耐久性評価方法
【課題】パーティクルに起因した傷付きに対する耐久性を安定して評価することができる耐久性評価方法を提供する。
【解決手段】まず、懸濁液の滴下／乾燥処理（ステップＳ１０２）で、パーティクル１１０をフッ素系溶剤１２０に分散させた懸濁液１００がディスク表面に滴下される。その後、懸濁液１００が自然乾燥されてディスク表面にパーティクルが付着する。さらに、シーク処理（ステップＳ１０４）で、パーティクルが付着したディスク表面に対し評価用ヘッドスライダ５２０によるシーク動作が行なわれる。そして、傷の観察／評価処理（ステップＳ１０５）で、そのシーク動作後のディスク表面に許容以上の多数の傷が付いているか否かの判定に基づいて磁気ディスクの耐久性が評価される。
【解決手段】まず、懸濁液の滴下／乾燥処理（ステップＳ１０２）で、パーティクル１１０をフッ素系溶剤１２０に分散させた懸濁液１００がディスク表面に滴下される。その後、懸濁液１００が自然乾燥されてディスク表面にパーティクルが付着する。さらに、シーク処理（ステップＳ１０４）で、パーティクルが付着したディスク表面に対し評価用ヘッドスライダ５２０によるシーク動作が行なわれる。そして、傷の観察／評価処理（ステップＳ１０５）で、そのシーク動作後のディスク表面に許容以上の多数の傷が付いているか否かの判定に基づいて磁気ディスクの耐久性が評価される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本件は、磁気ディスク等の記憶媒体について、表面に付着したパーティクルに起因する傷付きに対する耐久性を評価する耐久性評価方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、磁気ディスク等の記憶媒体に対する耐久性評価としては、例えば、ハードディスク装置（ＨＤＤ）でのヘッドによる規格回数分のアクセス動作に、記憶媒体が傷付くことなく耐えられるか否かを評価する信頼性評価が挙げられる。この信頼性評価では、コンタクトスタートストップ（ＣＳＳ）方式でのアクセス動作に対する信頼性評価や、ロード／アンロード（Ｌ／ＵＬ）方式でのアクセス動作に対する信頼性評価が行なわれる。また、記憶媒体に対する耐久性評価としては、次のような摺動評価も挙げられる。この摺動評価では、ヘッドが搭載されるスライダの構成材料として使われることが多いＡｌ−ＴｉＣで形成された摺動ピンや実際のヘッドスライダそのものでの規格時間に亘る摺動に記憶媒体が傷付くことなく耐えられるか否かが評価される。これらの耐久性評価では、ヘッドが記憶媒体に繰返し接触した場合や、ヘッドが記憶媒体に接触し続けた場合に、記憶媒体が許容以上に傷付くか否か等が評価される。
【０００３】
ここで、ＨＤＤ等の実際の装置では、このような接触の他にも、装置内に存在する粉塵等に起因して記憶媒体が傷付いてしまうことがある。そこで、このような粉塵等を模擬した固体粒であるパーティクルを分散した雰囲気中で、記憶媒体に対するアクセス動作を行なって記憶媒体が傷付くか否かを評価する方法が提案されている（例えば、特許文献１および特許文献２参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平２−１８１６３０号公報
【特許文献２】特開平７−１２０３７７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、パーティクル雰囲気中でのアクセス動作による耐久性評価では、記憶媒体に対するパーティクルの付着密度や付着位置が、評価の度に変わってしまうおそれがある。また、このような耐久性評価が繰り返し実行されると、ある記憶媒体が傷付いたときに生じた微小な破片が、新たなパーティクルとして雰囲気に追加されるという現象が起きることがある。その結果、後で実行される耐久性評価ほど、記憶媒体に対する負荷が大きくなるという問題が生じてしまう。
【０００６】
本件は上記問題点を解決し、パーティクルに起因した傷付きに対する耐久性を安定して評価することができる耐久性評価方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成する耐久性評価方法の基本形態は、以下に説明する粒付着過程と動作過程と評価過程とを有する形態となっている。
【０００８】
粒付着過程は、使用時に表面に物体が近接あるいは接触しその表面に沿って相対的に移動する、情報を記憶する記憶媒体のその表面上に、次のように粒を付着させる過程である。この粒付着過程は、上記表面上に、複数の粒が被分散液中に分散されてなる懸濁液を滴下し、その滴下された懸濁液の被分散液を揮発させることで、上記粒を上記記憶媒体の表面上に付着させる過程となっている。
【０００９】
動作過程は、上記粒付着過程によって上記粒が表面に付着された記憶媒体のその表面に対して、以下の処理を実行する過程である。即ち、この動作過程は、その表面に、上記物体を模した試験物を近接あるいは接触させ、その試験物をその表面に対して相対的にその表面に沿って移動させることでその粒の付着箇所を横断させる過程となっている。
【００１０】
評価過程は、上記動作過程を経た記憶媒体の表面における傷の数に基づいてその記憶媒体の耐久性を評価する過程である。
【発明の効果】
【００１１】
本件の耐久性評価方法によれば、パーティクルに起因した傷付きに対する耐久性を安定して評価することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、基本形態について説明した耐久性評価方法の具体的な実施形態を示す工程図である。
【図２】複数のサンプルの磁気ディスクについて高輝度顕微鏡で確認されたパーティクル付着状態のうちの１つを示す写真である。
【図３】十分な耐久性を有していると評価されたロットに属するサンプルの磁気ディスクのうちの１つについてシーク後の表面を示す写真である。
【図４】耐久性が不十分であると評価されたロットに属するサンプルの磁気ディスクのうちの１つについてシーク後の表面を示す写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、上記に基本形態について説明した耐久性評価方法の具体的な実施形態について、図面を参照して説明する。
【００１４】
図１は、基本形態について説明した耐久性評価方法の具体的な実施形態である耐久性評価処理を示す工程図である。
【００１５】
この具体的な実施形態の耐久性評価処理は、ロット単位で量産される磁気ディスクの中からロット毎に抜き取られたサンプルの磁気ディスクに対して実行される。これにより、各ロットの磁気ディスクを評価対象とした耐久性評価が行われる。
【００１６】
また、本実施形態と異なり、このようなサンプルの抜き取りと耐久性評価処理は、新規に設計された磁気ディスクの量産が開始されたときや、製造条件が変更されたとき等といったタイミングで実行されても良い。
【００１７】
この図１の工程図が示す耐久性評価処理は、概略、次のような処理となっている。即ち、この耐久性評価処理では、評価対象の磁気ディスクが搭載されるＨＤＤ等の装置で使われるヘッドと同等な評価用ヘッドによる、パーティクル付着済みのサンプルの磁気ディスク上でのシーク動作が行なわれる。そして、そのシーク動作によってサンプルの磁気ディスクの表面に許容以上に多数の傷が付いたか否かを判定することで耐久性が評価される。
【００１８】
この耐久性評価処理では、まず、複数のパーティクル１１０をフッ素系溶剤１２０中に分散させて懸濁液１００を作成する（ステップＳ１０１）。
【００１９】
本実施形態では、後述するように、サンプルの磁気ディスクの表面への懸濁液１００の滴下と乾燥によって、その磁気ディスクの表面上にパーティクル１１０が付けられる。
【００２０】
