磁気転写用の転写ホルダーおよびそれを備えた磁気転写装置
【課題】磁気転写において、初期化反転の影響による内周部でのＡＥＲの増大を抑制することを可能とする。
【解決手段】磁気転写用の転写ホルダー１において、第１のベース部材１１ａと、この第１のベース部材１１ａ上に固定された円環状の第１のマスター担体１３ａとを有する第１のホルダー部１０ａと、第２のベース部材１１ｂと、この第２のベース部材１１ｂ上に固定された円環状の第２のマスター担体１３ｂとを有する第２のホルダー部１０ｂとを備え、第１のホルダー部１０ａが、被転写媒体Ｍの外周部を吸引保持するための吸引口１４を有し、第１のベース部材１１ａ上に固定された状態における第１のマスター担体１３ａのＰＶ値が２ｕｍ以下であるように構成する。
【解決手段】磁気転写用の転写ホルダー１において、第１のベース部材１１ａと、この第１のベース部材１１ａ上に固定された円環状の第１のマスター担体１３ａとを有する第１のホルダー部１０ａと、第２のベース部材１１ｂと、この第２のベース部材１１ｂ上に固定された円環状の第２のマスター担体１３ｂとを有する第２のホルダー部１０ｂとを備え、第１のホルダー部１０ａが、被転写媒体Ｍの外周部を吸引保持するための吸引口１４を有し、第１のベース部材１１ａ上に固定された状態における第１のマスター担体１３ａのＰＶ値が２ｕｍ以下であるように構成する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写情報に対応する凹凸パターンが形成されたマスター担体をベース部材に固定してなる磁気転写用の転写ホルダーおよびそれを備えた磁気転写装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスク装置やフレキシブルディスク装置等に用いられる高密度の磁気記録媒体（磁気ディスク媒体など）にプリフォーマット情報を正確にかつ効率よく記録する方法として、磁気転写が知られている。
【０００３】
磁気転写は、例えば特許文献１および２に示されるように、マスター担体の表面に形成された転写すべき情報に対応する凹凸パターンを被転写媒体（スレーブ媒体ともいう）に密着させながら、外部磁界を印加して上記凹凸パターンに対応する磁気パターンを被転写媒体に転写することにより行われる。凹凸パターンの表面にはその凹凸形状に沿って磁性層が形成されており、通常外部磁界が印加されることによりこの磁性層に転写磁界が発生する。一方、被転写媒体は、磁性層の転写磁界とは逆向きの磁界を有するように予め一様に初期化されている。そして、被転写媒体のうち凹凸パターンと密着した部分のみが転写磁界の影響を受けて磁気パターンとして当該情報が転写される。
【０００４】
この磁気転写は、マスター担体と被転写媒体との相対的な位置を変化させることなく静的に情報の記録を行うことができ、正確なプリフォーマット情報の記録が可能であり、しかも記録に要する時間も極めて短時間であるという利点を有している。
【０００５】
ハードディスク装置の高記録容量化に伴い、磁気パターンであるサーボパターンのビット長、トラック長はより微細化する方向へ推移している。サーボパターンを一括転写することが可能な技術である磁気転写において、高密度のサーボパターンを正確に記録するためには、マスター担体の凹凸パターンを高精度に形成する技術、およびマスター担体の磁性層による転写磁界に異方性を持たせて転写磁界を収束させる技術が欠かせない。
【０００６】
マスター担体の磁性層に異方性を持たせた場合磁性層が残留磁化を持つようになり、外部磁界を除去した後もドメイン単位で磁石化した状態になる。一方、被転写媒体の磁界は、被転写媒体中の反磁界の影響で熱力学的に不安定な状態となっている。したがって、磁性層が磁石化した状態のマスター担体に被転写媒体が吸引保持されると、外部磁界を印加しなくても被転写媒体のうち磁石化部位と接触した部分の磁界のみが反転するという現象（初期化反転）が生じることが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−２４２６３８号公報
【特許文献２】特開２００６−６５８９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、初期化反転が生じる状況で、マスター担体および被転写媒体の接触状態に横ずれが生じた場合、被転写媒体のうち初期化反転が生じる領域が拡大するという問題がある。この場合、本来ならば初期化時の磁界方向を維持しなければならない被転写媒体の領域で初期化反転が生じ、初期化側信号の信号抜けが生じる。例えば、このような信号抜けがサーボパターンのアドレス部で生じた場合には、アドレスをミスリードする要因となり、結果としてアドレスエラーレート（ＡＥＲ）が増大してしまう。このような問題は、ハードディスクの構造上読み取り信号のＳ／Ｎ比が確保しにくい内周部において特に生じやすいため、その解決方法が望まれている。
【０００９】
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、磁気転写において、初期化反転の影響による内周部でのＡＥＲの増大を抑制することを可能とする磁気転写用の転写ホルダーおよびそれを備えた磁気転写装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明に係る磁気転写用の転写ホルダーは、
円環状の被転写媒体を保持する磁気転写用の転写ホルダーにおいて、
第１のベース部材と、この第１のベース部材上に固定された円環状の第１のマスター担体であって第１のベース部材側とは反対側の表面に転写情報に対応する第１の凹凸パターンが形成された第１のマスター担体とを有する第１のホルダー部と、
第２のベース部材と、この第２のベース部材上に固定された円環状の第２のマスター担体であって第２のベース部材側とは反対側の表面に転写情報に対応する第２の凹凸パターンが形成された第２のマスター担体とを有する第２のホルダー部とを備え、
第１のホルダー部が、被転写媒体の外周部を吸引保持するための吸引口を有し、
第１のベース部材上に固定された状態における第１のマスター担体のＰＶ値が２ｕｍ以下であることを特徴とするものである。
【００１１】
本明細書において、「ＰＶ値」は、物の表面形状の最大差を表す。なお、「表面形状の最大差」とは、表面形状に関する測定の範囲内での最も高い点（Ｐｅａｋ）と最も低い点（Ｖａｌｌｅｙ）との差を意味する。
【００１２】
そして、本発明に係る転写ホルダーにおいて、第１のマスター担体の外径は被転写媒体の外径よりも小さいことが好ましい。
【００１３】
そして、本発明に係る転写ホルダーにおいて、第１のホルダー部は、被転写媒体の内周部を吸引保持するための第２の吸引口を有することが好ましい。
【００１４】
さらに、本発明に係る磁気転写装置は、上記に記載の転写ホルダーと、
この転写ホルダーの吸引口から吸引する吸引手段と、
転写ホルダーに外部磁界を印加する磁界印加手段とを備えたことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明に係る磁気転写用の転写ホルダーは、円環状の被転写媒体を保持する磁気転写用の転写ホルダーにおいて、第１のベース部材と、この第１のベース部材上に固定された円環状の第１のマスター担体であって第１のベース部材側とは反対側の表面に転写情報に対応する第１の凹凸パターンが形成された第１のマスター担体とを有する第１のホルダー部と、第２のベース部材と、この第２のベース部材上に固定された円環状の第２のマスター担体であって第２のベース部材側とは反対側の表面に転写情報に対応する第２の凹凸パターンが形成された第２のマスター担体とを有する第２のホルダー部とを備え、第１のホルダー部が、被転写媒体の外周部を吸引保持するための吸引口を有し、第１のベース部材上に固定された状態における第１のマスター担体のＰＶ値が２ｕｍ以下であることを特徴とするものである。これにより、第１のホルダー部が被転写媒体をその外周部で吸引保持することが可能となる。被転写媒体をその外周部で吸引保持した場合、被転写媒体の外周部が第１のマスター担体側に引き寄せられる反動により、内周部における第１のマスター担体と被転写媒体との間にわずかな空間が生じる。この空間により、第１のホルダー部が被転写媒体を吸引保持する際、被転写媒体の内周部における初期化反転の影響を低減することができる。したがって、その後マスター担体および被転写媒体の接触状態に横ずれが生じたとしても、初期化反転が生じる領域が拡大することを抑制することができる。この結果、磁気転写において、初期化反転の影響による内周部でのＡＥＲの増大を抑制することが可能となる。
