自動メッキ装置
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被メッキ物に自動的にメッキを施す自動メッキ装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のメッキ装置の一例を図１８の斜視図及び図１８の縦断正面図である図１９によって説明すると、メッキ槽１の上には引っ掛け棒２，３が掛け渡してあって、引っ掛け棒３には枠状の陰極４を吊り下げている。そしてこの陰極４には、固定治具５によって被メッキ物６が取り付けられている。
【０００３】固定治具５は、メッキの種別に対応して、銅、ニッケル等で作られており、図２０に示すように被メッキ物６の上縁部と下縁部とを上下から挟持する形態のものや、図２１に示すように被メッキ物６の上縁部近傍と下縁部とを両面から挟持する形態のものがある。なお、図２０において７は、固定治具５の被メッキ物６に接しない側に取り付けられている絶縁物である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このようなメッキ装置において、被メッキ物６に対する通電は固定治具５との接触面に関係することになるが、個々の固定治具５と被メッキ物６との接触面積は極めて小さいので、その接触面積を大きくするために多くの固定治具５を使用する必要がある。したがって従来のメッキ装置においては、被メッキ物６を固定するために手間がかかり、作業工程上に問題があった。
【０００５】さらに従来のメッキ装置においては固定治具５にもメッキされ、特に図２２、図２３に示すように平面形状の被メッキ物６よりも、突起部分のある固定治具５に余剰メッキ層８が形成されてしまい、固定治具５の弾力性がなくなると共に通電性能も低下し、固定治具５は数回の使用で破棄するようになって長期使用に耐えない問題があった。本発明はこのような従来の問題を解決し、手間がかからず、部品の取換を必要としない自動メッキ装置を提供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、メッキ液を満たしたメッキ槽と、該メッキ槽内に設けられた陽極と、前記メッキ槽の外部に設けられた陰極と、前記メッキ槽の槽壁に設けられた対のスリットと、該スリットに設けられ前記メッキ液のメッキ槽外への洩れを防ぐ液密手段と、前記メッキ槽の中に設けられた区画室と、該区画室内に設けられた第２の陰極と、前記区画室の室壁に設けられた対の第２のスリットと、該第２のスリットに設けられ前記メッキ液の区画室内への侵入を防ぐ液密手段とを備え、被メッキ物が前記陰極に接しスリットを通ってメッキ槽内に入って陽極に接し、第２のスリットを通って区画室内に入り、第２の陰極接し第２のスリットを通って区画室を通過し、陽極に接しスリットを通ってメッキ槽外に出て陰極に接するようにしたことを特徴とする自動メッキ装置に係るもので、更に、陽極に揺動機構を接続したり、切り欠きを有する被メッキ物の送り機構を備えたり、メッキ槽内の下部に設けられた被メッキ物の受台と、該受台の上方に設けられ被メッキ物を通過させるスリットを有する遮蔽板と、を備えたりすることができる。かかる本発明の装置では陰極はメッキ槽の外部にあってメッキ液に浸されなくなり、被メッキ物がこの陰極に接しスリットを通ってメッキ槽内を通過するため固定治具が不要となり、手間がかからず、余剰メッキ層も形成されなくなる。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図に基づいて説明する。
