液晶表示装置用基板の製造方法及び液晶表示装置用基板並びに液晶表示装置
【課題】発塵や静電気の発生がなく、確実に液晶の配向を行うことができる液晶表示装置用基板の製造方法及び液晶表示装置用基板並びに液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置用基板の製造方法は、基板１０１上に、液晶配向性を与えるための溝を形成するための材料１０２を成膜する工程と、成膜した溝を形成するための材料１０２に液晶配向性を与えるための溝１０３をインプリントにより形成する工程と、溝１０３を形成した膜の上面に光照射により液晶配向性を発現する配向膜材料１０４を成膜する工程と、成膜された配向膜材料１０４に光照射１０５により液晶配向性を与える配向処理を行う工程と、を有する。
【解決手段】液晶表示装置用基板の製造方法は、基板１０１上に、液晶配向性を与えるための溝を形成するための材料１０２を成膜する工程と、成膜した溝を形成するための材料１０２に液晶配向性を与えるための溝１０３をインプリントにより形成する工程と、溝１０３を形成した膜の上面に光照射により液晶配向性を発現する配向膜材料１０４を成膜する工程と、成膜された配向膜材料１０４に光照射１０５により液晶配向性を与える配向処理を行う工程と、を有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、例えば液晶表示パネルなどの配向に好適な液晶配向性を発現する液晶表示装置用基板の製造方法及び液晶表示装置用基板並びに液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、液晶表示パネルなどの液晶表示装置は、薄型軽量、低消費電力といった特徴を持ち、広く普及しており、この液晶表示装置では、その動作原理が電場の作用による液晶配向の変化を利用したものであるため、液晶配向の均一性と安定性が特に重要とされ、特に液晶を均一に配向させるために配向膜を用いている。
【０００３】
一般的には、配向膜は、ポリイミド樹脂またはその前駆体の溶液を基板上に塗布して成膜し、バフロールで一方向にこする「ラビング」という処理により液晶配向処理を行うものがある（特許文献１参照）。このようなラビングは、発塵や静電気の発生という問題がある。
【０００４】
これに対し、光に反応する官能基を有する樹脂を配向膜として用い、偏光した紫外線を照射する等により配向処理を行う配向膜材料が提案されている（特許文献２参照）。
【特許文献１】特開平９−１８５０６８
【特許文献２】特開２０００−１１２１２５
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、特許文献２などにより提案されている光による配向処理を行う配向膜材料は、液晶を配向させる配向規制力が、特許文献１などにより提案されているラビング処理より弱いため、液晶の配向の不良が発生しやすく、問題となっている。
【０００６】
この発明は、かかる実情に鑑みてなされたもので、発塵や静電気の発生がなく、確実に液晶の配向を行うことができる液晶表示装置用基板の製造方法及び液晶表示装置用基板並びに液晶表示装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決し、かつ目的を達成するために、この発明は、以下のように構成した。
【０００８】
請求項１に記載の発明は、基板上に、液晶配向性を与えるための溝を形成するための材料を成膜する工程と、
前記成膜した溝を形成するための材料に液晶配向性を与えるための溝をインプリントにより形成する工程と、
前記溝を形成した前記膜の上面に光照射により液晶配向性を発現する配向膜材料を成膜する工程と、
前記成膜された配向膜材料に光照射により液晶配向性を与える配向処理を行う工程と、
を有することを特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法である。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、前記溝は、幅１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用基板の製造方法である。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、前記溝を形成するための材料が、架橋性樹脂である請求項１に記載の液晶表示装置用基板の製造方法である。
【００１１】
請求項４に記載の発明は、前記架橋性樹脂が、熱架橋性樹脂である請求項３に記載の液晶表示装置用基板の製造方法である。
【００１２】
請求項５に記載の発明は、前記架橋性樹脂が、光架橋性樹脂である請求項３に記載の液晶表示装置用基板の製造方法である。
【００１３】
請求項６に記載の発明は、前記基板が、プラスチックフィルムである請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の液晶表示装置用基板の製造方法である。
【００１４】
請求項７に記載の発明は、請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の液晶表示装置用基板の製造方法により製造されることを特徴とする液晶表示装置用基板である。
【００１５】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の液晶表示装置用基板を用いて製造されることを特徴とする液晶表示装置である。
【発明の効果】
【００１６】
前記構成により、この発明は、以下のような効果を有する。
【００１７】
請求項１に記載の発明では、基板上に、液晶配向性を与えるための溝を形成するための材料を成膜してインプリントにより溝を形成し、さらに溝を形成した膜の上面に配向膜材料を成膜して光照射による配向処理を行うことで、発塵や静電気の発生がなく、確実に液晶の配向を行うことができる。
【００１８】
請求項２に記載の発明では、溝は、幅１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、より確実に液晶の配向を行うことができる。
【００１９】
請求項３に記載の発明では、溝を形成するための材料が、架橋性樹脂であり、インプリントにより溝を精度よく形成することができる。
【００２０】
請求項４に記載の発明では、架橋性樹脂が、熱架橋性樹脂であり、加熱してインプリントにより溝を精度よく形成することができる。
【００２１】