【００１６】
また、本発明に係る磁気転写装置は、上記に記載の転写ホルダーを備えたものであるから、第１のホルダー部が被転写媒体をその外周部で吸引保持することが可能となる。この結果、前述のように磁気転写において、初期化反転の影響による内周部でのＡＥＲの増大を抑制することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】（ａ）本発明の転写ホルダーの一実施形態を示す概略切断部端面図である。（ｂ）図１ａの転写ホルダーの第１のホルダー部を示す概略上面図である。
【図２】（ａ）図１ａの転写ホルダーに被転写媒体が配置された様子を示す概略切断部端面図である。（ｂ）図２ａの転写ホルダーの第１のホルダー部を示す概略上面図である。
【図３Ａ】第１のマスター担体上に配置された被転写媒体をその外周部で吸引保持したときの様子を示す概略切断部端面図である。
【図３Ｂ】第１のマスター担体上に配置された被転写媒体をその内周部で吸引保持したときの様子を示す概略切断部端面図である。
【図４】（ａ）他の実施形態の転写ホルダーに被転写媒体が配置された様子を示す概略切断部端面図である。（ｂ）図４ａの転写ホルダーの第１のホルダー部を示す概略上面図である。
【図５】（ａ）従来の実施形態の転写ホルダーに被転写媒体が配置された様子を示す概略切断部端面図である。（ｂ）図５ａの転写ホルダーの第１のホルダー部を示す概略上面図である。
【図６Ａ】転写ホルダーに配置された被転写媒体を吸引保持する工程を示す概略切断部端面図である。
【図６Ｂ】第１のマスター担体および第２のマスター担体をそれぞれ両側から被転写媒体に密着させた状態を示す概略切断部端面図である。
【図６Ｃ】被転写媒体を保持する転写ホルダーに外部磁界を印加する工程を示す概略切断部端面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明するが、本発明はこれに限られるものではない。なお、視認しやすくするため、図面中の各構成要素の縮尺等は実際のものとは適宜異ならせてある。
【００１９】
まず、本実施形態の転写ホルダー１について説明する。図１ａは、本実施形態の転写ホルダー１を示す概略切断部端面図である。図１ｂは、図１ａの転写ホルダーの第１のホルダー部を示す概略上面図である。転写ホルダー１は、図１ａに示されるように第１のホルダー部１０ａおよび第２のホルダー部１０ｂから構成される。転写ホルダー１は、第１のホルダー部１０ａの第１のマスター担体１３ａおよび第２のホルダー部１０ｂの第２のマスター担体１３ｂによって被転写媒体を両面から挟み、両面に同時に磁気転写を行うためのものである。
【００２０】
第１のホルダー部は、第１のベース部材１１ａ、第１の緩衝部材１２ａ、および第１のマスター担体１３ａから構成される。一方、第２のホルダー部は、第２のベース部材１１ｂ、第２の緩衝部材１２ｂ、および第２のマスター担体１３ｂから構成される。
【００２１】
ベース部材１１ａおよび１１ｂは、開閉機構或いは手動により開閉作動される。ベース部材１１ａおよび１１ｂは、全体として略円盤状で、マスター担体１３ａおよび１３ｂの外径より大きい円形状の平面を内部に有する。ベース部材１１ａおよび１１ｂのそれぞれの中心部には、マスター担体１３ａおよび１３ｂ並びに被転写媒体Ｍの中央開口部に挿通されるセンターコアが突設されてもよい。ベース部材１１ａおよび１１ｂのそれぞれの中心部周囲には、円環シート状の緩衝部材１２ａおよび１２ｂがその粘着性により接着されている。マスター担体１３ａおよび１３ｂは、緩衝部材１２ａおよび１２ｂの上に粘着などにより固定される。ベース部材１１ａおよび１１ｂの材料は、ガラス、金属等を用いることができ、特に限定されないが、良好な磁界印加を実現するために、ステンレス等の非磁性材料を用いることが好ましい。
【００２２】
第１のベース部材１１ａには、第１のマスター担体１３ａに配置された被転写媒体Ｍの外周部を吸引保持するための吸引口１４が設けられている。被転写媒体Ｍの「外周部」とは、外周近傍の部分であって主として磁気転写の対象となっていない（つまり磁気パターンが形成されない）部分を意味する。また、「外周部を吸引保持する」とは、外周部に第１のマスター担体１３ａ側に働く吸引力が作用することを意味し、必ずしも吸引口１４と被転写媒体Ｍの外周部とが接触している必要はない。吸引口１４の個数は特に限定されないが、吸引口１４は被転写媒体Ｍの外周部に沿って均等に設けられることが好ましい。第１のベース部材１１ａの吸引口１４のさらに外周側には、吸引口１４によって被転写媒体Ｍの外周部を吸引する際に吸引口１４周辺の空間を狭くするための突起部１５が設けられている。これにより、効率よく吸引力が被転写媒体Ｍの外周部に作用し、被転写媒体Ｍの吸引保持力を高めることができる。図１ａおよび図１ｂでは、突起部１５は第１のベース部材１１ａと一体として形成された場合が示されているが、突起部１５はこのような形態に限定されず、独立した円環状のプレート等であってもよい。
【００２３】
また、図４ａは、本実施形態の設計変更に係る転写ホルダーに被転写媒体が配置された様子を示す概略切断部端面図である。図４ｂは、図４ａの転写ホルダーの第１のホルダー部を示す概略上面図である。第１のベース部材２１ａには、図４に示されるように、第１のマスター担体２３ａに配置された被転写媒体Ｍの内周部を吸引保持するための吸引口２４ｂも設けるようにしてもよい。また、この場合には図４に示されるように、吸引口２４ｂ周辺の空間を狭くするための突起部２５を設けてもよい。
【００２４】
緩衝部材１２ａおよび１２ｂは、弾性特性を有する円環シート状の弾性材料からなり、マスター担体１３ａおよび１３ｂと被転写媒体Ｍとの密着時に、マスター担体１３ａおよび１３ｂの弾性変形を許容する特性を備えている。これにより、マスター担体１３ａおよび１３ｂと被転写媒体Ｍとの表面形状を一致させて密着性を高め、密着力を解放した際にはマスター担体１３ａおよび１３ｂを元の状態に復元させることができる。緩衝部材１２ａおよび１２ｂは、例えば両面に粘着剤が付与された弾性部材から構成することができる。弾性部材の材質、厚み等は、それらの密着時の加圧力による弾性部材の加圧方向の変形量が５μｍ〜５００μｍの範囲となるように設定されることが好ましい。弾性部材の材料は、ウレタンゴムやニトリルブタジエンゴム、フッ素ゴム等が好ましい。
【００２５】
マスター担体１３ａおよび１３ｂは、表面に所望の凹凸パターン形状を有する構造体であり、その凹凸パターンの形状に応じた磁化パターンを被転写媒体Ｍに転写するための磁気転写用の原盤である。マスター担体１３ａおよび１３ｂは例えば、表面が平滑な石英ガラス等からなる円形の基板上に、フォトレジストをスピンコーター等により塗布し、プリベーク後に、記録する信号に対応して変調したレーザ光（或いは電子ビーム）をフォトレジストに照射して、フォトレジストの略全面に所定のパターンを露光し、露光された部分のフォトレジストを除去し、残ったフォトレジストをマスクとしてエッチングして、当該基板の表面上に凹凸パターンを形成し、この凹凸パターンのある表面上にＮｉを電鋳して、この電鋳部分を剥離することにより、製造することができる。当該電鋳部分がマスター担体となる。また、必要に応じて、凹凸パターンの凹凸形状に沿ってその表面に磁性層が形成される。
【００２６】
マスター担体１３ａおよび１３ｂはそれぞれ、ベース部材１１ａおよび１１ｂに上に固定される。なお本実施形態においては、マスター担体１３ａおよび１３ｂのそれぞれが緩衝部材１２ａおよび１２ｂを介してベース部材１１ａおよび１１ｂ上に固定される場合について説明しているが、緩衝部材は１２ａおよび１２ｂは必ずしも必要ではない。
【００２７】
転写ホルダー１において、マスター担体１３ａおよび１３ｂの厚みは、1００ｕｍ以上６００ｕｍ未満であることが好ましい。下限については、２００ｕｍよりもマスター担体１３ａおよび１３ｂの厚みが薄いとマスター担体１３ａおよび１３ｂの十分な剛性が確保できず、マスター担体１３ａおよび１３ｂの全体的な形状が下地の緩衝部材１２ａおよび１２ｂのわずかな歪みにも影響されてしまい、マスター担体１３ａおよび１３ｂの全体的な平坦性が低下してしまうためである。上限については、マスター担体１３ａおよび１３ｂの厚みが６００ｕｍ以上であるとマスター担体１３ａおよび１３ｂの剛性がありすぎて、マスター担体１３ａおよび１３ｂが被転写媒体Ｍに密着されたとき、マスター担体１３ａおよび１３ｂの全体的な形状が変形しながら被転写媒体Ｍの表面形状に沿って密着することができなくなり、マスター担体１３ａおよび１３ｂおよび被転写媒体Ｍの密着性が低下してしまうためである。マスター担体の１３ａおよび１３ｂの外径は、被転写媒体Ｍの外径よりも小さく設定することが好ましい。これにより、被転写媒体Ｍの外周部に有効に吸引力が働くようになる。