【０００８】図１は、本発明の実施の形態の一例を示す横断平面図、図２は、図１の縦断正面図であって、メッキ槽９の内部にはメッキ液１０（図２参照）が満たされており、さらに複数の陽極１１がメッキ液１０に浸るようにメッキ槽９の内部に設けられている。この陽極１１は管状形で先端は封じられており、互いに向き合っている面には無数の小径孔があけられている。この孔からメッキ液が噴射される様になっている。この陽極１１はチタンなどで形成されており、陽極表面又は内層面が白金で被覆されている。その範囲はメッキ液１０に浸漬されている範囲内であればよい。
【０００９】被メッキ物１２がメッキ槽９の外部からメッキ槽９の内部に入り、複数の陽極１１の間を通って再びメッキ槽９の外部へ通過できるようにするため、メッキ槽９の槽壁には縦方向に対のスリット１３（図１参照）が設けられている。
【００１０】そしてこのスリット１３の近傍のメッキ槽９の外部には、スリット１３を通る被メッキ物１２にメッキ槽９の外部で接することができるようにした陰極１４が設けられており、メッキ槽９の内部のスリット１３の近傍には、メッキ液１０がスリット１３からメッキ槽９の外部に洩れないようにするため、ゴムローラー、弾力性のあるプラスチックローラー、密閉袋ローラー等の液密手段１５が設けられている。
【００１１】一方のスリット１３を通ってメッキ槽９の内部に入った被メッキ物１２は、リング状の回転送り機構１６によって、他方のスリット１３に向けて送られるようになっている。回転送り機構１６は被メッキ物１２の両面に接していて、図示しない原動機によって循環駆動される駆動チェーン１７から伝導チェーン１８を介して回転駆動されるようになっている。
【００１２】図２に示すように回転送り機構１６の下方には、被メッキ物１２の重量を支持する受台１９が被メッキ物１２の下縁に沿うように設けられており、受台１９の下方には、メッキ液１０を撹拌するための空気噴射管２０が受台１９と平行に設けられている。
【００１３】複数の陽極１１の上端部には、板状の揺動機構２１が接続されていて、この揺動機構２１は原動機２２によって水平に往復動し、陽極１１を揺動させてメッキ液１０を撹拌するようになっている。ただし、液の揺動だけではスルホール内の空気の除去は十分に除去されない。これは小径穴になればなる程、基板の両側から液が入り込むと穴中の空気は閉じ込められてしまい、この空気が堰のようになって穴壁の濡れも邪魔し、液侵入が妨害されメッキ処理されなくなる。
【００１４】この様な問題を防ぐために、強制的な空気除去、液流入をさせるため基板面に超音波を与える方法を採る。すなわち周波数は２０ｋＨｚ〜３０ｋＨｚの振動子としてフェライト又はニッケルを、４００ｋＨｚ〜５００ｋＨｚのジルコン酸チタン酸鉛（ＰＺＴ）を用い、超音波進行方向が基板面に当たる様に超音波発生器４０を受台１９の両側に設置している。なお図２において、２３はメッキ液供給管、２４は瀘渦装置につながっている排液管である。
【００１５】前述したメッキ槽９の外部に設けられている陰極１４としては、図３に示すように円柱状の芯金２５の外周全面に導体２６を固着したもの、図４に示すように円柱状の芯金２５の外周にリング状の導体２６を嵌め、二点鎖線で示すように芯金２５に沿ってリング状の導体２６を摺動して位置が変えられるようにしたもの、図５に示すように分割した導体２６にスプリング２７でクッション性を付与したもの、図６に示すように円柱状の芯金２５の外周にスパイラル状に導体２６を固着したもの、等を用いることができる。
【００１６】また前述した回転送り機構１６としては、図７に示すようにリング状の円周断面を半円形にしたり、図８に示すようにリング状の円周断面を鋭角にして、回転送り機構１６の被メッキ物１２に接する面積をなるべく少なくし、被メッキ物１２のメッキが均一な平滑面になるようにする。そして図９に示すように回転送り機構１６には複数の切り欠き孔２８を穿設し、回転送り機構１６の回転によってメッキ液１０が撹拌されるようにする。