請求項５に記載の発明では、架橋性樹脂が、光架橋性樹脂であり、光照射してインプリントにより溝を精度よく形成することができる。
【００２２】
請求項６に記載の発明では、基板が、プラスチックフィルムであり、溝を形成するための材料と強固に一体化でき、薄く、かつ柔軟性があり、取り扱いが容易である。
【００２３】
請求項７に記載の発明では、請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の液晶表示装置用基板の製造方法により発塵や静電気の発生がなく、簡単な構成で確実に液晶の配向を行うことができる。
【００２４】
請求項８に記載の発明では、請求項７に記載の液晶表示装置用基板を用いて製造され、液晶配向の均一性と安定性に優れた液晶表示装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】参考例の実施の形態の液晶表示装置用基板の製造方法の工程図である。
【図２】液晶表示装置用基板の製造方法を説明する図である。
【図３】溝を形成する工程を説明する図である。
【図４】実施の形態の液晶表示装置用基板の製造方法の概略構成図である。
【図５】液晶表示装置用基板の製造方法を説明する図である。
【図６】液晶表示装置用基板の構成を説明する図である。
【図７】液晶表示装置の構成を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、この発明の液晶表示装置用基板の製造方法及び液晶表示装置用基板並びに液晶表示装置の実施の形態について説明する。この発明の実施の形態は、発明の最も好ましい形態を示すものであり、この発明はこれに限定されない。
【００２７】
まず、液晶表示装置用基板の製造方法の実施の形態について説明する。
［参考例の実施の形態］
図１は参考例の実施の形態の液晶表示装置用基板の製造方法の工程図、図２は液晶表示装置用基板の製造方法を説明する図、図３は溝を形成する工程を説明する図である。
【００２８】
この参考例の実施の形態の液晶表示装置用基板の製造方法は、図１に示すように、配向膜材料を成膜する工程Ａ１と、溝をインプリントにより形成する工程Ａ２と、配向処理を行う工程Ａ３と、を有する。
【００２９】
（配向膜材料を成膜する工程Ａ１）
この配向膜材料を成膜する工程Ａ１では、図２（ａ）に示すように、基板１上に、光照射により液晶配向性を発現する配向膜材料２を成膜する。基板１は、ガラス、プラスチックフィルムを用いることができるが、プラスチックフィルムが、薄く、かつ柔軟性があり、取り扱いが容易である。プラスチックフィルムとして、例えばポリエチレンレテフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン等の熱可塑性プラスチックフィルムの他、エポキシ樹脂等の架橋性樹脂も用いることができるが、これに限定されない。
【００３０】
配向膜材料２は、偏光紫外線を照射することで偏光方向と直交方向に液晶を配向する性質を持つ光分解型の配向膜材料を用いることができ、基板の表面に塗布して成膜されるが、これに限定されず、接着などにより接合してもよい。
【００３１】
配向膜材料２としては、例えばポリビニルシンナメート、ポリイミドなどの有機膜を用いることができ、直線偏光された紫外線を照射することにより、液晶配向能を付与する。また、ポリアミック酸薄膜を用いることができ、室温以上に加熱しつつ、偏光または非偏光の放射線を照射して液晶配向性を付与する。
【００３２】
（溝をインプリントにより形成する工程Ａ２）
この溝をインプリントにより形成する工程Ａ２では、図２（ｂ）に示すように、成膜した配向膜材料２に液晶配向性を与えるための溝３をインプリントにより形成する。このインプリントは、図３（ａ）に示すように、成形型６０を用いる。この成形型６０は、複数のスケール溝６１を有する接触面６２を有する。成形型６０は、実施例によっては他の材料又は材料の組み合わせを使用しても良いが、この実施の形態では、成形型６０は石英板を使用して作製されるが、ニッケル（Ｎｉ）などを使用して作製してもよい。スケール溝６１は、エッチングして作製しても良いし、又は、さもなければリソグラフィのような従来手段を使用して接触面６２上に作製しても良い。
【００３３】
このような成形型６０を作成した後、図３（ｂ）に示すように、成形型６０の接触面６２を配向膜材料２の表面に押し付けて転写させる。ここでは、インプリント法により、図３（ｃ）に示すように、成形型６０の接触面６２のスケール溝６１を配向膜材料２に転写し、配向膜材料２に液晶配向性を与えるための溝３を形成する。
【００３４】
この溝３は、平行で、幅１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、１μｍよりも大きく且つ深さ（又は高さ）が５０ｎｍ未満であることが、より確実に液晶の配向を行うことができる。
【００３５】
（配向処理を行う工程Ａ３）
この配向処理を行う工程Ａ３では、図２（ｃ）に示すように、溝３が形成された配向膜材料２に光照射４により液晶配向性を与える配向処理を行う。この実施の形態では、室温で、溝と直交方向に偏光紫外線を照射して配向膜の配向処理を行い、液晶表示装置用基板を得ることができる。
【００３６】
このように、基板１上に、光照射により液晶配向性を発現する配向膜材料２を成膜し、さらにインプリントにより配向膜材料２に液晶配向性を与えるための溝３を形成し、光照射４による配向処理を行うことで、発塵や静電気の発生がなく、簡単な構成で確実に液晶の配向を行うことができる。
【００３７】
［実施の形態］
図４は実施の形態の液晶表示装置用基板の製造方法の概略構成図、図５は液晶表示装置用基板の製造方法を説明する図である。
【００３８】
この実施の形態の液晶表示装置用基板の製造方法は、図４に示すように、溝を形成するための材料を成膜する工程Ｂ１と、溝をインプリントにより形成する工程Ｂ２と、配向膜材料を成膜する工程Ｂ３と、配向処理を行う工程Ｂ４と、を有する。
【００３９】
（溝を形成するための材料を成膜する工程Ｂ１）
この溝を形成するための材料を成膜する工程Ｂ１では、図５（ａ）に示すように、基板１０１上に、液晶配向性を与えるための溝を形成するための材料１０２を成膜する。
【００４０】
基板１０１は、第１の実施の形態の基板１と同様に、ガラス、プラスチックフィルムを用いることができる。
【００４１】
溝を形成するための材料１０２は、エポキシ樹脂等の架橋性樹脂を用いることができ、基板の表面に塗布して成膜される。架橋性樹脂としては、光架橋性樹脂および熱架橋性樹脂が挙げられる。また、光架橋性樹脂としてはアクリル樹脂を用いることができ、熱架橋性樹脂としてはエポキシ樹脂を用いることができる。
