環状に塗布し、
前記第３の工程において、前記パネル領域の外周側を一体に囲むように環状に形成され
たシール材の外周側に前記液晶を複数箇所滴下することを特徴とする請求項１に記載の液
晶表示パネルの製造方法。
【請求項３】
前記第２の工程において、前記シール材を、前記第１マザー基板又は第２マザー基板の
前記パネル領域の外周側に、前記マザー基板の分断線上を避けて、環状に複数箇所に塗布
し、
前記第３の工程において、前記パネル領域の外周側に形成した複数箇所の環状のシール
材の内部にも前記液晶を滴下することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネルの製
造方法。
【請求項４】
前記第３の工程において、前記第１マザー基板又は前記第２マザー基板の前記パネル領
域外に滴下する液晶の高さを、前記液晶表示パネル形成領域内に滴下する液晶の高さより
も低くなるようにしたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示パネル
の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【公開番号】特開２０１１−２０３２８５（Ｐ２０１１−２０３２８５Ａ）
【公開日】平成２３年１０月１３日（２０１１．１０．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−６７５３４（Ｐ２０１０−６７５３４）
【出願日】平成２２年３月２４日（２０１０．３．２４）
【出願人】（３０４０５３８５４）エプソンイメージングデバイス株式会社 (2,386)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１０月１３日（２０１１．１０．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月２４日（２０１０．３．２４）
【出願人】（３０４０５３８５４）エプソンイメージングデバイス株式会社 (2,386)
【Ｆターム（参考）】
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