【００１７】さらに前述した受台１９としては例えば塩化ビニル樹脂を使用し、図１０の（イ）に示すように被メッキ物１２を支える溝に銅箔、ニッケル箔等のメッキの種別に対応した金属箔２９を固着し、受台１９の直上には、被メッキ物１２を通過させるスリット３０を有する遮蔽板３１を設け、金属箔２９に対してメッキ液１０が直進して当たらないようにする。この（イ）のような構成では金属箔２９上を被メッキ物１２が滑り移動するが、被メッキ物１２の切断面が粗い場合、滑りが悪く、通電にも問題が生じることがある。そこで、（ロ）に示すように被メッキ物の下端をＶ型にコロで支え、その上面を導電性ベルトを回転することによって、移動をスムースにすることができる。（ハ）はＶ型の案内溝を有する導電性コロで移動をさせるものであり、同（ニ）は被メッキ物の下端を両側からＶ型で保持し、導電性コロでスムースに移動できるようにしたものである。なお図２に示すメッキ槽９内部のメッキ液１０の液面調節は調整板３９によって調節され、液面は被メッキ物１２の高さより約５０ｍｍ上に設定される。又、図２中４１は仕切板である。
【００１８】図１で説明したメッキ槽９のスリット１３，１３を結ぶ線上に位置するようにして、メッキ槽９の中にガラス繊維強化樹脂等の電気絶縁物で作った区画室３３が設けてあって、この区画室３３の壁には、メッキ槽９のスリット１３，１３と同一平面上に並ぶように、対のスリット３４が縦方向に設けられている。
【００１９】そしてスリット３４の近傍には、メッキ液１０がスリット３４を通って区画室３３の内部に侵入しないようにするために液密手段３５を設け、メッキ液１０が侵入しないようにされている区画室３３内には、スリット３４と同一平面上に並ぶように第２の陰極３６が設けられている。
【００２０】図１の区画室３３に設ける液密手段３５並びに第２の陰極３６としては、図１２ないし図１７に示す構成のものを用いることができる。
【００２１】図１２は、液密手段３５としてゴムローラー、弾力性のあるプラスチックローラー、密閉袋ローラー等を使用し、第２の陰極３６として半円形に曲げた板ばねを使用したものである。図１３は、液密手段３５として弾力のある複数のゴム板を使用し、第２の陰極３６として銅製のブラシを使用したものである。
【００２２】図１４は、液密手段３５として弾力性のある複数のゴム板を使用し、第２の陰極３６として半円形に曲げた板ばねを使用したものである。図１５は、区画室３３の中に、ガラス繊維強化樹脂等の電気絶縁物で作った内部区画室３７を設けて二重の区画室とし、スリット３４の液密手段３５としてゴムローラー、弾力性のあるプラスチックローラー、密閉袋ローラー等を使用し、内部区画室３７にもスリット３４と同一平面上に並ぶように液密手段３５を有するスリット３８を設け、内部区画室３７の中に、ばねを備えた第２の陰極３６を設けたものである。
【００２３】図１６は、弾力性のあるゴム、プラスチックの板状体を傾斜角度を持たせて対向させ、液密手段３５としてスリット３４に取り付けたものであり、図１７は弾力性のあるゴム、プラスチックの板状体を同一平面に並べて対向させ、液密手段３５としてスリット３４に取り付けたものである。
【００２４】次に、図１、図２に示す装置の作用を説明する。メッキ槽９の内部にメッキ液１０を満たし、駆動チェーン１７は図１において時計方向に循環駆動して回転送り機構１６を回転させ、陽極１１と陰極１４及び第２の陰極３６とを直流電源に接続する。
【００２５】この状態で図１の上方の陰極１４，１４の間に被メッキ物１２を差し込み、さらにこの被メッキ物１２をスリット１３、液密手段１５，１５の間を通してメッキ槽９の内部に入れていくと、被メッキ物１２は図２R>２の受台１９の上を滑りながら回転送り機構１６によって図１の下方に送られる。
【００２６】陰極１４，１４の間、スリット１３、液密手段１５，１５の間通ってメッキ槽９の内部に入れられた被メッキ物１２は、区画室３３のスリット３４を通って区画室３３の内部に入り、区画室３３の内部で第２の陰極３６に接した後、区画室３３から出て再びメッキ槽９の内部を通過し、メッキ槽９の外に出て陰極１４に接することになる。