【００４２】
（溝をインプリントにより形成する工程Ｂ２）
この溝をインプリントにより形成する工程Ｂ２では、図５（ｂ）に示すように、成膜した溝を形成するための材料１０２に液晶配向性を与えるための溝１０３をインプリントにより形成する。インプリントは、図３の実施の形態の成形型６０を用い、同様に溝を形成するための材料１０２に溝１０３を形成することができる。溝を形成するための材料１０２として、架橋性樹脂を用いることで、インプリントにより溝１０３を精度よく形成することができ、特に熱架橋性樹脂は、加熱してインプリントにより溝１０３を精度よく形成することができ、光架橋性樹脂は、光照射してインプリントにより溝１０３を精度よく形成することができ、加工方法と樹脂特性の適合性が良好になる。この溝１０３は、平行で、幅１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、１μｍよりも大きく且つ深さ（又は高さ）が５０ｎｍ未満であることが、より確実に液晶の配向を行うことができる。
【００４３】
（配向膜材料を成膜する工程Ｂ３）
この配向膜材料を成膜する工程Ｂ３では、図５（ｃ）に示すように、溝１０３を形成した膜の上面に光照射により液晶配向性を発現する配向膜材料１０４を成膜する。配向膜材料１０４は、偏光紫外線を照射することで偏光方向と直交方向に液晶を配向する性質を持つ光分解型の配向膜材料を用いることができ、基板の表面に塗布して成膜されるが、これに限定されず、接着などにより接合してもよい。
【００４４】
配向膜材料１０４としては、例えばポリビニルシンナメート、ポリイミドなどの有機膜を用いることができ、直線偏光された紫外線を照射することにより、液晶配向能を付与することができる。また、ポリアミック酸薄膜を用いることができ、室温以上に加熱しつつ、偏光または非偏光の放射線を照射して液晶配向性を付与することができる。
【００４５】
（配向処理を行う工程Ｂ４）
この配向処理を行う工程Ｂ４では、図５（ｄ）に示すように、成膜された配向膜材料１０４に光照射１０５により液晶配向性を与える配向処理を行う。この実施の形態では、室温で、溝と直交方向に偏光紫外線を照射して配向膜の配向処理を行い、液晶表示装置用基板を得ている。
【００４６】
このように、基板１０１上に、液晶配向性を与えるための溝を形成するための材料１０２を成膜してインプリントにより溝１０３を形成し、さらに溝１０３を形成した膜の上面に配向膜材料１０４を成膜して光照射１０５による配向処理を行うことで、発塵や静電気の発生がなく、確実に液晶の配向を行うことができる。
【００４７】
次に、液晶表示装置用基板の実施の形態について説明する。
［参考例の実施の形態］
この参考例の実施の形態の液晶表示装置用基板Ａは、図６（ａ）に示すように、基板１上に、光照射により液晶配向性を発現する配向膜材料２を成膜し、成膜した配向膜材料２に液晶配向性を与えるための溝３をインプリントにより形成し、溝３が形成された配向膜材料２に光照射により液晶配向性を与える配向処理を行い、参考例の実施の形態の製造方法により製造されたものである。
【００４８】
［実施の形態］
この実施の形態の液晶表示装置用基板Ｂは、図６（ｂ）に示すように、基板１０１上に、液晶配向性を与えるための溝を形成するための材料１０２を成膜し、成膜した溝を形成するための材料１０２に液晶配向性を与えるための溝１０３をインプリントにより形成し、溝１０３を形成した膜の上面に光照射により液晶配向性を発現する配向膜材料１０４を成膜し、成膜された配向膜材料１０４に光照射により液晶配向性を与える配向処理を行い、実施の形態の製造方法により製造されたものである。
【００４９】
次に、液晶表示装置の実施の形態について説明する。
［実施の形態］
この実施の形態の液晶表示装置Ｃは、図７（ａ）に示すように、液晶セル３００を有する。この液晶セル３００は、実施の形態の２枚の液晶表示装置用基板Ａを、配向処理方向が９０度になるように組み合わせ、セルギャップのセルを作製して液晶３０１を注入し、液晶３０１が等方性液体になる温度まで一旦加温し、その後室温まで冷却する処理を行い、２枚の液晶表示装置用基板Ａの各面に、配向処理方向と吸収軸の方向が直交するように偏光板３０２を貼り合せたものである。
【００５０】
［実施の形態］
この実施の形態の液晶表示装置Ｄは、図７（ｂ）に示すように、液晶セル３１０を有する。この液晶セル３１０は、実施の形態の２枚の液晶表示装置用基板Ｂを、配向処理方向が９０度になるように組み合わせ、セルギャップのセルを作製して液晶３０１を注入し、液晶が等方性液体になる温度まで一旦加温し、その後室温まで冷却する処理を行い、２枚の液晶表示装置用基板Ｂの各面に、配向処理方向と吸収軸の方向が直交するように偏光板３０２を貼り合せたものである。
【００５１】
このように、液晶表示装置は、少なくとも、液晶セルと偏光板からなる。そして、偏光板は、少なくとも、保護膜と偏光膜からなる。一般的に、偏光板は、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面に保護膜を積層して得られる。透過型液晶表示装置では、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには一枚以上の光学補償シートを配置することもある。一方、反射型液晶表示装置では、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償シート、偏光板の順に配置するのが一般的である。液晶セルは、液晶性分子、それを封入するための二枚の基板および液晶性分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、液晶性分子の配向状態の違いで、ＯＮ・ＯＦＦ表示を行う。そして、当該液晶セルは、透過および反射型いずれにも適用でき、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ），強誘電性液晶のような表示モードが知られている。
【００５２】
次に、実施例について説明する。
【００５３】
（実施例１）
透明電極として酸化インジウム錫（ＩＴＯ）を成膜したガラス基板上に、偏光紫外線を照射することで偏光方向と直交方向に液晶を配向する性質を持つ光分解型の配向膜材料を塗布し、８０℃のホットプレート上で１分間予備乾燥した後、１８０℃のオーブン中で３０分間熱処理し、膜厚６０ｎｍの配向膜を得た。
【００５４】