【００２８】
特に第１のマスター担体１３ａは、第１のベース部材１１ａ上に固定された状態においてＰＶ値が２ｕｍ以下となるように設定される。本明細書におけるＰＶ値は、富士写真光機株式会社製の干渉計を用い６３２．８ｎｍの波長の光で測定を行ったときの値である。第１のマスター担体１３ａについての当該ＰＶ値を２ｕｍ以下とするためには、第１のマスター担体１３ａの下地の平坦性が重要である。例えば、ベース部材１１ａのマスター担体１３ａが固定されている面を精密研磨によりＰＶ値１ｕｍ以下とすることが好ましい。また、緩衝部材１２ａを設ける場合には、緩衝部材１２ａの径加工時に端部の形状が盛り上がることを抑制することも重要となる。例えば、緩衝部材１２ａの表面をダイヤモンドターニング加工などにより処理を行い、引き切り加工により緩衝部材１２ａの内径および外径を加工することが好ましい。この結果、緩衝部材１２ａの端部の盛り上がりを抑制して、緩衝部材１２ａの表面のＰＶ値を２ｕｍ以下にすることができる。なお、緩衝部材は弾性特性を有するためそれ自体のＰＶ値はある程度許容される。ここで、引き切り加工とは、加工対象部材の表面に対し垂直に刃先を侵入させた後、侵入方向に対し垂直方向に刃先を加工対象部材に対して相対移動することにより、加工対象部材を切断する加工方法を意味する。このようにして作製された緩衝部材１２ａを介して粘着材でマスター担体１３ａをベース部材１１ａに固定することで第１のマスター担体１３ａについての当該ＰＶ値を２ｕｍ以下にすることができる。
【００２９】
また、転写ホルダー１による磁気転写の対象となる被転写媒体Ｍは、両面または片面に磁気記録部（磁性層）が形成されたハードディスク、高密度フレキシブルディスクなどの円盤状磁気記録媒体である。その磁性層は塗布型磁気記録層あるいは金属薄膜型磁気記録層で構成される。通常被転写媒体Ｍの磁性層は、一定の向きの磁界を有するように予め一様に初期化されている。
【００３０】
図２ａは、図１ａの転写ホルダーに被転写媒体が配置された様子を示す概略切断部端面図である。図２ｂは、図２ａの転写ホルダーの第１のホルダー部を示す概略上面図である。図６Ａから図６Ｃは、本発明の磁気転写装置を用いた磁気転写の工程を説明する図である。
【００３１】
転写ホルダー１を用いて被転写媒体Ｍに磁気転写を行う手順について説明する。まず第１のホルダー部１０ａおよび第２のホルダー部１０ｂを用意する。第１のホルダー部１０ａにおいて、第１のベース部材１１ａ上に固定された状態における第１のマスター担体のＰＶ値は２ｕｍ以下となるように設定されている。そして、被転写媒体Ｍが、図２ａに示されるように、第１のマスター担体１３ａ上に配置される。その後、吸引手段５により吸引口１４から吸引を行い、被転写媒体Ｍの外周部を吸引保持する（図６Ａ）。次に、被転写媒体Ｍを第１のホルダー部１０ａおよび第２のホルダー部１０ｂで挟むように、この第２のホルダー部１０ｂの円環状の第２のマスター担体１３ｂを被転写媒体Ｍに密着させ、第１のホルダー部１０ａ、被転写媒体Ｍおよび第２のホルダー部１０ｂから構成される構造体を形成する（図６Ｂ）。そして、磁界印加手段６を用いて当該構造体に外部磁界Ｆを印加することにより磁気転写が行われる（図６Ｃ）。
【００３２】
以下本発明の作用について説明する。
【００３３】
一般的に初期化反転の影響によるＡＥＲの増大を防止する方法として、マスター担体の磁性層の残留磁化を実害がないレベルまで抑えることが挙げられる。そして例えば残留磁化を抑える方法としては、マスター担体の磁性層を非異方性化することまたは反強磁性結合化することが考えられる。しかし、非異方性化した場合には転写精度が低下するという問題がある。一方、反強磁性結合化する場合には、被転写媒体中の中間非磁性層をサブナノメートル（１０−１０ｍ）オーダーで均一に成膜する技術が求められ、成膜再現性を確保しにくいのが現状である。
【００３４】
そこで、本発明者は、初期化反転の影響によるＡＥＲの増大の原因が、熱力学的に不安定な状態にある被転写媒体が磁石化したマスター担体に密着した後に横ずれすることである点に着目した。この結果、本発明者は、マスター担体および被転写媒体の接触状態に横ずれが生じやすい転写工程を、初期化反転の影響が製品性能上の問題となりやすい領域においてマスター担体および被転写媒体の間に空間を確保した状態（残留磁化の影響が及びにくい状態）で実施すればよいという思想に至った。一方、被転写板体の吸引保持は被転写媒体を転写ホルダーに設定する上で必須であることから、被転写媒体の吸引保持は初期化反転の影響が製品性能上の問題となりにくい領域で行うこととした。
【００３５】
具体的には、初期化反転の影響が問題となりやすい領域とは被転写媒体の内周側の転写領域に相当し、被転写媒体の吸引保持は初期化反転の影響が製品性能上の問題となりにくい領域とは被転写媒体の外周側の転写領域に相当する。これは、外周側の転写領域の磁気パターンのビット長の方が内周側のものよりも長いことにより、外周側の転写領域における読み取り信号のＳ／Ｎ比の方が充分確保されやすいためである。マスター担体および被転写媒体の接触状態に横ずれは、機械的な精度の限界によりマスター担体と被転写媒体とを密着させる際に必ず生じる。マスター担体と被転写媒体とが最終的な密着状態になるまでマスター担体と被転写媒体との間に数十〜数百ｎｍの空間を空けていれば、マスター担体の磁性層による残留磁化の影響を低減することができ、初期化反転を抑制することができる。
【００３６】
例えば本実施形態においては被転写媒体Ｍの外周部を吸引保持した際、図３Ａに示されるように、被転写媒体Ｍの外周部のみに吸引力が働き、被転写媒体Ｍの形状が歪むことにより、被転写媒体Ｍの内周側における第１のマスター担体１３ａと被転写媒体Ｍとの間にわずかな空間が生じる。この空間により、第１のホルダー部１０ａが被転写媒体Ｍを吸引保持する際、被転写媒体Ｍの内周側の転写領域における初期化反転の影響を低減することができる。この結果、初期化反転に起因するノイズが低減し、内周側の転写領域における読み取り信号のＳ／Ｎ比を向上させることができて、ＡＥＲを低減できる。
【００３７】
なお、上記の場合には反対に、被転写媒体Ｍの外周側の転写領域における初期化反転の影響は増大する。しかし、外周側の転写領域においてはもともと読み取り信号のＳ／Ｎ比は高い値であったため、若干当該Ｓ／Ｎ比が低くなっても製品性能上の問題とはなりにくい。つまり、本発明は、製品全体として規定の性能を発揮することができるようにすることをコンセプトとしている。
【００３８】
一方、従来の転写ホルダーに被転写媒体を吸着保持する場合には、図３Ｂおよび図５に示されるように、被転写媒体Ｍの内周部が吸引されていた。しかしこのような場合、被転写媒体Ｍの内周部のみに吸引力が働き、被転写媒体Ｍの内周部におけるマスター担体３３ａと被転写媒体Ｍとの密着性が向上することにより、被転写媒体Ｍの内周部において初期化反転が生じる要因となっている。元々、転写ホルダー３を内周部で吸引保持する機構にしていた理由は、ベース部材３１ａおよび３１ｂ上に固定されたマスター担体３３ａおよび３３ｂの表面形状について平坦性が悪いことによる。すなわち、広い面積をある程度強い吸引力で保持していなければ、被転写媒体Ｍが数十〜数百ｕｍずれてしまい、サーボパターンの偏芯が大きくずれて記録されてしまうという問題があった。実際、被転写媒体Ｍの内周部はドライブへの組み込み用マージンが広いため吸引保持する場所として適しており、実用的なサーボパターンの偏芯は５ｕｍ以下であるところ、内周部で吸引保持する方法はこの要件を十分達成できている。
【００３９】
上記のことを考慮すると、被転写媒体を外周部で吸引保持する方法は、内周部とは違って組み込み用マージンがない分、吸引保持する場所として適しているとは言い難い。しかし、本発明者は、ベース部材上に固定されたマスター担体の表面形状についての平坦性を確保することでこの欠点を補いうることを見出した。つまり、ベース部材上に固定された状態におけるマスター担体のＰＶ値が２ｕｍ以下である場合には、被転写媒体を外周部で吸引保持してもサーボパターンの偏芯ずれを抑制し、性能上問題のないサーボパターンを転写できることを確認した。