【００２７】このため、長さの短い被メッキ物１２であっても、メッキ槽９を通過し終わるまでの間の被メッキ物１２は、陰極１４または第２の陰極３６のいずれかに接している状態になるため、短い被メッキ物１２がメッキ槽９の内部を通過している間にメッキが施されることになる。
【００２８】図１１は本発明の実施の形態の他の例を示す横断平面図であって、陽極１１が籠状になっており、その中に陽極用金属球３２を入れるようになっているほかは、図１に示す実施の形態と同様の構成になっている。
【００２９】
【発明の効果】請求項１の発明は、固定治具を用いることなく被メッキ物を陰極と同じ電位にしてメッキを通すことができるため手間がかからず、被メッキ物を通すためにメッキ槽の槽壁に設けられているスリットには液密手段が取り付けてあるため、メッキ液がメッキ槽の外部に洩れることがなく、陰極はメッキ槽の外部に設けてあるため余剰メッキ層が形成されず、メッキ槽の内部においても被メッキ物が第２の陰極にも接するため、長さの短い被メッキ物にもメッキを施すことができ、しかも第２の陰極はメッキ液の侵入しない区画室に設けてあるため、第２の陰極にも余剰メッキ層が形成されない効果がある。
【００３０】請求項２の発明は、メッキ液が陽極によって撹拌されるため、むらのないメッキを施すことができる効果がある。請求項３の発明は、回転送り機構の回転によってさらにメッキ液が撹拌されるため、極めて均一なメッキを施すことができる効果がある。
【００３１】請求項４の発明は、被メッキ物の重量は受台によって支持され、しかも受台の上方には遮蔽板があってメッキ液が直進して受台に当たらないため受台に余剰メッキ層が形成されず、メッキ槽の内部で被メッキ物を円滑に移動させることができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態の一例を示す横断平面図である。
【図２】図１の縦断正面図である。
【図３】本発明に使用する陽極の実施の形態の一例を示す斜視図である。
【図４】本発明に使用する陽極の実施の形態の他の例を示す斜視図である。
【図５】本発明に使用する陽極の実施の形態のさらに他の例を示す斜視図である。
【図６】本発明に使用する陽極の実施の形態のさらに他の例を示す斜視図である。
【図７】本発明に使用する回転送り機構の実施の形態の一例を示す正面図である。
【図８】本発明に使用する回転送り機構の実施の形態の他の例を示す正面図である。
【図９】図７、図８の横断平面図である。
【図１０】本発明に使用する被メッキ物の受台および遮蔽板の実施の形態の一例を示す縦断正面図である。
【図１１】本発明の実施の形態の他の例を示す横断平面図である。
【図１２】本発明に使用する区画室の実施の形態の一例を示す横断平面図である。
【図１３】本発明に使用する区画室の実施の形態の他の例を示す横断平面図である。
【図１４】本発明に使用する区画室の実施の形態のさらに他の例を示す横断平面図である。
【図１５】本発明に使用する区画室の実施の形態のさらに他の例を示す横断平面図である。
【図１６】本発明に使用する液密手段の一例を示す横断平面図である。
【図１７】本発明に使用する液密手段の他の例を示す横断平面図である。
【図１８】従来のメッキ装置の一例を示す斜視図である。
【図１９】図１８の縦断正面図である。
【図２０】図１９のＡ−Ａ拡大断面図である。
【図２１】図２０とは異なる例を示す図１９のＡ−Ａ拡大断面図である。
【図２２】図２０の部分拡大図である。
【図２３】図２１の部分拡大図である。
【符号の説明】
９ メッキ槽
１０ メッキ液
１１ 陽極
１２ 被メッキ物
１３ スリット
１４ 陰極
１５ 液密手段
１６ 回転送り機構
１９ 受台
２１ 揺動機構
３０ スリット
３１ 遮蔽板
３３ 区画室
３４ スリット
３５ 液密手段
３６ 第２の陰極