この基板をシリコーンゴムのシート上にセットし、配向膜面に、幅１０ｎｍ、深さ１０ｎｍの溝を２０ｎｍ周期で刻んだ石英板を温度２００℃、圧力０．５ＭＰａで押し当ててインプリントを行った。その後、室温で、溝と直交方向に偏光紫外線を照射して配向膜の配向処理を行い、液晶表示装置用基板を得た。
【００５５】
２枚の液晶表示装置用基板を、配向処理方向が９０度になるように組み合わせ、セルギャップ５μｍのセルを作製して液晶を注入した。続いて、液晶が等方性液体になる温度まで一旦加温し、その後室温まで冷却する処理を行った。各面に、配向処理方向と吸収軸の方向が直交するように偏光板を貼り合せ、試験用の液晶表示装置とした。
【００５６】
この液晶表示装置を目視および顕微鏡を用いて観察したところ、液晶の配向は良好であった。
【００５７】
（実施例２）
ポリエーテルスルホン製フィルム基板上に、熱架橋樹脂の溶液を塗布し、９０℃のオーブン中で１５分間予備乾燥した後に１６０℃で６０分間加熱して架橋させ膜厚１μｍの塗膜を得た。
【００５８】
この基板をシリコーンゴムのシート上にセットし、配向膜面に、幅１００ｎｍ、深さ２００ｎｍの溝を２００ｎｍ周期で刻んだ石英板を温度１７０℃、圧力１ＭＰａで押し当ててインプリントを行った。
【００５９】
続いて、この基板上にスパッタリングによりＩＴＯを成膜した。その際、基板が１７０℃以上にならないように冷却を行った。
【００６０】
次に、偏光紫外線を照射することで偏光方向と平行に液晶を配向させる性質を持つ光架橋型の配向膜材料を塗布し、９０℃のホットプレート上で１分間予備乾燥した後、１５０℃のオーブン中で９０分間熱処理し、膜厚４０ｎｍの配向膜を得た。
【００６１】
その後、室温で、溝と平行方向に偏光紫外線を照射して配向膜の配向処理を行い、液晶表示装置用基板を得た。
【００６２】
以下実施例１と同様にして試験用の液晶表示装置を製作した。
【００６３】
この液晶表示装置を目視および顕微鏡を用いて観察したところ、液晶の配向は良好であった。
【００６４】
（実施例３）
ＩＴＯを成膜したポリエーテルスルホン製フィルム基板上に、光架橋樹脂の溶液を塗布し、オーブン中１２０℃で３０分間乾燥して膜厚１００ｎｍの塗膜を得た。
【００６５】
この基板をシリコーンゴムのシート上にセットし、配向膜面に、幅５０ｎｍ、深さ５０ｎｍの溝を１００ｎｍ周期で刻んだ石英板を温度３０℃、圧力１ＭＰａで押し当てながら石英板の裏面から紫外線を照射して光架橋樹脂を架橋させインプリントを行った。
【００６６】
次に、偏光紫外線を照射することで偏光方向と平行に液晶を配向させる性質を持つ光架橋型の配向膜材料を塗布し、９０℃のホットプレート上で１分間予備乾燥した後、１５０℃のオーブン中で９０分間熱処理し、膜厚４０ｎｍの配向膜を得た。
【００６７】
その後、室温で、溝と平行方向に偏光紫外線を照射して配向膜の配向処理を行い、液晶表示装置用基板を得た。
【００６８】
以下実施例１と同様にして試験用の液晶表示装置を製作した。
【００６９】
この液晶表示装置を目視および顕微鏡を用いて観察したところ、液晶の配向は良好であった。
【００７０】
（比較例１）
インプリントを行わない以外は、実施例１と同様に実施した。液晶表示装置を顕微鏡で観察したところ、ディスクリネーションラインおよび液晶注入に伴う流動配向の痕跡が観察され、液晶の配向は不良であった。
【００７１】
（比較例２）
配向膜を形成しない以外は、実施例２と同様に実施した。液晶表示装置を観察したところ流動配向の痕跡とランダムな配向が観察され、液晶の配向は不良であった。
【産業上の利用可能性】
【００７２】
この発明は、例えば液晶表示パネルなどの配向に好適な液晶配向性を発現する液晶表示装置用基板の製造方法及び液晶表示装置用基板並びに液晶表示装置に適用可能であり、発塵や静電気の発生がなく、確実に液晶の配向を行うことができる。
【符号の説明】
【００７３】
Ａ１ 配向膜材料を成膜する工程
Ａ２ 溝をインプリントにより形成する工程
Ａ３ 配向処理を行う工程
１ 基板
２ 配向膜材料
３ 溝
４ 光照射
Ｂ１ 溝を形成するための材料を成膜する工程
Ｂ２ 溝をインプリントにより形成する工程
Ｂ３ 配向膜材料を成膜する工程
Ｂ４ 配向処理を行う工程
１０１ 基板
１０２ 溝を形成するための材料
１０３ 溝
１０４ 配向膜材料
１０５ 光照射
Ａ 参考例の実施の形態の液晶表示装置用基板
Ｂ 実施の形態の液晶表示装置用基板
Ｃ 参考例の実施の形態の液晶表示装置
Ｄ 実施の形態の液晶表示装置
３００，３１０ 液晶セル
３０１ 液晶
３０２ 偏光板
【技術分野】
【０００１】
この発明は、例えば液晶表示パネルなどの配向に好適な液晶配向性を発現する液晶表示装置用基板の製造方法及び液晶表示装置用基板並びに液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、液晶表示パネルなどの液晶表示装置は、薄型軽量、低消費電力といった特徴を持ち、広く普及しており、この液晶表示装置では、その動作原理が電場の作用による液晶配向の変化を利用したものであるため、液晶配向の均一性と安定性が特に重要とされ、特に液晶を均一に配向させるために配向膜を用いている。
【０００３】
一般的には、配向膜は、ポリイミド樹脂またはその前駆体の溶液を基板上に塗布して成膜し、バフロールで一方向にこする「ラビング」という処理により液晶配向処理を行うものがある（特許文献１参照）。このようなラビングは、発塵や静電気の発生という問題がある。
【０００４】
これに対し、光に反応する官能基を有する樹脂を配向膜として用い、偏光した紫外線を照射する等により配向処理を行う配向膜材料が提案されている（特許文献２参照）。
【特許文献１】特開平９−１８５０６８
【特許文献２】特開２０００−１１２１２５
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、特許文献２などにより提案されている光による配向処理を行う配向膜材料は、液晶を配向させる配向規制力が、特許文献１などにより提案されているラビング処理より弱いため、液晶の配向の不良が発生しやすく、問題となっている。
【０００６】
この発明は、かかる実情に鑑みてなされたもので、発塵や静電気の発生がなく、確実に液晶の配向を行うことができる液晶表示装置用基板の製造方法及び液晶表示装置用基板並びに液晶表示装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決し、かつ目的を達成するために、この発明は、以下のように構成した。
【０００８】