【００４０】
以上より、本発明に係る磁気転写用の転写ホルダーは、円環状の被転写媒体を保持する磁気転写用の転写ホルダーにおいて、第１のベース部材と、この第１のベース部材上に固定された円環状の第１のマスター担体であって第１のベース部材側とは反対側の表面に転写情報に対応する第１の凹凸パターンが形成された第１のマスター担体とを有する第１のホルダー部と、第２のベース部材と、この第２のベース部材上に固定された円環状の第２のマスター担体であって第２のベース部材側とは反対側の表面に転写情報に対応する第２の凹凸パターンが形成された第２のマスター担体とを有する第２のホルダー部とを備え、第１のホルダー部が、被転写媒体の外周部を吸引保持するための吸引口を有し、第１のベース部材上に固定された状態における第１のマスター担体のＰＶ値が２ｕｍ以下であることを特徴とするものである。これにより、第１のホルダー部が被転写媒体をその外周部で吸引保持することが可能となる。この結果、前述のように磁気転写において、初期化反転の影響による内周部でのＡＥＲの増大を抑制することが可能となる。
【００４１】
また、本発明に係る磁気転写装置は、上記に記載の転写ホルダーを備えたものであるから、第１のホルダー部が被転写媒体をその外周部で吸引保持することが可能となる。この結果、前述のように磁気転写において、初期化反転の影響による内周部でのＡＥＲの増大を抑制することが可能となる。
【実施例】
【００４２】
本発明に係る転写ホルダーの実施例を以下に示す。
＜実施例１＞
図２に示される転写ホルダー１を用いて、初期化された被転写媒体Ｍに対しＨＤＤサーボパターンの磁気転写を実施した。その際、ベース部材上に固定された状態におけるマスター担体のＰＶ値を干渉計で測定して、偏芯ずれとの対応をとると以下の表１のようになった。ＰＶ値が２ｕｍ以下の場合、被転写媒体を外周部で吸引保持しても実用に耐えることが判明した。なお、偏芯の測定方法、およびベース部材上に固定された状態におけるマスター担体のＰＶ値の測定方法は以下の通りである。
【００４３】
（偏芯の測定方法）
予めスピンドルの偏芯量がわかっているスピンスタンドを用いてＴＭＲヘッド（リードコア幅８０ｎｍ）で取得し、デコードプログラムを使用して１周のＣｙｌ変動量から一次偏芯量を求めた。転写品１０枚測定し、実用可能である５ｕｍ以下を１枚でもオーバーすれば偏芯ずれありと判断した。
【００４４】
（貼り合せ後の形状測定方法）
干渉計を用い６３２．８ｎｍの波長の光でマスター担体の表面形状を測定した。変位の最も高い点（Ｐｅａｋ）と最も低い点（Ｖａｌｌｅｙ）との差をＰＶ値とした。
【００４５】
【表１】
【００４６】
＜実施例２＞
図４に示される転写ホルダー２を用いて、初期化された被転写媒体Ｍに対しＨＤＤサーボパターンの磁気転写を実施した。その際、ベース部材上に固定された状態におけるマスター担体のＰＶ値を干渉計で測定して、偏芯ずれとの対応をとると以下の表２のようになった。外周部を吸引保持しかつ内周部を吸引保持した場合、ＰＶ値が２ｕｍ以上でも問題ないことが判明した。
【００４７】
【表２】
【００４８】
＜比較例１＞
図５に示される転写ホルダー３を用いて、初期化された被転写媒体Ｍに対しＨＤＤサーボパターンの磁気転写を実施した。その際、ベース部材上に固定された状態におけるマスター担体のＰＶ値を干渉計で測定して、偏芯ずれとの対応をとると以下の表３のようになった。内周部を吸引保持した場合、ＰＶ値が２ｕｍ以上でも問題ないことが判明した。
【００４９】
【表３】
【００５０】
＜実施例３＞
図２に示される転写ホルダー１を用いて、初期化された被転写媒体Ｍに対しＨＤＤサーボパターンの磁気転写を実施した。これによりパターン転写された被転写媒体に対し、サーボパターンの外周ＯＤ、中周ＭＤ、内周ＩＤについてＡＥＲの測定を実施した。表４はその結果を示す。一般的に実用に耐えうるには全面でＡＥＲ１０−５未満が求められるが、この実施例においては全面１０−５未満を達成でき、実用に耐えうることがわかった。これは、読み取り信号のＳ／Ｎ比が低い内周側の転写領域におけるマスター担体および被転写媒体の接触状態に横ずれを抑制できているためと推察される。
【００５１】
【表４】
【００５２】
（ＡＥＲの測定方法）
３００ＭＨｚ以上の周波数成分を除去した再生波形１０００００周分を、スピンスタンドを用いてＴＭＲヘッド（リードコア幅８０ｎｍ）で取得し、デコードプログラムを使用して解析した。これより求められた全セル数に対するアドレスエラーの数よりＡＥＲを計算した。判定の基準は以下の通りである。
実用に十分なＡＥＲ（ＡＥＲ < ５．０×１０−６）を◎、
実用可能なＡＥＲ（５．０×１０−６ ≦ ＡＥＲ ＜ １．０×１０−５）を○、
実用に適さないＡＥＲ（１．０×１０−５ ≦ ＡＥＲ）を×として実用判定を行った。
【００５３】
＜実施例４＞
図４に示される転写ホルダー２を用いて、初期化された被転写媒体Ｍに対しＨＤＤサーボパターンの磁気転写を実施した。これによりパターン転写された被転写媒体に対し、サーボパターンの外周ＯＤ、中周ＭＤ、内周ＩＤについてＡＥＲの測定を実施した。表５はその結果を示す。一般的に実用に耐えうるには全面でＡＥＲ１０−５未満が求められるが、この実施例においては全面１０−５未満を達成でき、更に実施例３よりもサーボ信号品質が勝っていることがわかった。これは、媒体を全面均一に保持することで、マスター担体および被転写媒体の接触状態に横ずれが発生しにくいためと推察される。
【００５４】
【表５】
【００５５】
＜比較例２＞
図５に示される転写ホルダー３を用いて、初期化された被転写媒体Ｍに対しＨＤＤサーボパターンの磁気転写を実施した。これによりパターン転写された被転写媒体に対し、サーボパターンの外周ＯＤ、中周ＭＤ、内周ＩＤについてＡＥＲの測定を実施した。表６はその結果を示す。一般的に実用に耐えうるには全面でＡＥＲ１０−５未満が求められるが、この比較例においては内周のＡＥＲが１０−４となっており、実用に適さないことがわかった。これは、読み取り信号のＳ／Ｎ比が低い内周側の転写領域におけるマスター担体および被転写媒体の接触状態に横ずれが生じているためと推察される。
【００５６】
【表６】
【符号の説明】
【００５７】
１、２、３ 転写ホルダー
５ 吸引手段
６ 磁界印加手段
１０ａ、２０ａ、３０ａ 第１のホルダー部
１０ｂ、２０ｂ、３０ｂ 第２のホルダー部
１１ａ、２１ａ、３１ａ 第１のベース部材
１１ｂ、２１ｂ、３１ｂ 第２のベース部材
１３ａ、２３ａ、３３ａ 第１のマスター担体
１３ｂ、２３ｂ、３３ｂ 第２のマスター担体
１４、２４ａ、２４ｂ、３４ 吸引口
１５、２５、２６、３６ 突起部
Ｆ 外部磁界
Ｍ 被転写媒体
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写情報に対応する凹凸パターンが形成されたマスター担体をベース部材に固定してなる磁気転写用の転写ホルダーおよびそれを備えた磁気転写装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスク装置やフレキシブルディスク装置等に用いられる高密度の磁気記録媒体（磁気ディスク媒体など）にプリフォーマット情報を正確にかつ効率よく記録する方法として、磁気転写が知られている。
【０００３】
磁気転写は、例えば特許文献１および２に示されるように、マスター担体の表面に形成された転写すべき情報に対応する凹凸パターンを被転写媒体（スレーブ媒体ともいう）に密着させながら、外部磁界を印加して上記凹凸パターンに対応する磁気パターンを被転写媒体に転写することにより行われる。凹凸パターンの表面にはその凹凸形状に沿って磁性層が形成されており、通常外部磁界が印加されることによりこの磁性層に転写磁界が発生する。一方、被転写媒体は、磁性層の転写磁界とは逆向きの磁界を有するように予め一様に初期化されている。そして、被転写媒体のうち凹凸パターンと密着した部分のみが転写磁界の影響を受けて磁気パターンとして当該情報が転写される。
【０００４】
この磁気転写は、マスター担体と被転写媒体との相対的な位置を変化させることなく静的に情報の記録を行うことができ、正確なプリフォーマット情報の記録が可能であり、しかも記録に要する時間も極めて短時間であるという利点を有している。
【０００５】