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被メッキ物に自動的にメッキを施す自動メッキ装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のメッキ装置の一例を図１８の斜視図及び図１８の縦断正面図である図１９によって説明すると、メッキ槽１の上には引っ掛け棒２，３が掛け渡してあって、引っ掛け棒３には枠状の陰極４を吊り下げている。そしてこの陰極４には、固定治具５によって被メッキ物６が取り付けられている。
【０００３】固定治具５は、メッキの種別に対応して、銅、ニッケル等で作られており、図２０に示すように被メッキ物６の上縁部と下縁部とを上下から挟持する形態のものや、図２１に示すように被メッキ物６の上縁部近傍と下縁部とを両面から挟持する形態のものがある。なお、図２０において７は、固定治具５の被メッキ物６に接しない側に取り付けられている絶縁物である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このようなメッキ装置において、被メッキ物６に対する通電は固定治具５との接触面に関係することになるが、個々の固定治具５と被メッキ物６との接触面積は極めて小さいので、その接触面積を大きくするために多くの固定治具５を使用する必要がある。したがって従来のメッキ装置においては、被メッキ物６を固定するために手間がかかり、作業工程上に問題があった。
【０００５】さらに従来のメッキ装置においては固定治具５にもメッキされ、特に図２２、図２３に示すように平面形状の被メッキ物６よりも、突起部分のある固定治具５に余剰メッキ層８が形成されてしまい、固定治具５の弾力性がなくなると共に通電性能も低下し、固定治具５は数回の使用で破棄するようになって長期使用に耐えない問題があった。本発明はこのような従来の問題を解決し、手間がかからず、部品の取換を必要としない自動メッキ装置を提供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、メッキ液を満たしたメッキ槽と、該メッキ槽内に設けられた陽極と、前記メッキ槽の外部に設けられた陰極と、前記メッキ槽の槽壁に設けられた対のスリットと、該スリットに設けられ前記メッキ液のメッキ槽外への洩れを防ぐ液密手段と、前記メッキ槽の中に設けられた区画室と、該区画室内に設けられた第２の陰極と、前記区画室の室壁に設けられた対の第２のスリットと、該第２のスリットに設けられ前記メッキ液の区画室内への侵入を防ぐ液密手段とを備え、被メッキ物が前記陰極に接しスリットを通ってメッキ槽内に入って陽極に接し、第２のスリットを通って区画室内に入り、第２の陰極接し第２のスリットを通って区画室を通過し、陽極に接しスリットを通ってメッキ槽外に出て陰極に接するようにしたことを特徴とする自動メッキ装置に係るもので、更に、陽極に揺動機構を接続したり、切り欠きを有する被メッキ物の送り機構を備えたり、メッキ槽内の下部に設けられた被メッキ物の受台と、該受台の上方に設けられ被メッキ物を通過させるスリットを有する遮蔽板と、を備えたりすることができる。かかる本発明の装置では陰極はメッキ槽の外部にあってメッキ液に浸されなくなり、被メッキ物がこの陰極に接しスリットを通ってメッキ槽内を通過するため固定治具が不要となり、手間がかからず、余剰メッキ層も形成されなくなる。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図に基づいて説明する。
【０００８】図１は、本発明の実施の形態の一例を示す横断平面図、図２は、図１の縦断正面図であって、メッキ槽９の内部にはメッキ液１０（図２参照）が満たされており、さらに複数の陽極１１がメッキ液１０に浸るようにメッキ槽９の内部に設けられている。この陽極１１は管状形で先端は封じられており、互いに向き合っている面には無数の小径孔があけられている。この孔からメッキ液が噴射される様になっている。この陽極１１はチタンなどで形成されており、陽極表面又は内層面が白金で被覆されている。その範囲はメッキ液１０に浸漬されている範囲内であればよい。