請求項１に記載の発明は、基板上に、液晶配向性を与えるための溝を形成するための材料を成膜する工程と、
前記成膜した溝を形成するための材料に液晶配向性を与えるための溝をインプリントにより形成する工程と、
前記溝を形成した前記膜の上面に光照射により液晶配向性を発現する配向膜材料を成膜する工程と、
前記成膜された配向膜材料に光照射により液晶配向性を与える配向処理を行う工程と、
を有することを特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法である。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、前記溝は、幅１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用基板の製造方法である。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、前記溝を形成するための材料が、架橋性樹脂である請求項１に記載の液晶表示装置用基板の製造方法である。
【００１１】
請求項４に記載の発明は、前記架橋性樹脂が、熱架橋性樹脂である請求項３に記載の液晶表示装置用基板の製造方法である。
【００１２】
請求項５に記載の発明は、前記架橋性樹脂が、光架橋性樹脂である請求項３に記載の液晶表示装置用基板の製造方法である。
【００１３】
請求項６に記載の発明は、前記基板が、プラスチックフィルムである請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の液晶表示装置用基板の製造方法である。
【００１４】
請求項７に記載の発明は、請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の液晶表示装置用基板の製造方法により製造されることを特徴とする液晶表示装置用基板である。
【００１５】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の液晶表示装置用基板を用いて製造されることを特徴とする液晶表示装置である。
【発明の効果】
【００１６】
前記構成により、この発明は、以下のような効果を有する。
【００１７】
請求項１に記載の発明では、基板上に、液晶配向性を与えるための溝を形成するための材料を成膜してインプリントにより溝を形成し、さらに溝を形成した膜の上面に配向膜材料を成膜して光照射による配向処理を行うことで、発塵や静電気の発生がなく、確実に液晶の配向を行うことができる。
【００１８】
請求項２に記載の発明では、溝は、幅１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、より確実に液晶の配向を行うことができる。
【００１９】
請求項３に記載の発明では、溝を形成するための材料が、架橋性樹脂であり、インプリントにより溝を精度よく形成することができる。
【００２０】
請求項４に記載の発明では、架橋性樹脂が、熱架橋性樹脂であり、加熱してインプリントにより溝を精度よく形成することができる。
【００２１】
請求項５に記載の発明では、架橋性樹脂が、光架橋性樹脂であり、光照射してインプリントにより溝を精度よく形成することができる。
【００２２】
請求項６に記載の発明では、基板が、プラスチックフィルムであり、溝を形成するための材料と強固に一体化でき、薄く、かつ柔軟性があり、取り扱いが容易である。
【００２３】
請求項７に記載の発明では、請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の液晶表示装置用基板の製造方法により発塵や静電気の発生がなく、簡単な構成で確実に液晶の配向を行うことができる。
【００２４】
請求項８に記載の発明では、請求項７に記載の液晶表示装置用基板を用いて製造され、液晶配向の均一性と安定性に優れた液晶表示装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】参考例の実施の形態の液晶表示装置用基板の製造方法の工程図である。
【図２】液晶表示装置用基板の製造方法を説明する図である。
【図３】溝を形成する工程を説明する図である。
【図４】実施の形態の液晶表示装置用基板の製造方法の概略構成図である。
【図５】液晶表示装置用基板の製造方法を説明する図である。
【図６】液晶表示装置用基板の構成を説明する図である。
【図７】液晶表示装置の構成を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、この発明の液晶表示装置用基板の製造方法及び液晶表示装置用基板並びに液晶表示装置の実施の形態について説明する。この発明の実施の形態は、発明の最も好ましい形態を示すものであり、この発明はこれに限定されない。
【００２７】
まず、液晶表示装置用基板の製造方法の実施の形態について説明する。
［参考例の実施の形態］
図１は参考例の実施の形態の液晶表示装置用基板の製造方法の工程図、図２は液晶表示装置用基板の製造方法を説明する図、図３は溝を形成する工程を説明する図である。
【００２８】
この参考例の実施の形態の液晶表示装置用基板の製造方法は、図１に示すように、配向膜材料を成膜する工程Ａ１と、溝をインプリントにより形成する工程Ａ２と、配向処理を行う工程Ａ３と、を有する。
【００２９】
（配向膜材料を成膜する工程Ａ１）
この配向膜材料を成膜する工程Ａ１では、図２（ａ）に示すように、基板１上に、光照射により液晶配向性を発現する配向膜材料２を成膜する。基板１は、ガラス、プラスチックフィルムを用いることができるが、プラスチックフィルムが、薄く、かつ柔軟性があり、取り扱いが容易である。プラスチックフィルムとして、例えばポリエチレンレテフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン等の熱可塑性プラスチックフィルムの他、エポキシ樹脂等の架橋性樹脂も用いることができるが、これに限定されない。
【００３０】
配向膜材料２は、偏光紫外線を照射することで偏光方向と直交方向に液晶を配向する性質を持つ光分解型の配向膜材料を用いることができ、基板の表面に塗布して成膜されるが、これに限定されず、接着などにより接合してもよい。
【００３１】
配向膜材料２としては、例えばポリビニルシンナメート、ポリイミドなどの有機膜を用いることができ、直線偏光された紫外線を照射することにより、液晶配向能を付与する。また、ポリアミック酸薄膜を用いることができ、室温以上に加熱しつつ、偏光または非偏光の放射線を照射して液晶配向性を付与する。
【００３２】