ハードディスク装置の高記録容量化に伴い、磁気パターンであるサーボパターンのビット長、トラック長はより微細化する方向へ推移している。サーボパターンを一括転写することが可能な技術である磁気転写において、高密度のサーボパターンを正確に記録するためには、マスター担体の凹凸パターンを高精度に形成する技術、およびマスター担体の磁性層による転写磁界に異方性を持たせて転写磁界を収束させる技術が欠かせない。
【０００６】
マスター担体の磁性層に異方性を持たせた場合磁性層が残留磁化を持つようになり、外部磁界を除去した後もドメイン単位で磁石化した状態になる。一方、被転写媒体の磁界は、被転写媒体中の反磁界の影響で熱力学的に不安定な状態となっている。したがって、磁性層が磁石化した状態のマスター担体に被転写媒体が吸引保持されると、外部磁界を印加しなくても被転写媒体のうち磁石化部位と接触した部分の磁界のみが反転するという現象（初期化反転）が生じることが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−２４２６３８号公報
【特許文献２】特開２００６−６５８９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、初期化反転が生じる状況で、マスター担体および被転写媒体の接触状態に横ずれが生じた場合、被転写媒体のうち初期化反転が生じる領域が拡大するという問題がある。この場合、本来ならば初期化時の磁界方向を維持しなければならない被転写媒体の領域で初期化反転が生じ、初期化側信号の信号抜けが生じる。例えば、このような信号抜けがサーボパターンのアドレス部で生じた場合には、アドレスをミスリードする要因となり、結果としてアドレスエラーレート（ＡＥＲ）が増大してしまう。このような問題は、ハードディスクの構造上読み取り信号のＳ／Ｎ比が確保しにくい内周部において特に生じやすいため、その解決方法が望まれている。
【０００９】
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、磁気転写において、初期化反転の影響による内周部でのＡＥＲの増大を抑制することを可能とする磁気転写用の転写ホルダーおよびそれを備えた磁気転写装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明に係る磁気転写用の転写ホルダーは、
円環状の被転写媒体を保持する磁気転写用の転写ホルダーにおいて、
第１のベース部材と、この第１のベース部材上に固定された円環状の第１のマスター担体であって第１のベース部材側とは反対側の表面に転写情報に対応する第１の凹凸パターンが形成された第１のマスター担体とを有する第１のホルダー部と、
第２のベース部材と、この第２のベース部材上に固定された円環状の第２のマスター担体であって第２のベース部材側とは反対側の表面に転写情報に対応する第２の凹凸パターンが形成された第２のマスター担体とを有する第２のホルダー部とを備え、
第１のホルダー部が、被転写媒体の外周部を吸引保持するための吸引口を有し、
第１のベース部材上に固定された状態における第１のマスター担体のＰＶ値が２ｕｍ以下であることを特徴とするものである。
【００１１】
本明細書において、「ＰＶ値」は、物の表面形状の最大差を表す。なお、「表面形状の最大差」とは、表面形状に関する測定の範囲内での最も高い点（Ｐｅａｋ）と最も低い点（Ｖａｌｌｅｙ）との差を意味する。
【００１２】
そして、本発明に係る転写ホルダーにおいて、第１のマスター担体の外径は被転写媒体の外径よりも小さいことが好ましい。
【００１３】
そして、本発明に係る転写ホルダーにおいて、第１のホルダー部は、被転写媒体の内周部を吸引保持するための第２の吸引口を有することが好ましい。
【００１４】
さらに、本発明に係る磁気転写装置は、上記に記載の転写ホルダーと、
この転写ホルダーの吸引口から吸引する吸引手段と、
転写ホルダーに外部磁界を印加する磁界印加手段とを備えたことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明に係る磁気転写用の転写ホルダーは、円環状の被転写媒体を保持する磁気転写用の転写ホルダーにおいて、第１のベース部材と、この第１のベース部材上に固定された円環状の第１のマスター担体であって第１のベース部材側とは反対側の表面に転写情報に対応する第１の凹凸パターンが形成された第１のマスター担体とを有する第１のホルダー部と、第２のベース部材と、この第２のベース部材上に固定された円環状の第２のマスター担体であって第２のベース部材側とは反対側の表面に転写情報に対応する第２の凹凸パターンが形成された第２のマスター担体とを有する第２のホルダー部とを備え、第１のホルダー部が、被転写媒体の外周部を吸引保持するための吸引口を有し、第１のベース部材上に固定された状態における第１のマスター担体のＰＶ値が２ｕｍ以下であることを特徴とするものである。これにより、第１のホルダー部が被転写媒体をその外周部で吸引保持することが可能となる。被転写媒体をその外周部で吸引保持した場合、被転写媒体の外周部が第１のマスター担体側に引き寄せられる反動により、内周部における第１のマスター担体と被転写媒体との間にわずかな空間が生じる。この空間により、第１のホルダー部が被転写媒体を吸引保持する際、被転写媒体の内周部における初期化反転の影響を低減することができる。したがって、その後マスター担体および被転写媒体の接触状態に横ずれが生じたとしても、初期化反転が生じる領域が拡大することを抑制することができる。この結果、磁気転写において、初期化反転の影響による内周部でのＡＥＲの増大を抑制することが可能となる。
【００１６】
また、本発明に係る磁気転写装置は、上記に記載の転写ホルダーを備えたものであるから、第１のホルダー部が被転写媒体をその外周部で吸引保持することが可能となる。この結果、前述のように磁気転写において、初期化反転の影響による内周部でのＡＥＲの増大を抑制することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】（ａ）本発明の転写ホルダーの一実施形態を示す概略切断部端面図である。（ｂ）図１ａの転写ホルダーの第１のホルダー部を示す概略上面図である。
【図２】（ａ）図１ａの転写ホルダーに被転写媒体が配置された様子を示す概略切断部端面図である。（ｂ）図２ａの転写ホルダーの第１のホルダー部を示す概略上面図である。
【図３Ａ】第１のマスター担体上に配置された被転写媒体をその外周部で吸引保持したときの様子を示す概略切断部端面図である。
【図３Ｂ】第１のマスター担体上に配置された被転写媒体をその内周部で吸引保持したときの様子を示す概略切断部端面図である。
【図４】（ａ）他の実施形態の転写ホルダーに被転写媒体が配置された様子を示す概略切断部端面図である。（ｂ）図４ａの転写ホルダーの第１のホルダー部を示す概略上面図である。
【図５】（ａ）従来の実施形態の転写ホルダーに被転写媒体が配置された様子を示す概略切断部端面図である。（ｂ）図５ａの転写ホルダーの第１のホルダー部を示す概略上面図である。
【図６Ａ】転写ホルダーに配置された被転写媒体を吸引保持する工程を示す概略切断部端面図である。
【図６Ｂ】第１のマスター担体および第２のマスター担体をそれぞれ両側から被転写媒体に密着させた状態を示す概略切断部端面図である。
【図６Ｃ】被転写媒体を保持する転写ホルダーに外部磁界を印加する工程を示す概略切断部端面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明するが、本発明はこれに限られるものではない。なお、視認しやすくするため、図面中の各構成要素の縮尺等は実際のものとは適宜異ならせてある。
【００１９】
まず、本実施形態の転写ホルダー１について説明する。図１ａは、本実施形態の転写ホルダー１を示す概略切断部端面図である。図１ｂは、図１ａの転写ホルダーの第１のホルダー部を示す概略上面図である。転写ホルダー１は、図１ａに示されるように第１のホルダー部１０ａおよび第２のホルダー部１０ｂから構成される。転写ホルダー１は、第１のホルダー部１０ａの第１のマスター担体１３ａおよび第２のホルダー部１０ｂの第２のマスター担体１３ｂによって被転写媒体を両面から挟み、両面に同時に磁気転写を行うためのものである。
【００２０】
第１のホルダー部は、第１のベース部材１１ａ、第１の緩衝部材１２ａ、および第１のマスター担体１３ａから構成される。一方、第２のホルダー部は、第２のベース部材１１ｂ、第２の緩衝部材１２ｂ、および第２のマスター担体１３ｂから構成される。