【０００９】被メッキ物１２がメッキ槽９の外部からメッキ槽９の内部に入り、複数の陽極１１の間を通って再びメッキ槽９の外部へ通過できるようにするため、メッキ槽９の槽壁には縦方向に対のスリット１３（図１参照）が設けられている。
【００１０】そしてこのスリット１３の近傍のメッキ槽９の外部には、スリット１３を通る被メッキ物１２にメッキ槽９の外部で接することができるようにした陰極１４が設けられており、メッキ槽９の内部のスリット１３の近傍には、メッキ液１０がスリット１３からメッキ槽９の外部に洩れないようにするため、ゴムローラー、弾力性のあるプラスチックローラー、密閉袋ローラー等の液密手段１５が設けられている。
【００１１】一方のスリット１３を通ってメッキ槽９の内部に入った被メッキ物１２は、リング状の回転送り機構１６によって、他方のスリット１３に向けて送られるようになっている。回転送り機構１６は被メッキ物１２の両面に接していて、図示しない原動機によって循環駆動される駆動チェーン１７から伝導チェーン１８を介して回転駆動されるようになっている。
【００１２】図２に示すように回転送り機構１６の下方には、被メッキ物１２の重量を支持する受台１９が被メッキ物１２の下縁に沿うように設けられており、受台１９の下方には、メッキ液１０を撹拌するための空気噴射管２０が受台１９と平行に設けられている。
【００１３】複数の陽極１１の上端部には、板状の揺動機構２１が接続されていて、この揺動機構２１は原動機２２によって水平に往復動し、陽極１１を揺動させてメッキ液１０を撹拌するようになっている。ただし、液の揺動だけではスルホール内の空気の除去は十分に除去されない。これは小径穴になればなる程、基板の両側から液が入り込むと穴中の空気は閉じ込められてしまい、この空気が堰のようになって穴壁の濡れも邪魔し、液侵入が妨害されメッキ処理されなくなる。
【００１４】この様な問題を防ぐために、強制的な空気除去、液流入をさせるため基板面に超音波を与える方法を採る。すなわち周波数は２０ｋＨｚ〜３０ｋＨｚの振動子としてフェライト又はニッケルを、４００ｋＨｚ〜５００ｋＨｚのジルコン酸チタン酸鉛（ＰＺＴ）を用い、超音波進行方向が基板面に当たる様に超音波発生器４０を受台１９の両側に設置している。なお図２において、２３はメッキ液供給管、２４は瀘渦装置につながっている排液管である。
【００１５】前述したメッキ槽９の外部に設けられている陰極１４としては、図３に示すように円柱状の芯金２５の外周全面に導体２６を固着したもの、図４に示すように円柱状の芯金２５の外周にリング状の導体２６を嵌め、二点鎖線で示すように芯金２５に沿ってリング状の導体２６を摺動して位置が変えられるようにしたもの、図５に示すように分割した導体２６にスプリング２７でクッション性を付与したもの、図６に示すように円柱状の芯金２５の外周にスパイラル状に導体２６を固着したもの、等を用いることができる。
【００１６】また前述した回転送り機構１６としては、図７に示すようにリング状の円周断面を半円形にしたり、図８に示すようにリング状の円周断面を鋭角にして、回転送り機構１６の被メッキ物１２に接する面積をなるべく少なくし、被メッキ物１２のメッキが均一な平滑面になるようにする。そして図９に示すように回転送り機構１６には複数の切り欠き孔２８を穿設し、回転送り機構１６の回転によってメッキ液１０が撹拌されるようにする。