（溝をインプリントにより形成する工程Ａ２）
この溝をインプリントにより形成する工程Ａ２では、図２（ｂ）に示すように、成膜した配向膜材料２に液晶配向性を与えるための溝３をインプリントにより形成する。このインプリントは、図３（ａ）に示すように、成形型６０を用いる。この成形型６０は、複数のスケール溝６１を有する接触面６２を有する。成形型６０は、実施例によっては他の材料又は材料の組み合わせを使用しても良いが、この実施の形態では、成形型６０は石英板を使用して作製されるが、ニッケル（Ｎｉ）などを使用して作製してもよい。スケール溝６１は、エッチングして作製しても良いし、又は、さもなければリソグラフィのような従来手段を使用して接触面６２上に作製しても良い。
【００３３】
このような成形型６０を作成した後、図３（ｂ）に示すように、成形型６０の接触面６２を配向膜材料２の表面に押し付けて転写させる。ここでは、インプリント法により、図３（ｃ）に示すように、成形型６０の接触面６２のスケール溝６１を配向膜材料２に転写し、配向膜材料２に液晶配向性を与えるための溝３を形成する。
【００３４】
この溝３は、平行で、幅１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、１μｍよりも大きく且つ深さ（又は高さ）が５０ｎｍ未満であることが、より確実に液晶の配向を行うことができる。
【００３５】
（配向処理を行う工程Ａ３）
この配向処理を行う工程Ａ３では、図２（ｃ）に示すように、溝３が形成された配向膜材料２に光照射４により液晶配向性を与える配向処理を行う。この実施の形態では、室温で、溝と直交方向に偏光紫外線を照射して配向膜の配向処理を行い、液晶表示装置用基板を得ることができる。
【００３６】
このように、基板１上に、光照射により液晶配向性を発現する配向膜材料２を成膜し、さらにインプリントにより配向膜材料２に液晶配向性を与えるための溝３を形成し、光照射４による配向処理を行うことで、発塵や静電気の発生がなく、簡単な構成で確実に液晶の配向を行うことができる。
【００３７】
［実施の形態］
図４は実施の形態の液晶表示装置用基板の製造方法の概略構成図、図５は液晶表示装置用基板の製造方法を説明する図である。
【００３８】
この実施の形態の液晶表示装置用基板の製造方法は、図４に示すように、溝を形成するための材料を成膜する工程Ｂ１と、溝をインプリントにより形成する工程Ｂ２と、配向膜材料を成膜する工程Ｂ３と、配向処理を行う工程Ｂ４と、を有する。
【００３９】
（溝を形成するための材料を成膜する工程Ｂ１）
この溝を形成するための材料を成膜する工程Ｂ１では、図５（ａ）に示すように、基板１０１上に、液晶配向性を与えるための溝を形成するための材料１０２を成膜する。
【００４０】
基板１０１は、第１の実施の形態の基板１と同様に、ガラス、プラスチックフィルムを用いることができる。
【００４１】
溝を形成するための材料１０２は、エポキシ樹脂等の架橋性樹脂を用いることができ、基板の表面に塗布して成膜される。架橋性樹脂としては、光架橋性樹脂および熱架橋性樹脂が挙げられる。また、光架橋性樹脂としてはアクリル樹脂を用いることができ、熱架橋性樹脂としてはエポキシ樹脂を用いることができる。
【００４２】
（溝をインプリントにより形成する工程Ｂ２）
この溝をインプリントにより形成する工程Ｂ２では、図５（ｂ）に示すように、成膜した溝を形成するための材料１０２に液晶配向性を与えるための溝１０３をインプリントにより形成する。インプリントは、図３の実施の形態の成形型６０を用い、同様に溝を形成するための材料１０２に溝１０３を形成することができる。溝を形成するための材料１０２として、架橋性樹脂を用いることで、インプリントにより溝１０３を精度よく形成することができ、特に熱架橋性樹脂は、加熱してインプリントにより溝１０３を精度よく形成することができ、光架橋性樹脂は、光照射してインプリントにより溝１０３を精度よく形成することができ、加工方法と樹脂特性の適合性が良好になる。この溝１０３は、平行で、幅１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、１μｍよりも大きく且つ深さ（又は高さ）が５０ｎｍ未満であることが、より確実に液晶の配向を行うことができる。
【００４３】
（配向膜材料を成膜する工程Ｂ３）
この配向膜材料を成膜する工程Ｂ３では、図５（ｃ）に示すように、溝１０３を形成した膜の上面に光照射により液晶配向性を発現する配向膜材料１０４を成膜する。配向膜材料１０４は、偏光紫外線を照射することで偏光方向と直交方向に液晶を配向する性質を持つ光分解型の配向膜材料を用いることができ、基板の表面に塗布して成膜されるが、これに限定されず、接着などにより接合してもよい。
【００４４】
配向膜材料１０４としては、例えばポリビニルシンナメート、ポリイミドなどの有機膜を用いることができ、直線偏光された紫外線を照射することにより、液晶配向能を付与することができる。また、ポリアミック酸薄膜を用いることができ、室温以上に加熱しつつ、偏光または非偏光の放射線を照射して液晶配向性を付与することができる。
【００４５】
（配向処理を行う工程Ｂ４）
この配向処理を行う工程Ｂ４では、図５（ｄ）に示すように、成膜された配向膜材料１０４に光照射１０５により液晶配向性を与える配向処理を行う。この実施の形態では、室温で、溝と直交方向に偏光紫外線を照射して配向膜の配向処理を行い、液晶表示装置用基板を得ている。
【００４６】
このように、基板１０１上に、液晶配向性を与えるための溝を形成するための材料１０２を成膜してインプリントにより溝１０３を形成し、さらに溝１０３を形成した膜の上面に配向膜材料１０４を成膜して光照射１０５による配向処理を行うことで、発塵や静電気の発生がなく、確実に液晶の配向を行うことができる。
【００４７】
次に、液晶表示装置用基板の実施の形態について説明する。
［参考例の実施の形態］
この参考例の実施の形態の液晶表示装置用基板Ａは、図６（ａ）に示すように、基板１上に、光照射により液晶配向性を発現する配向膜材料２を成膜し、成膜した配向膜材料２に液晶配向性を与えるための溝３をインプリントにより形成し、溝３が形成された配向膜材料２に光照射により液晶配向性を与える配向処理を行い、参考例の実施の形態の製造方法により製造されたものである。
【００４８】
［実施の形態］