【００２１】
ベース部材１１ａおよび１１ｂは、開閉機構或いは手動により開閉作動される。ベース部材１１ａおよび１１ｂは、全体として略円盤状で、マスター担体１３ａおよび１３ｂの外径より大きい円形状の平面を内部に有する。ベース部材１１ａおよび１１ｂのそれぞれの中心部には、マスター担体１３ａおよび１３ｂ並びに被転写媒体Ｍの中央開口部に挿通されるセンターコアが突設されてもよい。ベース部材１１ａおよび１１ｂのそれぞれの中心部周囲には、円環シート状の緩衝部材１２ａおよび１２ｂがその粘着性により接着されている。マスター担体１３ａおよび１３ｂは、緩衝部材１２ａおよび１２ｂの上に粘着などにより固定される。ベース部材１１ａおよび１１ｂの材料は、ガラス、金属等を用いることができ、特に限定されないが、良好な磁界印加を実現するために、ステンレス等の非磁性材料を用いることが好ましい。
【００２２】
第１のベース部材１１ａには、第１のマスター担体１３ａに配置された被転写媒体Ｍの外周部を吸引保持するための吸引口１４が設けられている。被転写媒体Ｍの「外周部」とは、外周近傍の部分であって主として磁気転写の対象となっていない（つまり磁気パターンが形成されない）部分を意味する。また、「外周部を吸引保持する」とは、外周部に第１のマスター担体１３ａ側に働く吸引力が作用することを意味し、必ずしも吸引口１４と被転写媒体Ｍの外周部とが接触している必要はない。吸引口１４の個数は特に限定されないが、吸引口１４は被転写媒体Ｍの外周部に沿って均等に設けられることが好ましい。第１のベース部材１１ａの吸引口１４のさらに外周側には、吸引口１４によって被転写媒体Ｍの外周部を吸引する際に吸引口１４周辺の空間を狭くするための突起部１５が設けられている。これにより、効率よく吸引力が被転写媒体Ｍの外周部に作用し、被転写媒体Ｍの吸引保持力を高めることができる。図１ａおよび図１ｂでは、突起部１５は第１のベース部材１１ａと一体として形成された場合が示されているが、突起部１５はこのような形態に限定されず、独立した円環状のプレート等であってもよい。
【００２３】
また、図４ａは、本実施形態の設計変更に係る転写ホルダーに被転写媒体が配置された様子を示す概略切断部端面図である。図４ｂは、図４ａの転写ホルダーの第１のホルダー部を示す概略上面図である。第１のベース部材２１ａには、図４に示されるように、第１のマスター担体２３ａに配置された被転写媒体Ｍの内周部を吸引保持するための吸引口２４ｂも設けるようにしてもよい。また、この場合には図４に示されるように、吸引口２４ｂ周辺の空間を狭くするための突起部２５を設けてもよい。
【００２４】
緩衝部材１２ａおよび１２ｂは、弾性特性を有する円環シート状の弾性材料からなり、マスター担体１３ａおよび１３ｂと被転写媒体Ｍとの密着時に、マスター担体１３ａおよび１３ｂの弾性変形を許容する特性を備えている。これにより、マスター担体１３ａおよび１３ｂと被転写媒体Ｍとの表面形状を一致させて密着性を高め、密着力を解放した際にはマスター担体１３ａおよび１３ｂを元の状態に復元させることができる。緩衝部材１２ａおよび１２ｂは、例えば両面に粘着剤が付与された弾性部材から構成することができる。弾性部材の材質、厚み等は、それらの密着時の加圧力による弾性部材の加圧方向の変形量が５μｍ〜５００μｍの範囲となるように設定されることが好ましい。弾性部材の材料は、ウレタンゴムやニトリルブタジエンゴム、フッ素ゴム等が好ましい。
【００２５】
マスター担体１３ａおよび１３ｂは、表面に所望の凹凸パターン形状を有する構造体であり、その凹凸パターンの形状に応じた磁化パターンを被転写媒体Ｍに転写するための磁気転写用の原盤である。マスター担体１３ａおよび１３ｂは例えば、表面が平滑な石英ガラス等からなる円形の基板上に、フォトレジストをスピンコーター等により塗布し、プリベーク後に、記録する信号に対応して変調したレーザ光（或いは電子ビーム）をフォトレジストに照射して、フォトレジストの略全面に所定のパターンを露光し、露光された部分のフォトレジストを除去し、残ったフォトレジストをマスクとしてエッチングして、当該基板の表面上に凹凸パターンを形成し、この凹凸パターンのある表面上にＮｉを電鋳して、この電鋳部分を剥離することにより、製造することができる。当該電鋳部分がマスター担体となる。また、必要に応じて、凹凸パターンの凹凸形状に沿ってその表面に磁性層が形成される。
【００２６】
マスター担体１３ａおよび１３ｂはそれぞれ、ベース部材１１ａおよび１１ｂに上に固定される。なお本実施形態においては、マスター担体１３ａおよび１３ｂのそれぞれが緩衝部材１２ａおよび１２ｂを介してベース部材１１ａおよび１１ｂ上に固定される場合について説明しているが、緩衝部材は１２ａおよび１２ｂは必ずしも必要ではない。
【００２７】
転写ホルダー１において、マスター担体１３ａおよび１３ｂの厚みは、1００ｕｍ以上６００ｕｍ未満であることが好ましい。下限については、２００ｕｍよりもマスター担体１３ａおよび１３ｂの厚みが薄いとマスター担体１３ａおよび１３ｂの十分な剛性が確保できず、マスター担体１３ａおよび１３ｂの全体的な形状が下地の緩衝部材１２ａおよび１２ｂのわずかな歪みにも影響されてしまい、マスター担体１３ａおよび１３ｂの全体的な平坦性が低下してしまうためである。上限については、マスター担体１３ａおよび１３ｂの厚みが６００ｕｍ以上であるとマスター担体１３ａおよび１３ｂの剛性がありすぎて、マスター担体１３ａおよび１３ｂが被転写媒体Ｍに密着されたとき、マスター担体１３ａおよび１３ｂの全体的な形状が変形しながら被転写媒体Ｍの表面形状に沿って密着することができなくなり、マスター担体１３ａおよび１３ｂおよび被転写媒体Ｍの密着性が低下してしまうためである。マスター担体の１３ａおよび１３ｂの外径は、被転写媒体Ｍの外径よりも小さく設定することが好ましい。これにより、被転写媒体Ｍの外周部に有効に吸引力が働くようになる。
【００２８】
特に第１のマスター担体１３ａは、第１のベース部材１１ａ上に固定された状態においてＰＶ値が２ｕｍ以下となるように設定される。本明細書におけるＰＶ値は、富士写真光機株式会社製の干渉計を用い６３２．８ｎｍの波長の光で測定を行ったときの値である。第１のマスター担体１３ａについての当該ＰＶ値を２ｕｍ以下とするためには、第１のマスター担体１３ａの下地の平坦性が重要である。例えば、ベース部材１１ａのマスター担体１３ａが固定されている面を精密研磨によりＰＶ値１ｕｍ以下とすることが好ましい。また、緩衝部材１２ａを設ける場合には、緩衝部材１２ａの径加工時に端部の形状が盛り上がることを抑制することも重要となる。例えば、緩衝部材１２ａの表面をダイヤモンドターニング加工などにより処理を行い、引き切り加工により緩衝部材１２ａの内径および外径を加工することが好ましい。この結果、緩衝部材１２ａの端部の盛り上がりを抑制して、緩衝部材１２ａの表面のＰＶ値を２ｕｍ以下にすることができる。なお、緩衝部材は弾性特性を有するためそれ自体のＰＶ値はある程度許容される。ここで、引き切り加工とは、加工対象部材の表面に対し垂直に刃先を侵入させた後、侵入方向に対し垂直方向に刃先を加工対象部材に対して相対移動することにより、加工対象部材を切断する加工方法を意味する。このようにして作製された緩衝部材１２ａを介して粘着材でマスター担体１３ａをベース部材１１ａに固定することで第１のマスター担体１３ａについての当該ＰＶ値を２ｕｍ以下にすることができる。
【００２９】
また、転写ホルダー１による磁気転写の対象となる被転写媒体Ｍは、両面または片面に磁気記録部（磁性層）が形成されたハードディスク、高密度フレキシブルディスクなどの円盤状磁気記録媒体である。その磁性層は塗布型磁気記録層あるいは金属薄膜型磁気記録層で構成される。通常被転写媒体Ｍの磁性層は、一定の向きの磁界を有するように予め一様に初期化されている。
【００３０】
図２ａは、図１ａの転写ホルダーに被転写媒体が配置された様子を示す概略切断部端面図である。図２ｂは、図２ａの転写ホルダーの第１のホルダー部を示す概略上面図である。図６Ａから図６Ｃは、本発明の磁気転写装置を用いた磁気転写の工程を説明する図である。
【００３１】