このステップＳ１０１の処理では、懸濁液１００の材料として、アルミナあるいはカーボンのパーティクル１００が使われる。特に、アルミナのパーティクルは、一般的な研磨剤として利用されており入手性が良いことから好ましい。さらに、本実施形態では、このパーティクル１００として、平均粒径が３μｍ以下のものが使われる。粒径が３μｍを超えるパーティクルは、上記のシーク動作の際に評価用ヘッドに弾かれるおそれがあるためである。
【００２１】
また、上記のステップＳ１０１の処理では、懸濁液１００の材料として、表面張力が２０ｍＮ／ｍ以下で、蒸発熱が１００ＫＪ／Ｋｇ以下のフッ素系溶剤１２０が使われる。表面張力がこの範囲のものが使われる理由は、表面張力が２０ｍＮ／ｍを超えると、サンプルの磁気ディスクの表面上に滴下された懸濁液１００が乾燥されたときに、その表面上に乾燥シミが残るおそれがあるためである。また、蒸発熱が上記の範囲のものが使われる理由は、蒸発熱が１００ＫＪ／Ｋｇを超えると、上記の乾燥時に結露が生じるおそれがあるためである。
【００２２】
ここで、この耐久性評価処理の評価対象の磁気ディスク、即ち、上記のサンプルの磁気ディスク２００が属するロットで量産される磁気ディスクは、ＨＤＤ搭載用の一般的な磁気ディスクと同様に、表面に潤滑剤が塗布されたものである。フッ素系溶剤の中には、このような潤滑剤を溶融してしまうものがある。そこで、上記のステップＳ１０１の処理では、懸濁液１００の材料として、フッ素系溶剤の中でも、特に、サンプルの磁気ディスク２００の潤滑剤を溶融しないものが使われる。
【００２３】
以上のような条件を満足するフッ素系溶剤の一例として、パーフルオロカーボン（ＰＦＣ）等が挙げられる。
【００２４】
そして、このステップＳ１０１の処理では、複数のパーティクル１１０が、フッ素系溶剤１２０に、０．００２〜０．０１ｗｔ％の範囲内の濃度で混入され攪拌されることで懸濁液１００が作成される。この濃度範囲に対応した懸濁液１００によれば、上記のシーク動作で傷が発生したときに、その傷を観察しやすいためである。
【００２５】
このステップＳ１０１の処理に続いて、サンプルの磁気ディスク２００の表面への懸濁液１００の滴下と乾燥が行われる（ステップＳ１０２）。
【００２６】
このステップＳ１０２の処理では、始めに、マイクロピペット３００を使った懸濁液１００の滴下が行われる。
【００２７】
この滴下では、まず、上記のように作成された懸濁液１００の一部がマイクロピペット３００で吸引される。本実施形態では、この吸引は、上記のステップＳ１０１の処理における攪拌の直後で、フッ素系溶剤１２０中にパーティクル１１０が均一に分散している状態のときに行われる。そして、この吸引に続いて、マイクロピペット３００から、サンプルの磁気ディスク２００の表面に、１〜５μＬの滴下量で懸濁液１００が滴下される。この滴下量は、滴下後に表面上に広がる懸濁液１００の径（滴下径）が３〜１０ｍｍとなる量である。また、本実施形態では、サンプルの磁気ディスク２００の表面上での滴下位置としては、ディスク中央に空いたディスク固定用の穴の縁から外周までの間のセンタ付近が採用される。本実施形態におけるこのような滴下量、滴下径、滴下位置は、いずれも、上記のシーク動作で発生する傷を観察しやすい値となっている。
【００２８】
ステップＳ１０２の処理では、上記の滴下に続いて、その滴下された懸濁液１００の乾燥が行われる。本実施形態では、この乾燥が、懸濁液１００滴下後のサンプルの磁気ディスク２００に対する１〜５ｍｉｎの間の自然乾燥によって行われる。このような自然乾燥によって、懸濁液１００のフッ素系溶剤１２０が揮発し、サンプルの磁気ディスク２００の表面にパーティクル１００が残されることとなる。
【００２９】
以上に説明したステップＳ１０１からステップＳ１０２までの処理が、上述の基本形態における粒付着過程の一例に相当する。また、サンプルの磁気ディスク２００が、この基本形態における記憶媒体の一例に相当する。また、図１の懸濁液１００が、この基本形態における懸濁液の一例に相当する。また、図１のパーティクル１１０が、この基本形態における粒の一例に相当する。また、図１のフッ素系溶剤１２０が、この基本形態における被分散液の一例に相当する。
【００３０】
ここで、本実施形態では、図１のステップＳ１０１の処理で、上述したように上記の懸濁液１００の材料として２０ｍＮ／ｍ以下の表面張力を有するフッ素系溶剤１２０が使われている。この表面張力は、７３ｍＮ／ｍという水の表面張力よりも低い。水は、このような高い表面張力に起因して乾燥時に乾燥シミを残してしまうことが知られている。本実施形態では、このような水の表面張力よりも低い表面張力を有するフッ素系溶剤１２０を用いることで乾燥シミの発生が回避されている。
【００３１】
このことは、上述の基本形態に対し、上記被分散液が、水の表面張力よりも低い表面張力を有するものであるという応用形態が好適であることを意味している。
【００３２】
図１のフッ素系溶剤１２０は、この応用形態における被分散液の一例にも相当している。
【００３３】
また、本実施形態では、上記のフッ素系溶剤１２０として、上述したようにサンプルの磁気ディスク２００の潤滑剤を溶融しないものが使われる。これにより、上記のように滴下された懸濁液１００中に潤滑剤が溶け出してしまうことが回避されている。
【００３４】
このことは、上述の基本形態に対し、以下に説明する応用形態が好適であることを意味している。この応用形態では、上記記憶媒体が、表面に潤滑剤が塗布されているものとなっている。さらに、上記被分散液は、その被分散液に対して上記潤滑剤が非溶融性を有するものとなっている。
【００３５】
図１のフッ素系溶剤１２０は、この応用形態における被分散液の一例にも相当している。
【００３６】
ここまでに説明した処理に続いて、図１の耐久性評価処理では、サンプルの磁気ディスク２００の表面上にパーティクル１１０が所望の付着状態で付着したことが付着箇所の観察により確認される（ステップＳ１０３）。
【００３７】
本実施形態では、付着箇所の観察が、図１に模式的に示す高輝度顕微鏡４００を使って行われる。この高輝度顕微鏡４００は、観察対象物が載置されるステージ４１０と、観察視野を照らす高輝度の光源４２０と、観察視野を撮影するカメラ４３０と、撮影された画像を表示するモニタ４４０とを備えている。
【００３８】
ステップＳ１０３の処理では、パーティクル１１０が付着したサンプルの磁気ディスク２００がステージ４１０に載置される。そして、パーティクル１１０が付着した箇所が視野に捉えられるように、カメラ４３０の位置および向きが調整される。そして、そのカメラ４３０で撮影されたその箇所の画像が、所望の倍率で拡大されてモニタ４４０に表示される。
【００３９】
そして、このステップＳ１０３の処理では、パーティクル１１０が付着した箇所におけるそのパーティクル１１０の付着位置や付着密度や付着量等の付着状態が、次のような所望の付着状態となっているか否かが目視により判断される。即ち、パーティクル１１０が、上述の滴下径の範囲内に、ほぼ均一な付着密度および十分な付着量で付着しているか否かが判断される。パーティクル１１０の付着状態がこのような付着状態になっていないと判断された場合には、その付着されたパーティクル１１０が除去され、上記のステップＳ１０１からステップＳ１０２までの処理が再度行われる。本実施形態では、これらの処理が、このステップＳ１０３で、パーティクル１１０が所望の付着状態で付着したことが確認されるまで繰り返される。
【００４０】
本実施形態では、上記のようなパーティクル１１０の付着状態を、懸濁液１００の濃度や、攪拌からマイクロピペット３００での吸引までの時間間隔や、懸濁液１００の滴下位置等によって容易にコントロールすることができる。そして、本実施形態では、このようなパーティクル１１０の付着状態についてのコントロールと上記の確認とにより所望の付着状態を確実に作り出すことができる。