【００１７】さらに前述した受台１９としては例えば塩化ビニル樹脂を使用し、図１０の（イ）に示すように被メッキ物１２を支える溝に銅箔、ニッケル箔等のメッキの種別に対応した金属箔２９を固着し、受台１９の直上には、被メッキ物１２を通過させるスリット３０を有する遮蔽板３１を設け、金属箔２９に対してメッキ液１０が直進して当たらないようにする。この（イ）のような構成では金属箔２９上を被メッキ物１２が滑り移動するが、被メッキ物１２の切断面が粗い場合、滑りが悪く、通電にも問題が生じることがある。そこで、（ロ）に示すように被メッキ物の下端をＶ型にコロで支え、その上面を導電性ベルトを回転することによって、移動をスムースにすることができる。（ハ）はＶ型の案内溝を有する導電性コロで移動をさせるものであり、同（ニ）は被メッキ物の下端を両側からＶ型で保持し、導電性コロでスムースに移動できるようにしたものである。なお図２に示すメッキ槽９内部のメッキ液１０の液面調節は調整板３９によって調節され、液面は被メッキ物１２の高さより約５０ｍｍ上に設定される。又、図２中４１は仕切板である。
【００１８】図１で説明したメッキ槽９のスリット１３，１３を結ぶ線上に位置するようにして、メッキ槽９の中にガラス繊維強化樹脂等の電気絶縁物で作った区画室３３が設けてあって、この区画室３３の壁には、メッキ槽９のスリット１３，１３と同一平面上に並ぶように、対のスリット３４が縦方向に設けられている。
【００１９】そしてスリット３４の近傍には、メッキ液１０がスリット３４を通って区画室３３の内部に侵入しないようにするために液密手段３５を設け、メッキ液１０が侵入しないようにされている区画室３３内には、スリット３４と同一平面上に並ぶように第２の陰極３６が設けられている。
【００２０】図１の区画室３３に設ける液密手段３５並びに第２の陰極３６としては、図１２ないし図１７に示す構成のものを用いることができる。
【００２１】図１２は、液密手段３５としてゴムローラー、弾力性のあるプラスチックローラー、密閉袋ローラー等を使用し、第２の陰極３６として半円形に曲げた板ばねを使用したものである。図１３は、液密手段３５として弾力のある複数のゴム板を使用し、第２の陰極３６として銅製のブラシを使用したものである。
【００２２】図１４は、液密手段３５として弾力性のある複数のゴム板を使用し、第２の陰極３６として半円形に曲げた板ばねを使用したものである。図１５は、区画室３３の中に、ガラス繊維強化樹脂等の電気絶縁物で作った内部区画室３７を設けて二重の区画室とし、スリット３４の液密手段３５としてゴムローラー、弾力性のあるプラスチックローラー、密閉袋ローラー等を使用し、内部区画室３７にもスリット３４と同一平面上に並ぶように液密手段３５を有するスリット３８を設け、内部区画室３７の中に、ばねを備えた第２の陰極３６を設けたものである。
【００２３】図１６は、弾力性のあるゴム、プラスチックの板状体を傾斜角度を持たせて対向させ、液密手段３５としてスリット３４に取り付けたものであり、図１７は弾力性のあるゴム、プラスチックの板状体を同一平面に並べて対向させ、液密手段３５としてスリット３４に取り付けたものである。
【００２４】次に、図１、図２に示す装置の作用を説明する。メッキ槽９の内部にメッキ液１０を満たし、駆動チェーン１７は図１において時計方向に循環駆動して回転送り機構１６を回転させ、陽極１１と陰極１４及び第２の陰極３６とを直流電源に接続する。
【００２５】この状態で図１の上方の陰極１４，１４の間に被メッキ物１２を差し込み、さらにこの被メッキ物１２をスリット１３、液密手段１５，１５の間を通してメッキ槽９の内部に入れていくと、被メッキ物１２は図２R>２の受台１９の上を滑りながら回転送り機構１６によって図１の下方に送られる。
【００２６】陰極１４，１４の間、スリット１３、液密手段１５，１５の間通ってメッキ槽９の内部に入れられた被メッキ物１２は、区画室３３のスリット３４を通って区画室３３の内部に入り、区画室３３の内部で第２の陰極３６に接した後、区画室３３から出て再びメッキ槽９の内部を通過し、メッキ槽９の外に出て陰極１４に接することになる。