転写ホルダー１を用いて被転写媒体Ｍに磁気転写を行う手順について説明する。まず第１のホルダー部１０ａおよび第２のホルダー部１０ｂを用意する。第１のホルダー部１０ａにおいて、第１のベース部材１１ａ上に固定された状態における第１のマスター担体のＰＶ値は２ｕｍ以下となるように設定されている。そして、被転写媒体Ｍが、図２ａに示されるように、第１のマスター担体１３ａ上に配置される。その後、吸引手段５により吸引口１４から吸引を行い、被転写媒体Ｍの外周部を吸引保持する（図６Ａ）。次に、被転写媒体Ｍを第１のホルダー部１０ａおよび第２のホルダー部１０ｂで挟むように、この第２のホルダー部１０ｂの円環状の第２のマスター担体１３ｂを被転写媒体Ｍに密着させ、第１のホルダー部１０ａ、被転写媒体Ｍおよび第２のホルダー部１０ｂから構成される構造体を形成する（図６Ｂ）。そして、磁界印加手段６を用いて当該構造体に外部磁界Ｆを印加することにより磁気転写が行われる（図６Ｃ）。
【００３２】
以下本発明の作用について説明する。
【００３３】
一般的に初期化反転の影響によるＡＥＲの増大を防止する方法として、マスター担体の磁性層の残留磁化を実害がないレベルまで抑えることが挙げられる。そして例えば残留磁化を抑える方法としては、マスター担体の磁性層を非異方性化することまたは反強磁性結合化することが考えられる。しかし、非異方性化した場合には転写精度が低下するという問題がある。一方、反強磁性結合化する場合には、被転写媒体中の中間非磁性層をサブナノメートル（１０−１０ｍ）オーダーで均一に成膜する技術が求められ、成膜再現性を確保しにくいのが現状である。
【００３４】
そこで、本発明者は、初期化反転の影響によるＡＥＲの増大の原因が、熱力学的に不安定な状態にある被転写媒体が磁石化したマスター担体に密着した後に横ずれすることである点に着目した。この結果、本発明者は、マスター担体および被転写媒体の接触状態に横ずれが生じやすい転写工程を、初期化反転の影響が製品性能上の問題となりやすい領域においてマスター担体および被転写媒体の間に空間を確保した状態（残留磁化の影響が及びにくい状態）で実施すればよいという思想に至った。一方、被転写板体の吸引保持は被転写媒体を転写ホルダーに設定する上で必須であることから、被転写媒体の吸引保持は初期化反転の影響が製品性能上の問題となりにくい領域で行うこととした。
【００３５】
具体的には、初期化反転の影響が問題となりやすい領域とは被転写媒体の内周側の転写領域に相当し、被転写媒体の吸引保持は初期化反転の影響が製品性能上の問題となりにくい領域とは被転写媒体の外周側の転写領域に相当する。これは、外周側の転写領域の磁気パターンのビット長の方が内周側のものよりも長いことにより、外周側の転写領域における読み取り信号のＳ／Ｎ比の方が充分確保されやすいためである。マスター担体および被転写媒体の接触状態に横ずれは、機械的な精度の限界によりマスター担体と被転写媒体とを密着させる際に必ず生じる。マスター担体と被転写媒体とが最終的な密着状態になるまでマスター担体と被転写媒体との間に数十〜数百ｎｍの空間を空けていれば、マスター担体の磁性層による残留磁化の影響を低減することができ、初期化反転を抑制することができる。
【００３６】
例えば本実施形態においては被転写媒体Ｍの外周部を吸引保持した際、図３Ａに示されるように、被転写媒体Ｍの外周部のみに吸引力が働き、被転写媒体Ｍの形状が歪むことにより、被転写媒体Ｍの内周側における第１のマスター担体１３ａと被転写媒体Ｍとの間にわずかな空間が生じる。この空間により、第１のホルダー部１０ａが被転写媒体Ｍを吸引保持する際、被転写媒体Ｍの内周側の転写領域における初期化反転の影響を低減することができる。この結果、初期化反転に起因するノイズが低減し、内周側の転写領域における読み取り信号のＳ／Ｎ比を向上させることができて、ＡＥＲを低減できる。
【００３７】
なお、上記の場合には反対に、被転写媒体Ｍの外周側の転写領域における初期化反転の影響は増大する。しかし、外周側の転写領域においてはもともと読み取り信号のＳ／Ｎ比は高い値であったため、若干当該Ｓ／Ｎ比が低くなっても製品性能上の問題とはなりにくい。つまり、本発明は、製品全体として規定の性能を発揮することができるようにすることをコンセプトとしている。
【００３８】
一方、従来の転写ホルダーに被転写媒体を吸着保持する場合には、図３Ｂおよび図５に示されるように、被転写媒体Ｍの内周部が吸引されていた。しかしこのような場合、被転写媒体Ｍの内周部のみに吸引力が働き、被転写媒体Ｍの内周部におけるマスター担体３３ａと被転写媒体Ｍとの密着性が向上することにより、被転写媒体Ｍの内周部において初期化反転が生じる要因となっている。元々、転写ホルダー３を内周部で吸引保持する機構にしていた理由は、ベース部材３１ａおよび３１ｂ上に固定されたマスター担体３３ａおよび３３ｂの表面形状について平坦性が悪いことによる。すなわち、広い面積をある程度強い吸引力で保持していなければ、被転写媒体Ｍが数十〜数百ｕｍずれてしまい、サーボパターンの偏芯が大きくずれて記録されてしまうという問題があった。実際、被転写媒体Ｍの内周部はドライブへの組み込み用マージンが広いため吸引保持する場所として適しており、実用的なサーボパターンの偏芯は５ｕｍ以下であるところ、内周部で吸引保持する方法はこの要件を十分達成できている。
【００３９】
上記のことを考慮すると、被転写媒体を外周部で吸引保持する方法は、内周部とは違って組み込み用マージンがない分、吸引保持する場所として適しているとは言い難い。しかし、本発明者は、ベース部材上に固定されたマスター担体の表面形状についての平坦性を確保することでこの欠点を補いうることを見出した。つまり、ベース部材上に固定された状態におけるマスター担体のＰＶ値が２ｕｍ以下である場合には、被転写媒体を外周部で吸引保持してもサーボパターンの偏芯ずれを抑制し、性能上問題のないサーボパターンを転写できることを確認した。
【００４０】
以上より、本発明に係る磁気転写用の転写ホルダーは、円環状の被転写媒体を保持する磁気転写用の転写ホルダーにおいて、第１のベース部材と、この第１のベース部材上に固定された円環状の第１のマスター担体であって第１のベース部材側とは反対側の表面に転写情報に対応する第１の凹凸パターンが形成された第１のマスター担体とを有する第１のホルダー部と、第２のベース部材と、この第２のベース部材上に固定された円環状の第２のマスター担体であって第２のベース部材側とは反対側の表面に転写情報に対応する第２の凹凸パターンが形成された第２のマスター担体とを有する第２のホルダー部とを備え、第１のホルダー部が、被転写媒体の外周部を吸引保持するための吸引口を有し、第１のベース部材上に固定された状態における第１のマスター担体のＰＶ値が２ｕｍ以下であることを特徴とするものである。これにより、第１のホルダー部が被転写媒体をその外周部で吸引保持することが可能となる。この結果、前述のように磁気転写において、初期化反転の影響による内周部でのＡＥＲの増大を抑制することが可能となる。
【００４１】
また、本発明に係る磁気転写装置は、上記に記載の転写ホルダーを備えたものであるから、第１のホルダー部が被転写媒体をその外周部で吸引保持することが可能となる。この結果、前述のように磁気転写において、初期化反転の影響による内周部でのＡＥＲの増大を抑制することが可能となる。
【実施例】
【００４２】
本発明に係る転写ホルダーの実施例を以下に示す。
＜実施例１＞
図２に示される転写ホルダー１を用いて、初期化された被転写媒体Ｍに対しＨＤＤサーボパターンの磁気転写を実施した。その際、ベース部材上に固定された状態におけるマスター担体のＰＶ値を干渉計で測定して、偏芯ずれとの対応をとると以下の表１のようになった。ＰＶ値が２ｕｍ以下の場合、被転写媒体を外周部で吸引保持しても実用に耐えることが判明した。なお、偏芯の測定方法、およびベース部材上に固定された状態におけるマスター担体のＰＶ値の測定方法は以下の通りである。
【００４３】
（偏芯の測定方法）
予めスピンドルの偏芯量がわかっているスピンスタンドを用いてＴＭＲヘッド（リードコア幅８０ｎｍ）で取得し、デコードプログラムを使用して１周のＣｙｌ変動量から一次偏芯量を求めた。転写品１０枚測定し、実用可能である５ｕｍ以下を１枚でもオーバーすれば偏芯ずれありと判断した。
【００４４】
（貼り合せ後の形状測定方法）
干渉計を用い６３２．８ｎｍの波長の光でマスター担体の表面形状を測定した。変位の最も高い点（Ｐｅａｋ）と最も低い点（Ｖａｌｌｅｙ）との差をＰＶ値とした。
【００４５】
【表１】
【００４６】
＜実施例２＞
図４に示される転写ホルダー２を用いて、初期化された被転写媒体Ｍに対しＨＤＤサーボパターンの磁気転写を実施した。その際、ベース部材上に固定された状態におけるマスター担体のＰＶ値を干渉計で測定して、偏芯ずれとの対応をとると以下の表２のようになった。外周部を吸引保持しかつ内周部を吸引保持した場合、ＰＶ値が２ｕｍ以上でも問題ないことが判明した。