【００４１】
このことは、上記の基本形態に対し、以下に説明する応用形態が好適であることを意味している。
【００４２】
この応用形態は、上記粒付着過程を経た上記記憶媒体の表面上での上記粒の付着状態が、所定条件を満たしているか否かを判定する付着判定過程を有している。そして、この応用形態では、上記粒付着過程は、上記付着判定過程で上記付着状態が上記所定条件を満たしていると判定されるまでやり直される過程となっている。
【００４３】
本実施形態におけるステップＳ１０３の処理が、この応用形態における付着判定過程の一例に相当する。また、本実施形態におけるステップＳ１０１からステップＳ１０２までの処理は、この応用形態における粒付着過程の一例にも相当している。
【００４４】
図１の耐久性評価処理では、ステップＳ１０３の処理で、パーティクル１１０が所望の付着状態で付着したことが確認されるとステップＳ１０４の処理に進む。
【００４５】
このステップＳ１０４の処理では、パーティクル１１０の付着状態が確認されたサンプルの磁気ディスク２００に対するシーク動作が行なわれる。本実施形態では、このシーク動作が、図１に模式的に示すテスタ５００を使って行われる。
【００４６】
このステップＳ１０４の処理が、上述の基本形態における動作過程の一例に相当する。
【００４７】
このテスタ５００は、回転軸５１１を中心に磁気ディスクを回転駆動するスピンスタンド５１０と、先端に評価用ヘッドスライダ５２０を搭載したアーム５３０と、そのアーム５３０を動かして評価用ヘッドスライダ５２０にシーク動作をさせるキャリッジ５４０とを備えている。ここで、評価用ヘッドスライダ５２０は、上述したように、量産される評価対象の磁気ディスクが搭載される、例えばＨＤＤ等といった装置で使われるヘッドスライダと同等なものである。
【００４８】
この評価用ヘッドスライダ５２０が、上述の基本形態にいう「物体を模した試験物」の一例に相当する。
【００４９】
本実施形態では、このような評価用ヘッドスライダ５２０を用いることで、この磁気ディスク２００対して実際のヘッドスライダが与える負荷に近い負荷で耐久性を評価することができる。
【００５０】
このことは、上記の基本形態に対し、上記物体が、上記記憶媒体に対し情報記憶及び／又は情報再生を実行するヘッドを搭載したスライダであるという応用形態が好適であることを意味している。
【００５１】
本実施形態の評価用ヘッドスライダ５２０が模している実際のヘッドスライダが、この応用形態における物体の一例に相当している。
【００５２】
ステップＳ１０４の処理では、パーティクル１１０の付着状態が確認されたサンプルの磁気ディスク２００がスピンスタンド５１０に搭載されて回転駆動される。このときの回転速度は、評価対象の磁気ディスクが搭載される、例えばＨＤＤ等といった装置での磁気ディスクの回転速度と同じである。
【００５３】
そして、パーティクル１１０の付着箇所を横断するシーク範囲で、評価用ヘッドスライダ５２０がシーク動作を行なう。また、この時のシーク動作は、３０〜６０ｓｅｃのシーク時間に亘る、周波数が２Ｈｚの往復動作である。本実施形態におけるこのようなシーク時間と、シーク動作の周波数は、いずれも、このシーク動作で発生する傷を観察しやすい値となっている。
【００５４】
本実施形態では、このスピンスタンド５１０によるサンプルの磁気ディスク２００の回転駆動と、評価用ヘッドスライダ５２０による上記のシーク動作によって、ＨＤＤ等といった実際の装置でパーティクル起因の傷が発生するときの状態に近い状態が模擬される。本実施形態では、これにより、一層実際に則した耐久性評価が可能となっている。
【００５５】
このことは、上述の基本形態に対し、以下に説明する応用形態が好適であることを意味している。
【００５６】
この応用形態では、上記記憶媒体がディスク形状を有したものとなっている。そして、上記動作過程が、まず、上記記憶媒体を、その記憶媒体の中央を回転中心として回転し、回転中の記憶媒体に対して、次の処理を実行する過程となっている。即ち、この動作過程は、この回転中の記憶媒体に対して、上記物体をその記憶媒体の中央から外周に向かって、あるいはその記憶媒体の外周から中央に向かって移動させる過程となっている。
【００５７】
図１のステップＳ１０４の処理は、この応用形態における動作過程の一例にも相当している。
【００５８】
図１の耐久性評価処理では、ステップＳ１０４の処理に続いて、このステップＳ１０４の処理でのシーク動作によってサンプルの磁気ディスク２００の表面に許容以上の多数の傷が付いたか否かが観察される（ステップＳ１０５）。このステップＳ１０５の処理が、上述の基本形態における評価過程の一例に相当する。
【００５９】
本実施形態では、このステップＳ１０５での観察が、上記のステップＳ１０３でパーティクル１１０の付着状態の観察に使われた高輝度顕微鏡４００を使って行われる。
【００６０】
ステップＳ１０３の処理では、上記のシーク動作を経たサンプルの磁気ディスク２００がステージ４１０に載置される。そして、上記のシーク範囲に対応した箇所が視野に捉えられるように、カメラ４３０の位置および向きが調整される。そして、そのカメラ４３０で撮影されたその箇所の画像が、所望の倍率で拡大されてモニタ４４０に表示される。
【００６１】
本実施形態では、この観察によって許容以上の多数の傷が付いていないことが確認された場合には、サンプルの磁気ディスク２００と同じロットで量産される磁気ディスクが十分な耐久性を有していると評価される。一方、この観察によって許容以上の多数の傷の存在が確認された場合には、このロットで量産される磁気ディスクについて、耐久性が不十分であると評価される。
【００６２】
以上に説明した図１の耐久性評価処理では、上述した懸濁液の滴下により所望の付着状態を確実に実現することができる。その結果、図１の耐久性評価処理によれば、サンプルの磁気ディスク２００を交換して、耐久性評価が繰返し行なわれたとしても、毎回の評価を、パーティクルの付着状態が互いに概ね似通った安定した条件下で行うことができる。つまり、この図１の耐久性評価処理によれば、パーティクルに起因した傷付きに対する耐久性を安定して評価することができる。
【００６３】
尚、上記では、フッ素系溶剤の一例としてＰＦＣを例示したが、懸濁液に使用するフッ素系溶剤はこれに限るものではない。このフッ素系溶剤は、例えば、ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）やハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）等であっても良い。
【００６４】
また、上記では、滴下径や滴下位置、また、シーク範囲やシーク時間について具体的な数値範囲を例示したが、本件の耐久性評価方法はこれらの数値範囲に限定されるものではない。滴下径や滴下位置、また、シーク範囲やシーク時間等については、評価対象の磁気ディスクのサイズや、磁気ディスクの搭載装置におけるアクセス状態によって適宜に決められることとなる。
【００６５】
次に、上述の実施形態に対応した実施例に基づいて本件を更に具体的に説明するが、本件は以下の実施例に何ら限定されるものではない。
【００６６】
この実施例で使用されたパーティクルやフッ素系溶剤の具体例、および、この実施例で使用された高輝度顕微鏡やテスタの具体例等を以下の表１に示す。
【００６７】
【表１】
【００６８】
この表１に示すように、この実施例では、パーティクルとして平均粒径が３μｍのアルミナのパーティクルが使われた。また、フッ素系溶剤として、この実施例では、住友３Ｍ社製のＰＦＣであるＦＣ７７が使われた。ここで、この住友３Ｍ社製のＰＦＣとしては、このＦＣ７７以外にもＰＦ５０６０も使うことができる。