この実施の形態の液晶表示装置用基板Ｂは、図６（ｂ）に示すように、基板１０１上に、液晶配向性を与えるための溝を形成するための材料１０２を成膜し、成膜した溝を形成するための材料１０２に液晶配向性を与えるための溝１０３をインプリントにより形成し、溝１０３を形成した膜の上面に光照射により液晶配向性を発現する配向膜材料１０４を成膜し、成膜された配向膜材料１０４に光照射により液晶配向性を与える配向処理を行い、実施の形態の製造方法により製造されたものである。
【００４９】
次に、液晶表示装置の実施の形態について説明する。
［実施の形態］
この実施の形態の液晶表示装置Ｃは、図７（ａ）に示すように、液晶セル３００を有する。この液晶セル３００は、実施の形態の２枚の液晶表示装置用基板Ａを、配向処理方向が９０度になるように組み合わせ、セルギャップのセルを作製して液晶３０１を注入し、液晶３０１が等方性液体になる温度まで一旦加温し、その後室温まで冷却する処理を行い、２枚の液晶表示装置用基板Ａの各面に、配向処理方向と吸収軸の方向が直交するように偏光板３０２を貼り合せたものである。
【００５０】
［実施の形態］
この実施の形態の液晶表示装置Ｄは、図７（ｂ）に示すように、液晶セル３１０を有する。この液晶セル３１０は、実施の形態の２枚の液晶表示装置用基板Ｂを、配向処理方向が９０度になるように組み合わせ、セルギャップのセルを作製して液晶３０１を注入し、液晶が等方性液体になる温度まで一旦加温し、その後室温まで冷却する処理を行い、２枚の液晶表示装置用基板Ｂの各面に、配向処理方向と吸収軸の方向が直交するように偏光板３０２を貼り合せたものである。
【００５１】
このように、液晶表示装置は、少なくとも、液晶セルと偏光板からなる。そして、偏光板は、少なくとも、保護膜と偏光膜からなる。一般的に、偏光板は、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面に保護膜を積層して得られる。透過型液晶表示装置では、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには一枚以上の光学補償シートを配置することもある。一方、反射型液晶表示装置では、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償シート、偏光板の順に配置するのが一般的である。液晶セルは、液晶性分子、それを封入するための二枚の基板および液晶性分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、液晶性分子の配向状態の違いで、ＯＮ・ＯＦＦ表示を行う。そして、当該液晶セルは、透過および反射型いずれにも適用でき、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ），強誘電性液晶のような表示モードが知られている。
【００５２】
次に、実施例について説明する。
【００５３】
（実施例１）
透明電極として酸化インジウム錫（ＩＴＯ）を成膜したガラス基板上に、偏光紫外線を照射することで偏光方向と直交方向に液晶を配向する性質を持つ光分解型の配向膜材料を塗布し、８０℃のホットプレート上で１分間予備乾燥した後、１８０℃のオーブン中で３０分間熱処理し、膜厚６０ｎｍの配向膜を得た。
【００５４】
この基板をシリコーンゴムのシート上にセットし、配向膜面に、幅１０ｎｍ、深さ１０ｎｍの溝を２０ｎｍ周期で刻んだ石英板を温度２００℃、圧力０．５ＭＰａで押し当ててインプリントを行った。その後、室温で、溝と直交方向に偏光紫外線を照射して配向膜の配向処理を行い、液晶表示装置用基板を得た。
【００５５】
２枚の液晶表示装置用基板を、配向処理方向が９０度になるように組み合わせ、セルギャップ５μｍのセルを作製して液晶を注入した。続いて、液晶が等方性液体になる温度まで一旦加温し、その後室温まで冷却する処理を行った。各面に、配向処理方向と吸収軸の方向が直交するように偏光板を貼り合せ、試験用の液晶表示装置とした。
【００５６】
この液晶表示装置を目視および顕微鏡を用いて観察したところ、液晶の配向は良好であった。
【００５７】
（実施例２）
ポリエーテルスルホン製フィルム基板上に、熱架橋樹脂の溶液を塗布し、９０℃のオーブン中で１５分間予備乾燥した後に１６０℃で６０分間加熱して架橋させ膜厚１μｍの塗膜を得た。
【００５８】
この基板をシリコーンゴムのシート上にセットし、配向膜面に、幅１００ｎｍ、深さ２００ｎｍの溝を２００ｎｍ周期で刻んだ石英板を温度１７０℃、圧力１ＭＰａで押し当ててインプリントを行った。
【００５９】
続いて、この基板上にスパッタリングによりＩＴＯを成膜した。その際、基板が１７０℃以上にならないように冷却を行った。
【００６０】
次に、偏光紫外線を照射することで偏光方向と平行に液晶を配向させる性質を持つ光架橋型の配向膜材料を塗布し、９０℃のホットプレート上で１分間予備乾燥した後、１５０℃のオーブン中で９０分間熱処理し、膜厚４０ｎｍの配向膜を得た。
【００６１】
その後、室温で、溝と平行方向に偏光紫外線を照射して配向膜の配向処理を行い、液晶表示装置用基板を得た。
【００６２】
以下実施例１と同様にして試験用の液晶表示装置を製作した。
【００６３】
この液晶表示装置を目視および顕微鏡を用いて観察したところ、液晶の配向は良好であった。
【００６４】
（実施例３）
ＩＴＯを成膜したポリエーテルスルホン製フィルム基板上に、光架橋樹脂の溶液を塗布し、オーブン中１２０℃で３０分間乾燥して膜厚１００ｎｍの塗膜を得た。
【００６５】
この基板をシリコーンゴムのシート上にセットし、配向膜面に、幅５０ｎｍ、深さ５０ｎｍの溝を１００ｎｍ周期で刻んだ石英板を温度３０℃、圧力１ＭＰａで押し当てながら石英板の裏面から紫外線を照射して光架橋樹脂を架橋させインプリントを行った。
【００６６】
次に、偏光紫外線を照射することで偏光方向と平行に液晶を配向させる性質を持つ光架橋型の配向膜材料を塗布し、９０℃のホットプレート上で１分間予備乾燥した後、１５０℃のオーブン中で９０分間熱処理し、膜厚４０ｎｍの配向膜を得た。
【００６７】
その後、室温で、溝と平行方向に偏光紫外線を照射して配向膜の配向処理を行い、液晶表示装置用基板を得た。
【００６８】
以下実施例１と同様にして試験用の液晶表示装置を製作した。
【００６９】
この液晶表示装置を目視および顕微鏡を用いて観察したところ、液晶の配向は良好であった。
【００７０】
（比較例１）
インプリントを行わない以外は、実施例１と同様に実施した。液晶表示装置を顕微鏡で観察したところ、ディスクリネーションラインおよび液晶注入に伴う流動配向の痕跡が観察され、液晶の配向は不良であった。
【００７１】
（比較例２）
配向膜を形成しない以外は、実施例２と同様に実施した。液晶表示装置を観察したところ流動配向の痕跡とランダムな配向が観察され、液晶の配向は不良であった。