【００４７】
【表２】
【００４８】
＜比較例１＞
図５に示される転写ホルダー３を用いて、初期化された被転写媒体Ｍに対しＨＤＤサーボパターンの磁気転写を実施した。その際、ベース部材上に固定された状態におけるマスター担体のＰＶ値を干渉計で測定して、偏芯ずれとの対応をとると以下の表３のようになった。内周部を吸引保持した場合、ＰＶ値が２ｕｍ以上でも問題ないことが判明した。
【００４９】
【表３】
【００５０】
＜実施例３＞
図２に示される転写ホルダー１を用いて、初期化された被転写媒体Ｍに対しＨＤＤサーボパターンの磁気転写を実施した。これによりパターン転写された被転写媒体に対し、サーボパターンの外周ＯＤ、中周ＭＤ、内周ＩＤについてＡＥＲの測定を実施した。表４はその結果を示す。一般的に実用に耐えうるには全面でＡＥＲ１０−５未満が求められるが、この実施例においては全面１０−５未満を達成でき、実用に耐えうることがわかった。これは、読み取り信号のＳ／Ｎ比が低い内周側の転写領域におけるマスター担体および被転写媒体の接触状態に横ずれを抑制できているためと推察される。
【００５１】
【表４】
【００５２】
（ＡＥＲの測定方法）
３００ＭＨｚ以上の周波数成分を除去した再生波形１０００００周分を、スピンスタンドを用いてＴＭＲヘッド（リードコア幅８０ｎｍ）で取得し、デコードプログラムを使用して解析した。これより求められた全セル数に対するアドレスエラーの数よりＡＥＲを計算した。判定の基準は以下の通りである。
実用に十分なＡＥＲ（ＡＥＲ < ５．０×１０−６）を◎、
実用可能なＡＥＲ（５．０×１０−６ ≦ ＡＥＲ ＜ １．０×１０−５）を○、
実用に適さないＡＥＲ（１．０×１０−５ ≦ ＡＥＲ）を×として実用判定を行った。
【００５３】
＜実施例４＞
図４に示される転写ホルダー２を用いて、初期化された被転写媒体Ｍに対しＨＤＤサーボパターンの磁気転写を実施した。これによりパターン転写された被転写媒体に対し、サーボパターンの外周ＯＤ、中周ＭＤ、内周ＩＤについてＡＥＲの測定を実施した。表５はその結果を示す。一般的に実用に耐えうるには全面でＡＥＲ１０−５未満が求められるが、この実施例においては全面１０−５未満を達成でき、更に実施例３よりもサーボ信号品質が勝っていることがわかった。これは、媒体を全面均一に保持することで、マスター担体および被転写媒体の接触状態に横ずれが発生しにくいためと推察される。
【００５４】
【表５】
【００５５】
＜比較例２＞
図５に示される転写ホルダー３を用いて、初期化された被転写媒体Ｍに対しＨＤＤサーボパターンの磁気転写を実施した。これによりパターン転写された被転写媒体に対し、サーボパターンの外周ＯＤ、中周ＭＤ、内周ＩＤについてＡＥＲの測定を実施した。表６はその結果を示す。一般的に実用に耐えうるには全面でＡＥＲ１０−５未満が求められるが、この比較例においては内周のＡＥＲが１０−４となっており、実用に適さないことがわかった。これは、読み取り信号のＳ／Ｎ比が低い内周側の転写領域におけるマスター担体および被転写媒体の接触状態に横ずれが生じているためと推察される。
【００５６】
【表６】
【符号の説明】
【００５７】
１、２、３ 転写ホルダー
５ 吸引手段
６ 磁界印加手段
１０ａ、２０ａ、３０ａ 第１のホルダー部
１０ｂ、２０ｂ、３０ｂ 第２のホルダー部
１１ａ、２１ａ、３１ａ 第１のベース部材
１１ｂ、２１ｂ、３１ｂ 第２のベース部材
１３ａ、２３ａ、３３ａ 第１のマスター担体
１３ｂ、２３ｂ、３３ｂ 第２のマスター担体
１４、２４ａ、２４ｂ、３４ 吸引口
１５、２５、２６、３６ 突起部
Ｆ 外部磁界
Ｍ 被転写媒体
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円環状の被転写媒体を保持する磁気転写用の転写ホルダーにおいて、
第１のベース部材と、該第１のベース部材上に固定された円環状の第１のマスター担体であって前記第１のベース部材側とは反対側の表面に転写情報に対応する第１の凹凸パターンが形成された前記第１のマスター担体とを有する第１のホルダー部と、
第２のベース部材と、該第２のベース部材上に固定された円環状の第２のマスター担体であって前記第２のベース部材側とは反対側の表面に転写情報に対応する第２の凹凸パターンが形成された前記第２のマスター担体とを有する第２のホルダー部とを備え、
前記第１のホルダー部が、前記被転写媒体の外周部を吸引保持するための吸引口を有し、
前記第１のベース部材上に固定された状態における前記第１のマスター担体のＰＶ値が２ｕｍ以下であることを特徴とする転写ホルダー。
（ＰＶ値は、表面形状の最大差を表す。）
【請求項２】
前記第１のマスター担体の外径が前記被転写媒体の外径よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の転写ホルダー。
【請求項３】
前記第１のホルダー部が、前記被転写媒体の内周部を吸引保持するための第２の吸引口を有することを特徴とする請求項１または２に記載の転写ホルダー。
【請求項４】
請求項１から３いずれかに記載の転写ホルダーと、
該転写ホルダーの前記吸引口から吸引する吸引手段と、
前記転写ホルダーに外部磁界を印加する磁界印加手段とを備えたことを特徴とする磁気転写装置。
【請求項１】
円環状の被転写媒体を保持する磁気転写用の転写ホルダーにおいて、
第１のベース部材と、該第１のベース部材上に固定された円環状の第１のマスター担体であって前記第１のベース部材側とは反対側の表面に転写情報に対応する第１の凹凸パターンが形成された前記第１のマスター担体とを有する第１のホルダー部と、
第２のベース部材と、該第２のベース部材上に固定された円環状の第２のマスター担体であって前記第２のベース部材側とは反対側の表面に転写情報に対応する第２の凹凸パターンが形成された前記第２のマスター担体とを有する第２のホルダー部とを備え、
前記第１のホルダー部が、前記被転写媒体の外周部を吸引保持するための吸引口を有し、
前記第１のベース部材上に固定された状態における前記第１のマスター担体のＰＶ値が２ｕｍ以下であることを特徴とする転写ホルダー。
（ＰＶ値は、表面形状の最大差を表す。）
【請求項２】
前記第１のマスター担体の外径が前記被転写媒体の外径よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の転写ホルダー。
【請求項３】
前記第１のホルダー部が、前記被転写媒体の内周部を吸引保持するための第２の吸引口を有することを特徴とする請求項１または２に記載の転写ホルダー。
【請求項４】
請求項１から３いずれかに記載の転写ホルダーと、
該転写ホルダーの前記吸引口から吸引する吸引手段と、
前記転写ホルダーに外部磁界を印加する磁界印加手段とを備えたことを特徴とする磁気転写装置。
【図１】
【図２】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図４】
【図５】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図６Ｃ】
【図２】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図４】
【図５】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図６Ｃ】
【公開番号】特開２０１２−１８５８８１（Ｐ２０１２−１８５８８１Ａ）
【公開日】平成２４年９月２７日（２０１２．９．２７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−４７８０７（Ｐ２０１１−４７８０７）
【出願日】平成２３年３月４日（２０１１．３．４）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【公開日】平成２４年９月２７日（２０１２．９．２７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月４日（２０１１．３．４）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
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