【００６９】
また、この実施例では、濃度が０．００５ｗｔ％の懸濁液が作成された。
【００７０】
そして、この実施例では、攪拌の直後に懸濁液がマイクロピペットに吸引され、２μＬの滴下量で懸濁液が滴下された。また、この滴下では、滴下位置は、ディスク中心から２４ｍｍ離れた位置の近傍となっている。さらに、滴下径は、約５ｍｍとなっている。また、この実施例では、滴下後の自然乾燥が１ｍｉｎに亘って行われた。
【００７１】
また、この実施例では、パーティクル付着状態の確認が、ビジョンサイテック社製の高輝度顕微鏡であるＭｉｃｒｏ−ＭＡＸ（型番：ＶＭＸ−２１００）を使って行われた。
【００７２】
ここで、この実施例では、以上に説明したパーティクルの付着や確認が、設計や製造条件が互いに異なる２種類のロットそれぞれから複数枚ずつ抜き出されたサンプルの磁気ディスクについて行われた。
【００７３】
図２は、複数のサンプルの磁気ディスクについて高輝度顕微鏡で確認されたパーティクル付着状態のうちの１つを示す写真である。
【００７４】
この図２の写真では、図２中で丸で囲まれた領域Ａに、パーティクルがほぼ均一な付着密度および十分な付着量で付着している様子が写っている。そして、この実施例では、いずれのサンプルの磁気ディスクについても、パーティクルの付着後に、この図２の写真に写っている付着状態とほぼ同じ付着状態が確認された。
【００７５】
次に、この実施例では、各サンプルの磁気ディスクについて、次のシーク動作が行なわれた。この実施例では、シーク動作が、交洋製作所製のＬ／ＵＬテスタ（型番：ＫＴ７０１）を使って行われた。この装置を使って、サンプルの磁気ディスクが、評価対象の磁気ディスクが搭載される装置での磁気ディスクの回転速度と同じ回転速度で回転駆動された。そして、ディスク中心からの距離が２０ｍｍの位置から２８ｍｍの位置まで亘るシーク範囲で、５０ｓｅｃというシーク時間に亘って、周波数が２Ｈｚの往復運動というシーク動作が行われた。
【００７６】
そして、このシーク動作の後に、上記のビジョンサイテック社製の高輝度顕微鏡であるＭｉｃｒｏ−ＭＡＸ（型番：ＶＭＸ−２１００）を使って傷の観察が行われた。
【００７７】
この観察の結果、上記の２つのロットのうち一方のロットについては傷が存在せず十分な耐久性を有しているという評価結果が得られ、他方のロットについては許容以上の多数の傷が確認され耐久性が不十分であるという評価結果が得られた。さらに、いずれのロットについても、ロットが同じサンプルの磁気ディスクどうしでは、同じ評価結果が得られた。
【００７８】
図３は、十分な耐久性を有していると評価されたロットに属するサンプルの磁気ディスクのうちの１つについてシーク後の表面を示す写真である。
【００７９】
この図３の写真から、この写真に写っているサンプルの磁気ディスクの表面には、目視できるような傷が存在せず、このサンプルの磁気ディスクがパーティクルに起因した傷付きに対する十分な耐久性を有していることが分かる。そして、このロットに属する他のサンプルの磁気ディスクについても、シーク後の表面が、この図３の写真に写っている状態とほぼ同じ状態となっていた。
【００８０】
図４は、耐久性が不十分であると評価されたロットに属するサンプルの磁気ディスクのうちの１つについてシーク後の表面を示す写真である。
【００８１】
図４の写真では、図中の帯状の領域Ｂに、多数の傷がはっきりと目視できる。このことから、この図４の写真に写っているサンプルの磁気ディスクについては、パーティクルに起因した傷付きに対する耐久性が不十分であることが分かる。そして、このロットに属する他のサンプルの磁気ディスクについても、シーク後の表面が、この図４の写真に写っている状態とほぼ同じ状態となっていた。
【００８２】
以上、実施例を参照して具体的に説明したように、図１に示す耐久性評価処理によれば、毎回の評価を、パーティクルの付着状態が互いに概ね似通った安定した条件下で行うことができる。そして、このように安定した条件下での評価により、上記のように安定した評価結果を得ることができる。つまり、図１に示す耐久性評価処理によれば、パーティクルに起因した傷付きに対する耐久性を安定して評価することができる。
【００８３】
以下、上述した基本形態を含む種々の形態に関し、更に以下の付記を開示する。
【００８４】
（付記１）
使用時に表面に物体が近接あるいは接触し該表面に沿って相対的に移動する、情報を記憶する記憶媒体の該表面上に、複数の粒が被分散液中に分散されてなる懸濁液を滴下し、その滴下された懸濁液の被分散液を揮発させることで、前記粒を前記記憶媒体の表面上に付着させる粒付着過程と、
前記粒付着過程によって前記粒が表面に付着された記憶媒体の該表面に対して、前記物体を模した試験物を近接あるいは接触させ、該試験物を該表面に対して相対的に該表面に沿って移動させることで該粒の付着箇所を横断させる動作過程と、
前記動作過程を経た記憶媒体の表面における傷の数に基づいて該記憶媒体の耐久性を評価する評価過程とを有することを特徴とする耐久性評価方法。
【００８５】
（付記２）
前記物体が、前記記憶媒体に対し情報記憶及び／又は情報再生を実行するヘッドを搭載したスライダであることを特徴とする付記１記載の耐久性評価方法。
【００８６】
（付記３）
前記粒付着過程を経た前記記憶媒体の表面上での前記粒の付着状態が、所定条件を満たしているか否かを判定する付着判定過程を有し、
前記粒付着過程は、前記付着判定過程で前記付着状態が前記所定条件を満たしていると判定されるまでやり直される過程であることを特徴とする付記１又は２記載の耐久性評価方法。
【００８７】
（付記４）
前記被分散液が、水の表面張力よりも低い表面張力を有するものであることを特徴とする付記１から３のうちいずれか１項記載の耐久性評価方法。
【００８８】
（付記５）
前記記憶媒体が、表面に潤滑剤が塗布されているものであり、
前記被分散液は、該被分散液に対して前記潤滑剤が非溶融性を有するものであることを特徴とする付記１から４のうちいずれか１項記載の耐久性評価方法。
【００８９】
（付記６）
前記記憶媒体がディスク形状を有するものであり、
前記動作過程が、前記記憶媒体を、該記憶媒体の中央を回転中心として回転し、回転中の記憶媒体に対して、前記物体を該記憶媒体の中央から外周に向かって、あるいは該記憶媒体の外周から中央に向かって移動させる過程であることを特徴とする付記１から５のうちいずれか１項記載の耐久性評価方法。
【符号の説明】
【００９０】
１００ 懸濁液
１１０ パーティクル
１２０ フッ素系溶剤
２００ サンプルの磁気ディスク
３００ マイクロピペット
４００ 高輝度顕微鏡
４１０ ステージ
４２０ 光源
４３０ カメラ
４４０ モニタ
５００ テスタ
５１０ スピンスタンド
５１１ 回転軸
５２０ 評価用ヘッドスライダ
５３０ アーム
５４０ キャリッジ
【技術分野】
【０００１】
本件は、磁気ディスク等の記憶媒体について、表面に付着したパーティクルに起因する傷付きに対する耐久性を評価する耐久性評価方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、磁気ディスク等の記憶媒体に対する耐久性評価としては、例えば、ハードディスク装置（ＨＤＤ）でのヘッドによる規格回数分のアクセス動作に、記憶媒体が傷付くことなく耐えられるか否かを評価する信頼性評価が挙げられる。この信頼性評価では、コンタクトスタートストップ（ＣＳＳ）方式でのアクセス動作に対する信頼性評価や、ロード／アンロード（Ｌ／ＵＬ）方式でのアクセス動作に対する信頼性評価が行なわれる。また、記憶媒体に対する耐久性評価としては、次のような摺動評価も挙げられる。この摺動評価では、ヘッドが搭載されるスライダの構成材料として使われることが多いＡｌ−ＴｉＣで形成された摺動ピンや実際のヘッドスライダそのものでの規格時間に亘る摺動に記憶媒体が傷付くことなく耐えられるか否かが評価される。これらの耐久性評価では、ヘッドが記憶媒体に繰返し接触した場合や、ヘッドが記憶媒体に接触し続けた場合に、記憶媒体が許容以上に傷付くか否か等が評価される。