【産業上の利用可能性】
【００７２】
この発明は、例えば液晶表示パネルなどの配向に好適な液晶配向性を発現する液晶表示装置用基板の製造方法及び液晶表示装置用基板並びに液晶表示装置に適用可能であり、発塵や静電気の発生がなく、確実に液晶の配向を行うことができる。
【符号の説明】
【００７３】
Ａ１ 配向膜材料を成膜する工程
Ａ２ 溝をインプリントにより形成する工程
Ａ３ 配向処理を行う工程
１ 基板
２ 配向膜材料
３ 溝
４ 光照射
Ｂ１ 溝を形成するための材料を成膜する工程
Ｂ２ 溝をインプリントにより形成する工程
Ｂ３ 配向膜材料を成膜する工程
Ｂ４ 配向処理を行う工程
１０１ 基板
１０２ 溝を形成するための材料
１０３ 溝
１０４ 配向膜材料
１０５ 光照射
Ａ 参考例の実施の形態の液晶表示装置用基板
Ｂ 実施の形態の液晶表示装置用基板
Ｃ 参考例の実施の形態の液晶表示装置
Ｄ 実施の形態の液晶表示装置
３００，３１０ 液晶セル
３０１ 液晶
３０２ 偏光板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、液晶配向性を与えるための溝を形成するための材料を成膜する工程と、
前記成膜した溝を形成するための材料に液晶配向性を与えるための溝をインプリントにより形成する工程と、
前記溝を形成した前記膜の上面に光照射により液晶配向性を発現する配向膜材料を成膜する工程と、
前記成膜された配向膜材料に光照射により液晶配向性を与える配向処理を行う工程と、
を有することを特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項２】
前記溝は、幅１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項３】
前記溝を形成するための材料が、架橋性樹脂である請求項１に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項４】
前記架橋性樹脂が、熱架橋性樹脂である請求項３に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項５】
前記架橋性樹脂が、光架橋性樹脂である請求項３に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項６】
前記基板が、プラスチックフィルムである請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の液晶表示装置用基板の製造方法により製造されることを特徴とする液晶表示装置用基板。
【請求項８】
請求項７に記載の液晶表示装置用基板を用いて製造されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１】
基板上に、液晶配向性を与えるための溝を形成するための材料を成膜する工程と、
前記成膜した溝を形成するための材料に液晶配向性を与えるための溝をインプリントにより形成する工程と、
前記溝を形成した前記膜の上面に光照射により液晶配向性を発現する配向膜材料を成膜する工程と、
前記成膜された配向膜材料に光照射により液晶配向性を与える配向処理を行う工程と、
を有することを特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項２】
前記溝は、幅１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項３】
前記溝を形成するための材料が、架橋性樹脂である請求項１に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項４】
前記架橋性樹脂が、熱架橋性樹脂である請求項３に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項５】
前記架橋性樹脂が、光架橋性樹脂である請求項３に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項６】
前記基板が、プラスチックフィルムである請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の液晶表示装置用基板の製造方法により製造されることを特徴とする液晶表示装置用基板。
【請求項８】
請求項７に記載の液晶表示装置用基板を用いて製造されることを特徴とする液晶表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１３−５０７２４（Ｐ２０１３−５０７２４Ａ）
【公開日】平成２５年３月１４日（２０１３．３．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−２１３４７１（Ｐ２０１２−２１３４７１）
【出願日】平成２４年９月２７日（２０１２．９．２７）
【分割の表示】特願２００８−２６９３２３（Ｐ２００８−２６９３２３）の分割
【原出願日】平成２０年１０月２０日（２００８．１０．２０）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【出願人】（０００００２１４１）住友ベークライト株式会社 (2,927)
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【出願人】（０００００４４５５）日立化成株式会社 (4,649)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年３月１４日（２０１３．３．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２４年９月２７日（２０１２．９．２７）
【分割の表示】特願２００８−２６９３２３（Ｐ２００８−２６９３２３）の分割
【原出願日】平成２０年１０月２０日（２００８．１０．２０）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【出願人】（０００００２１４１）住友ベークライト株式会社 (2,927)
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【出願人】（０００００４４５５）日立化成株式会社 (4,649)
【Ｆターム（参考）】
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