【０００３】
ここで、ＨＤＤ等の実際の装置では、このような接触の他にも、装置内に存在する粉塵等に起因して記憶媒体が傷付いてしまうことがある。そこで、このような粉塵等を模擬した固体粒であるパーティクルを分散した雰囲気中で、記憶媒体に対するアクセス動作を行なって記憶媒体が傷付くか否かを評価する方法が提案されている（例えば、特許文献１および特許文献２参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平２−１８１６３０号公報
【特許文献２】特開平７−１２０３７７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、パーティクル雰囲気中でのアクセス動作による耐久性評価では、記憶媒体に対するパーティクルの付着密度や付着位置が、評価の度に変わってしまうおそれがある。また、このような耐久性評価が繰り返し実行されると、ある記憶媒体が傷付いたときに生じた微小な破片が、新たなパーティクルとして雰囲気に追加されるという現象が起きることがある。その結果、後で実行される耐久性評価ほど、記憶媒体に対する負荷が大きくなるという問題が生じてしまう。
【０００６】
本件は上記問題点を解決し、パーティクルに起因した傷付きに対する耐久性を安定して評価することができる耐久性評価方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成する耐久性評価方法の基本形態は、以下に説明する粒付着過程と動作過程と評価過程とを有する形態となっている。
【０００８】
粒付着過程は、使用時に表面に物体が近接あるいは接触しその表面に沿って相対的に移動する、情報を記憶する記憶媒体のその表面上に、次のように粒を付着させる過程である。この粒付着過程は、上記表面上に、複数の粒が被分散液中に分散されてなる懸濁液を滴下し、その滴下された懸濁液の被分散液を揮発させることで、上記粒を上記記憶媒体の表面上に付着させる過程となっている。
【０００９】
動作過程は、上記粒付着過程によって上記粒が表面に付着された記憶媒体のその表面に対して、以下の処理を実行する過程である。即ち、この動作過程は、その表面に、上記物体を模した試験物を近接あるいは接触させ、その試験物をその表面に対して相対的にその表面に沿って移動させることでその粒の付着箇所を横断させる過程となっている。
【００１０】
評価過程は、上記動作過程を経た記憶媒体の表面における傷の数に基づいてその記憶媒体の耐久性を評価する過程である。
【発明の効果】
【００１１】
本件の耐久性評価方法によれば、パーティクルに起因した傷付きに対する耐久性を安定して評価することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、基本形態について説明した耐久性評価方法の具体的な実施形態を示す工程図である。
【図２】複数のサンプルの磁気ディスクについて高輝度顕微鏡で確認されたパーティクル付着状態のうちの１つを示す写真である。
【図３】十分な耐久性を有していると評価されたロットに属するサンプルの磁気ディスクのうちの１つについてシーク後の表面を示す写真である。
【図４】耐久性が不十分であると評価されたロットに属するサンプルの磁気ディスクのうちの１つについてシーク後の表面を示す写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、上記に基本形態について説明した耐久性評価方法の具体的な実施形態について、図面を参照して説明する。
【００１４】
図１は、基本形態について説明した耐久性評価方法の具体的な実施形態である耐久性評価処理を示す工程図である。
【００１５】
この具体的な実施形態の耐久性評価処理は、ロット単位で量産される磁気ディスクの中からロット毎に抜き取られたサンプルの磁気ディスクに対して実行される。これにより、各ロットの磁気ディスクを評価対象とした耐久性評価が行われる。
【００１６】
また、本実施形態と異なり、このようなサンプルの抜き取りと耐久性評価処理は、新規に設計された磁気ディスクの量産が開始されたときや、製造条件が変更されたとき等といったタイミングで実行されても良い。
【００１７】
この図１の工程図が示す耐久性評価処理は、概略、次のような処理となっている。即ち、この耐久性評価処理では、評価対象の磁気ディスクが搭載されるＨＤＤ等の装置で使われるヘッドと同等な評価用ヘッドによる、パーティクル付着済みのサンプルの磁気ディスク上でのシーク動作が行なわれる。そして、そのシーク動作によってサンプルの磁気ディスクの表面に許容以上に多数の傷が付いたか否かを判定することで耐久性が評価される。
【００１８】
この耐久性評価処理では、まず、複数のパーティクル１１０をフッ素系溶剤１２０中に分散させて懸濁液１００を作成する（ステップＳ１０１）。
【００１９】
本実施形態では、後述するように、サンプルの磁気ディスクの表面への懸濁液１００の滴下と乾燥によって、その磁気ディスクの表面上にパーティクル１１０が付けられる。
【００２０】
このステップＳ１０１の処理では、懸濁液１００の材料として、アルミナあるいはカーボンのパーティクル１００が使われる。特に、アルミナのパーティクルは、一般的な研磨剤として利用されており入手性が良いことから好ましい。さらに、本実施形態では、このパーティクル１００として、平均粒径が３μｍ以下のものが使われる。粒径が３μｍを超えるパーティクルは、上記のシーク動作の際に評価用ヘッドに弾かれるおそれがあるためである。
【００２１】
また、上記のステップＳ１０１の処理では、懸濁液１００の材料として、表面張力が２０ｍＮ／ｍ以下で、蒸発熱が１００ＫＪ／Ｋｇ以下のフッ素系溶剤１２０が使われる。表面張力がこの範囲のものが使われる理由は、表面張力が２０ｍＮ／ｍを超えると、サンプルの磁気ディスクの表面上に滴下された懸濁液１００が乾燥されたときに、その表面上に乾燥シミが残るおそれがあるためである。また、蒸発熱が上記の範囲のものが使われる理由は、蒸発熱が１００ＫＪ／Ｋｇを超えると、上記の乾燥時に結露が生じるおそれがあるためである。
【００２２】
ここで、この耐久性評価処理の評価対象の磁気ディスク、即ち、上記のサンプルの磁気ディスク２００が属するロットで量産される磁気ディスクは、ＨＤＤ搭載用の一般的な磁気ディスクと同様に、表面に潤滑剤が塗布されたものである。フッ素系溶剤の中には、このような潤滑剤を溶融してしまうものがある。そこで、上記のステップＳ１０１の処理では、懸濁液１００の材料として、フッ素系溶剤の中でも、特に、サンプルの磁気ディスク２００の潤滑剤を溶融しないものが使われる。
【００２３】
以上のような条件を満足するフッ素系溶剤の一例として、パーフルオロカーボン（ＰＦＣ）等が挙げられる。
【００２４】
そして、このステップＳ１０１の処理では、複数のパーティクル１１０が、フッ素系溶剤１２０に、０．００２〜０．０１ｗｔ％の範囲内の濃度で混入され攪拌されることで懸濁液１００が作成される。この濃度範囲に対応した懸濁液１００によれば、上記のシーク動作で傷が発生したときに、その傷を観察しやすいためである。
【００２５】
このステップＳ１０１の処理に続いて、サンプルの磁気ディスク２００の表面への懸濁液１００の滴下と乾燥が行われる（ステップＳ１０２）。
【００２６】
このステップＳ１０２の処理では、始めに、マイクロピペット３００を使った懸濁液１００の滴下が行われる。
【００２７】
この滴下では、まず、上記のように作成された懸濁液１００の一部がマイクロピペット３００で吸引される。本実施形態では、この吸引は、上記のステップＳ１０１の処理における攪拌の直後で、フッ素系溶剤１２０中にパーティクル１１０が均一に分散している状態のときに行われる。そして、この吸引に続いて、マイクロピペット３００から、サンプルの磁気ディスク２００の表面に、１〜５μＬの滴下量で懸濁液１００が滴下される。この滴下量は、滴下後に表面上に広がる懸濁液１００の径（滴下径）が３〜１０ｍｍとなる量である。また、本実施形態では、サンプルの磁気ディスク２００の表面上での滴下位置としては、ディスク中央に空いたディスク固定用の穴の縁から外周までの間のセンタ付近が採用される。本実施形態におけるこのような滴下量、滴下径、滴下位置は、いずれも、上記のシーク動作で発生する傷を観察しやすい値となっている。
【００２８】
ステップＳ１０２の処理では、上記の滴下に続いて、その滴下された懸濁液１００の乾燥が行われる。本実施形態では、この乾燥が、懸濁液１００滴下後のサンプルの磁気ディスク２００に対する１〜５ｍｉｎの間の自然乾燥によって行われる。このような自然乾燥によって、懸濁液１００のフッ素系溶剤１２０が揮発し、サンプルの磁気ディスク２００の表面にパーティクル１００が残されることとなる。
【００２９】
以上に説明したステップＳ１０１からステップＳ１０２までの処理が、上述の基本形態における粒付着過程の一例に相当する。また、サンプルの磁気ディスク２００が、この基本形態における記憶媒体の一例に相当する。また、図１の懸濁液１００が、この基本形態における懸濁液の一例に相当する。また、図１のパーティクル１１０が、この基本形態における粒の一例に相当する。また、図１のフッ素系溶剤１２０が、この基本形態における被分散液の一例に相当する。
【００３０】
ここで、本実施形態では、図１のステップＳ１０１の処理で、上述したように上記の懸濁液１００の材料として２０ｍＮ／ｍ以下の表面張力を有するフッ素系溶剤１２０が使われている。この表面張力は、７３ｍＮ／ｍという水の表面張力よりも低い。水は、このような高い表面張力に起因して乾燥時に乾燥シミを残してしまうことが知られている。本実施形態では、このような水の表面張力よりも低い表面張力を有するフッ素系溶剤１２０を用いることで乾燥シミの発生が回避されている。
【００３１】
このことは、上述の基本形態に対し、上記被分散液が、水の表面張力よりも低い表面張力を有するものであるという応用形態が好適であることを意味している。
【００３２】
図１のフッ素系溶剤１２０は、この応用形態における被分散液の一例にも相当している。
【００３３】
また、本実施形態では、上記のフッ素系溶剤１２０として、上述したようにサンプルの磁気ディスク２００の潤滑剤を溶融しないものが使われる。これにより、上記のように滴下された懸濁液１００中に潤滑剤が溶け出してしまうことが回避されている。
【００３４】
このことは、上述の基本形態に対し、以下に説明する応用形態が好適であることを意味している。この応用形態では、上記記憶媒体が、表面に潤滑剤が塗布されているものとなっている。さらに、上記被分散液は、その被分散液に対して上記潤滑剤が非溶融性を有するものとなっている。
【００３５】
図１のフッ素系溶剤１２０は、この応用形態における被分散液の一例にも相当している。
【００３６】
ここまでに説明した処理に続いて、図１の耐久性評価処理では、サンプルの磁気ディスク２００の表面上にパーティクル１１０が所望の付着状態で付着したことが付着箇所の観察により確認される（ステップＳ１０３）。
【００３７】
本実施形態では、付着箇所の観察が、図１に模式的に示す高輝度顕微鏡４００を使って行われる。この高輝度顕微鏡４００は、観察対象物が載置されるステージ４１０と、観察視野を照らす高輝度の光源４２０と、観察視野を撮影するカメラ４３０と、撮影された画像を表示するモニタ４４０とを備えている。
【００３８】
ステップＳ１０３の処理では、パーティクル１１０が付着したサンプルの磁気ディスク２００がステージ４１０に載置される。そして、パーティクル１１０が付着した箇所が視野に捉えられるように、カメラ４３０の位置および向きが調整される。そして、そのカメラ４３０で撮影されたその箇所の画像が、所望の倍率で拡大されてモニタ４４０に表示される。
【００３９】
そして、このステップＳ１０３の処理では、パーティクル１１０が付着した箇所におけるそのパーティクル１１０の付着位置や付着密度や付着量等の付着状態が、次のような所望の付着状態となっているか否かが目視により判断される。即ち、パーティクル１１０が、上述の滴下径の範囲内に、ほぼ均一な付着密度および十分な付着量で付着しているか否かが判断される。パーティクル１１０の付着状態がこのような付着状態になっていないと判断された場合には、その付着されたパーティクル１１０が除去され、上記のステップＳ１０１からステップＳ１０２までの処理が再度行われる。本実施形態では、これらの処理が、このステップＳ１０３で、パーティクル１１０が所望の付着状態で付着したことが確認されるまで繰り返される。
【００４０】
本実施形態では、上記のようなパーティクル１１０の付着状態を、懸濁液１００の濃度や、攪拌からマイクロピペット３００での吸引までの時間間隔や、懸濁液１００の滴下位置等によって容易にコントロールすることができる。そして、本実施形態では、このようなパーティクル１１０の付着状態についてのコントロールと上記の確認とにより所望の付着状態を確実に作り出すことができる。
【００４１】
このことは、上記の基本形態に対し、以下に説明する応用形態が好適であることを意味している。
【００４２】
この応用形態は、上記粒付着過程を経た上記記憶媒体の表面上での上記粒の付着状態が、所定条件を満たしているか否かを判定する付着判定過程を有している。そして、この応用形態では、上記粒付着過程は、上記付着判定過程で上記付着状態が上記所定条件を満たしていると判定されるまでやり直される過程となっている。
【００４３】
本実施形態におけるステップＳ１０３の処理が、この応用形態における付着判定過程の一例に相当する。また、本実施形態におけるステップＳ１０１からステップＳ１０２までの処理は、この応用形態における粒付着過程の一例にも相当している。
【００４４】
図１の耐久性評価処理では、ステップＳ１０３の処理で、パーティクル１１０が所望の付着状態で付着したことが確認されるとステップＳ１０４の処理に進む。
【００４５】
このステップＳ１０４の処理では、パーティクル１１０の付着状態が確認されたサンプルの磁気ディスク２００に対するシーク動作が行なわれる。本実施形態では、このシーク動作が、図１に模式的に示すテスタ５００を使って行われる。
【００４６】
このステップＳ１０４の処理が、上述の基本形態における動作過程の一例に相当する。
【００４７】
このテスタ５００は、回転軸５１１を中心に磁気ディスクを回転駆動するスピンスタンド５１０と、先端に評価用ヘッドスライダ５２０を搭載したアーム５３０と、そのアーム５３０を動かして評価用ヘッドスライダ５２０にシーク動作をさせるキャリッジ５４０とを備えている。ここで、評価用ヘッドスライダ５２０は、上述したように、量産される評価対象の磁気ディスクが搭載される、例えばＨＤＤ等といった装置で使われるヘッドスライダと同等なものである。
【００４８】
この評価用ヘッドスライダ５２０が、上述の基本形態にいう「物体を模した試験物」の一例に相当する。
【００４９】
本実施形態では、このような評価用ヘッドスライダ５２０を用いることで、この磁気ディスク２００対して実際のヘッドスライダが与える負荷に近い負荷で耐久性を評価することができる。
【００５０】
このことは、上記の基本形態に対し、上記物体が、上記記憶媒体に対し情報記憶及び／又は情報再生を実行するヘッドを搭載したスライダであるという応用形態が好適であることを意味している。
【００５１】
本実施形態の評価用ヘッドスライダ５２０が模している実際のヘッドスライダが、この応用形態における物体の一例に相当している。
【００５２】
ステップＳ１０４の処理では、パーティクル１１０の付着状態が確認されたサンプルの磁気ディスク２００がスピンスタンド５１０に搭載されて回転駆動される。このときの回転速度は、評価対象の磁気ディスクが搭載される、例えばＨＤＤ等といった装置での磁気ディスクの回転速度と同じである。
【００５３】
そして、パーティクル１１０の付着箇所を横断するシーク範囲で、評価用ヘッドスライダ５２０がシーク動作を行なう。また、この時のシーク動作は、３０〜６０ｓｅｃのシーク時間に亘る、周波数が２Ｈｚの往復動作である。本実施形態におけるこのようなシーク時間と、シーク動作の周波数は、いずれも、このシーク動作で発生する傷を観察しやすい値となっている。
【００５４】
本実施形態では、このスピンスタンド５１０によるサンプルの磁気ディスク２００の回転駆動と、評価用ヘッドスライダ５２０による上記のシーク動作によって、ＨＤＤ等といった実際の装置でパーティクル起因の傷が発生するときの状態に近い状態が模擬される。本実施形態では、これにより、一層実際に則した耐久性評価が可能となっている。
【００５５】
このことは、上述の基本形態に対し、以下に説明する応用形態が好適であることを意味している。
【００５６】
この応用形態では、上記記憶媒体がディスク形状を有したものとなっている。そして、上記動作過程が、まず、上記記憶媒体を、その記憶媒体の中央を回転中心として回転し、回転中の記憶媒体に対して、次の処理を実行する過程となっている。即ち、この動作過程は、この回転中の記憶媒体に対して、上記物体をその記憶媒体の中央から外周に向かって、あるいはその記憶媒体の外周から中央に向かって移動させる過程となっている。
【００５７】
図１のステップＳ１０４の処理は、この応用形態における動作過程の一例にも相当している。
【００５８】
図１の耐久性評価処理では、ステップＳ１０４の処理に続いて、このステップＳ１０４の処理でのシーク動作によってサンプルの磁気ディスク２００の表面に許容以上の多数の傷が付いたか否かが観察される（ステップＳ１０５）。このステップＳ１０５の処理が、上述の基本形態における評価過程の一例に相当する。
【００５９】
本実施形態では、このステップＳ１０５での観察が、上記のステップＳ１０３でパーティクル１１０の付着状態の観察に使われた高輝度顕微鏡４００を使って行われる。
【００６０】
ステップＳ１０３の処理では、上記のシーク動作を経たサンプルの磁気ディスク２００がステージ４１０に載置される。そして、上記のシーク範囲に対応した箇所が視野に捉えられるように、カメラ４３０の位置および向きが調整される。そして、そのカメラ４３０で撮影されたその箇所の画像が、所望の倍率で拡大されてモニタ４４０に表示される。
【００６１】
本実施形態では、この観察によって許容以上の多数の傷が付いていないことが確認された場合には、サンプルの磁気ディスク２００と同じロットで量産される磁気ディスクが十分な耐久性を有していると評価される。一方、この観察によって許容以上の多数の傷の存在が確認された場合には、このロットで量産される磁気ディスクについて、耐久性が不十分であると評価される。
【００６２】
以上に説明した図１の耐久性評価処理では、上述した懸濁液の滴下により所望の付着状態を確実に実現することができる。その結果、図１の耐久性評価処理によれば、サンプルの磁気ディスク２００を交換して、耐久性評価が繰返し行なわれたとしても、毎回の評価を、パーティクルの付着状態が互いに概ね似通った安定した条件下で行うことができる。つまり、この図１の耐久性評価処理によれば、パーティクルに起因した傷付きに対する耐久性を安定して評価することができる。
【００６３】
尚、上記では、フッ素系溶剤の一例としてＰＦＣを例示したが、懸濁液に使用するフッ素系溶剤はこれに限るものではない。このフッ素系溶剤は、例えば、ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）やハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）等であっても良い。
【００６４】
また、上記では、滴下径や滴下位置、また、シーク範囲やシーク時間について具体的な数値範囲を例示したが、本件の耐久性評価方法はこれらの数値範囲に限定されるものではない。滴下径や滴下位置、また、シーク範囲やシーク時間等については、評価対象の磁気ディスクのサイズや、磁気ディスクの搭載装置におけるアクセス状態によって適宜に決められることとなる。
【００６５】
次に、上述の実施形態に対応した実施例に基づいて本件を更に具体的に説明するが、本件は以下の実施例に何ら限定されるものではない。
【００６６】
この実施例で使用されたパーティクルやフッ素系溶剤の具体例、および、この実施例で使用された高輝度顕微鏡やテスタの具体例等を以下の表１に示す。
【００６７】
【表１】
【００６８】
この表１に示すように、この実施例では、パーティクルとして平均粒径が３μｍのアルミナのパーティクルが使われた。また、フッ素系溶剤として、この実施例では、住友３Ｍ社製のＰＦＣであるＦＣ７７が使われた。ここで、この住友３Ｍ社製のＰＦＣとしては、このＦＣ７７以外にもＰＦ５０６０も使うことができる。
【００６９】
また、この実施例では、濃度が０．００５ｗｔ％の懸濁液が作成された。
【００７０】
そして、この実施例では、攪拌の直後に懸濁液がマイクロピペットに吸引され、２μＬの滴下量で懸濁液が滴下された。また、この滴下では、滴下位置は、ディスク中心から２４ｍｍ離れた位置の近傍となっている。さらに、滴下径は、約５ｍｍとなっている。また、この実施例では、滴下後の自然乾燥が１ｍｉｎに亘って行われた。
【００７１】
また、この実施例では、パーティクル付着状態の確認が、ビジョンサイテック社製の高輝度顕微鏡であるＭｉｃｒｏ−ＭＡＸ（型番：ＶＭＸ−２１００）を使って行われた。
【００７２】
ここで、この実施例では、以上に説明したパーティクルの付着や確認が、設計や製造条件が互いに異なる２種類のロットそれぞれから複数枚ずつ抜き出されたサンプルの磁気ディスクについて行われた。
【００７３】
図２は、複数のサンプルの磁気ディスクについて高輝度顕微鏡で確認されたパーティクル付着状態のうちの１つを示す写真である。
【００７４】
この図２の写真では、図２中で丸で囲まれた領域Ａに、パーティクルがほぼ均一な付着密度および十分な付着量で付着している様子が写っている。そして、この実施例では、いずれのサンプルの磁気ディスクについても、パーティクルの付着後に、この図２の写真に写っている付着状態とほぼ同じ付着状態が確認された。
【００７５】
次に、この実施例では、各サンプルの磁気ディスクについて、次のシーク動作が行なわれた。この実施例では、シーク動作が、交洋製作所製のＬ／ＵＬテスタ（型番：ＫＴ７０１）を使って行われた。この装置を使って、サンプルの磁気ディスクが、評価対象の磁気ディスクが搭載される装置での磁気ディスクの回転速度と同じ回転速度で回転駆動された。そして、ディスク中心からの距離が２０ｍｍの位置から２８ｍｍの位置まで亘るシーク範囲で、５０ｓｅｃというシーク時間に亘って、周波数が２Ｈｚの往復運動というシーク動作が行われた。
【００７６】
そして、このシーク動作の後に、上記のビジョンサイテック社製の高輝度顕微鏡であるＭｉｃｒｏ−ＭＡＸ（型番：ＶＭＸ−２１００）を使って傷の観察が行われた。
【００７７】
この観察の結果、上記の２つのロットのうち一方のロットについては傷が存在せず十分な耐久性を有しているという評価結果が得られ、他方のロットについては許容以上の多数の傷が確認され耐久性が不十分であるという評価結果が得られた。さらに、いずれのロットについても、ロットが同じサンプルの磁気ディスクどうしでは、同じ評価結果が得られた。
【００７８】
図３は、十分な耐久性を有していると評価されたロットに属するサンプルの磁気ディスクのうちの１つについてシーク後の表面を示す写真である。
【００７９】
この図３の写真から、この写真に写っているサンプルの磁気ディスクの表面には、目視できるような傷が存在せず、このサンプルの磁気ディスクがパーティクルに起因した傷付きに対する十分な耐久性を有していることが分かる。そして、このロットに属する他のサンプルの磁気ディスクについても、シーク後の表面が、この図３の写真に写っている状態とほぼ同じ状態となっていた。
【００８０】
図４は、耐久性が不十分であると評価されたロットに属するサンプルの磁気ディスクのうちの１つについてシーク後の表面を示す写真である。
【００８１】
図４の写真では、図中の帯状の領域Ｂに、多数の傷がはっきりと目視できる。このことから、この図４の写真に写っているサンプルの磁気ディスクについては、パーティクルに起因した傷付きに対する耐久性が不十分であることが分かる。そして、このロットに属する他のサンプルの磁気ディスクについても、シーク後の表面が、この図４の写真に写っている状態とほぼ同じ状態となっていた。
【００８２】
以上、実施例を参照して具体的に説明したように、図１に示す耐久性評価処理によれば、毎回の評価を、パーティクルの付着状態が互いに概ね似通った安定した条件下で行うことができる。そして、このように安定した条件下での評価により、上記のように安定した評価結果を得ることができる。つまり、図１に示す耐久性評価処理によれば、パーティクルに起因した傷付きに対する耐久性を安定して評価することができる。
【００８３】
以下、上述した基本形態を含む種々の形態に関し、更に以下の付記を開示する。
【００８４】
（付記１）
使用時に表面に物体が近接あるいは接触し該表面に沿って相対的に移動する、情報を記憶する記憶媒体の該表面上に、複数の粒が被分散液中に分散されてなる懸濁液を滴下し、その滴下された懸濁液の被分散液を揮発させることで、前記粒を前記記憶媒体の表面上に付着させる粒付着過程と、
前記粒付着過程によって前記粒が表面に付着された記憶媒体の該表面に対して、前記物体を模した試験物を近接あるいは接触させ、該試験物を該表面に対して相対的に該表面に沿って移動させることで該粒の付着箇所を横断させる動作過程と、
前記動作過程を経た記憶媒体の表面における傷の数に基づいて該記憶媒体の耐久性を評価する評価過程とを有することを特徴とする耐久性評価方法。
【００８５】
（付記２）
前記物体が、前記記憶媒体に対し情報記憶及び／又は情報再生を実行するヘッドを搭載したスライダであることを特徴とする付記１記載の耐久性評価方法。
【００８６】
（付記３）
前記粒付着過程を経た前記記憶媒体の表面上での前記粒の付着状態が、所定条件を満たしているか否かを判定する付着判定過程を有し、
前記粒付着過程は、前記付着判定過程で前記付着状態が前記所定条件を満たしていると判定されるまでやり直される過程であることを特徴とする付記１又は２記載の耐久性評価方法。
【００８７】
（付記４）
前記被分散液が、水の表面張力よりも低い表面張力を有するものであることを特徴とする付記１から３のうちいずれか１項記載の耐久性評価方法。
【００８８】
（付記５）
前記記憶媒体が、表面に潤滑剤が塗布されているものであり、
前記被分散液は、該被分散液に対して前記潤滑剤が非溶融性を有するものであることを特徴とする付記１から４のうちいずれか１項記載の耐久性評価方法。
【００８９】
（付記６）
前記記憶媒体がディスク形状を有するものであり、
前記動作過程が、前記記憶媒体を、該記憶媒体の中央を回転中心として回転し、回転中の記憶媒体に対して、前記物体を該記憶媒体の中央から外周に向かって、あるいは該記憶媒体の外周から中央に向かって移動させる過程であることを特徴とする付記１から５のうちいずれか１項記載の耐久性評価方法。
【符号の説明】
【００９０】
１００ 懸濁液
１１０ パーティクル
１２０ フッ素系溶剤
２００ サンプルの磁気ディスク
３００ マイクロピペット
４００ 高輝度顕微鏡
４１０ ステージ
４２０ 光源
４３０ カメラ
４４０ モニタ
５００ テスタ
５１０ スピンスタンド
５１１ 回転軸
５２０ 評価用ヘッドスライダ
５３０ アーム
５４０ キャリッジ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
使用時に表面に物体が近接あるいは接触し該表面に沿って相対的に移動する、情報を記憶する記憶媒体の該表面上に、複数の粒が被分散液中に分散されてなる懸濁液を滴下し、その滴下された懸濁液の被分散液を揮発させることで、前記粒を前記記憶媒体の表面上に付着させる粒付着過程と、
前記粒付着過程によって前記粒が表面に付着された記憶媒体の該表面に対して、前記物体を模した試験物を近接あるいは接触させ、該試験物を該表面に対して相対的に該表面に沿って移動させることで該粒の付着箇所を横断させる動作過程と、
前記動作過程を経た記憶媒体の表面における傷の数に基づいて該記憶媒体の耐久性を評価する評価過程とを有することを特徴とする耐久性評価方法。
【請求項２】
前記被分散液が、水の表面張力よりも低い表面張力を有するものであることを特徴とする請求項１記載の耐久性評価方法。
【請求項３】
前記記憶媒体が、表面に潤滑剤が塗布されているものであり、
前記被分散液は、該被分散液に対して前記潤滑剤が非溶融性を有するものであることを特徴とする請求項１又は２記載の耐久性評価方法。
【請求項１】
使用時に表面に物体が近接あるいは接触し該表面に沿って相対的に移動する、情報を記憶する記憶媒体の該表面上に、複数の粒が被分散液中に分散されてなる懸濁液を滴下し、その滴下された懸濁液の被分散液を揮発させることで、前記粒を前記記憶媒体の表面上に付着させる粒付着過程と、
前記粒付着過程によって前記粒が表面に付着された記憶媒体の該表面に対して、前記物体を模した試験物を近接あるいは接触させ、該試験物を該表面に対して相対的に該表面に沿って移動させることで該粒の付着箇所を横断させる動作過程と、
前記動作過程を経た記憶媒体の表面における傷の数に基づいて該記憶媒体の耐久性を評価する評価過程とを有することを特徴とする耐久性評価方法。
【請求項２】
前記被分散液が、水の表面張力よりも低い表面張力を有するものであることを特徴とする請求項１記載の耐久性評価方法。
【請求項３】
前記記憶媒体が、表面に潤滑剤が塗布されているものであり、
前記被分散液は、該被分散液に対して前記潤滑剤が非溶融性を有するものであることを特徴とする請求項１又は２記載の耐久性評価方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１０−２０３９７４（Ｐ２０１０−２０３９７４Ａ）
【公開日】平成２２年９月１６日（２０１０．９．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−５１１１３（Ｐ２００９−５１１１３）
【出願日】平成２１年３月４日（２００９．３．４）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【公開日】平成２２年９月１６日（２０１０．９．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年３月４日（２００９．３．４）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
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