【００２７】このため、長さの短い被メッキ物１２であっても、メッキ槽９を通過し終わるまでの間の被メッキ物１２は、陰極１４または第２の陰極３６のいずれかに接している状態になるため、短い被メッキ物１２がメッキ槽９の内部を通過している間にメッキが施されることになる。
【００２８】図１１は本発明の実施の形態の他の例を示す横断平面図であって、陽極１１が籠状になっており、その中に陽極用金属球３２を入れるようになっているほかは、図１に示す実施の形態と同様の構成になっている。
【００２９】
【発明の効果】請求項１の発明は、固定治具を用いることなく被メッキ物を陰極と同じ電位にしてメッキを通すことができるため手間がかからず、被メッキ物を通すためにメッキ槽の槽壁に設けられているスリットには液密手段が取り付けてあるため、メッキ液がメッキ槽の外部に洩れることがなく、陰極はメッキ槽の外部に設けてあるため余剰メッキ層が形成されず、メッキ槽の内部においても被メッキ物が第２の陰極にも接するため、長さの短い被メッキ物にもメッキを施すことができ、しかも第２の陰極はメッキ液の侵入しない区画室に設けてあるため、第２の陰極にも余剰メッキ層が形成されない効果がある。
【００３０】請求項２の発明は、メッキ液が陽極によって撹拌されるため、むらのないメッキを施すことができる効果がある。請求項３の発明は、回転送り機構の回転によってさらにメッキ液が撹拌されるため、極めて均一なメッキを施すことができる効果がある。
【００３１】請求項４の発明は、被メッキ物の重量は受台によって支持され、しかも受台の上方には遮蔽板があってメッキ液が直進して受台に当たらないため受台に余剰メッキ層が形成されず、メッキ槽の内部で被メッキ物を円滑に移動させることができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態の一例を示す横断平面図である。
【図２】図１の縦断正面図である。
【図３】本発明に使用する陽極の実施の形態の一例を示す斜視図である。
【図４】本発明に使用する陽極の実施の形態の他の例を示す斜視図である。
【図５】本発明に使用する陽極の実施の形態のさらに他の例を示す斜視図である。
【図６】本発明に使用する陽極の実施の形態のさらに他の例を示す斜視図である。
【図７】本発明に使用する回転送り機構の実施の形態の一例を示す正面図である。
【図８】本発明に使用する回転送り機構の実施の形態の他の例を示す正面図である。
【図９】図７、図８の横断平面図である。
【図１０】本発明に使用する被メッキ物の受台および遮蔽板の実施の形態の一例を示す縦断正面図である。
【図１１】本発明の実施の形態の他の例を示す横断平面図である。
【図１２】本発明に使用する区画室の実施の形態の一例を示す横断平面図である。
【図１３】本発明に使用する区画室の実施の形態の他の例を示す横断平面図である。
【図１４】本発明に使用する区画室の実施の形態のさらに他の例を示す横断平面図である。
【図１５】本発明に使用する区画室の実施の形態のさらに他の例を示す横断平面図である。
【図１６】本発明に使用する液密手段の一例を示す横断平面図である。
【図１７】本発明に使用する液密手段の他の例を示す横断平面図である。
【図１８】従来のメッキ装置の一例を示す斜視図である。
【図１９】図１８の縦断正面図である。
【図２０】図１９のＡ−Ａ拡大断面図である。
【図２１】図２０とは異なる例を示す図１９のＡ−Ａ拡大断面図である。
【図２２】図２０の部分拡大図である。
【図２３】図２１の部分拡大図である。
【符号の説明】
９ メッキ槽
１０ メッキ液
１１ 陽極
１２ 被メッキ物
１３ スリット
１４ 陰極
１５ 液密手段
１６ 回転送り機構
１９ 受台
２１ 揺動機構
３０ スリット
３１ 遮蔽板
３３ 区画室
３４ スリット
３５ 液密手段
３６ 第２の陰極
【特許請求の範囲】
【請求項１】 メッキ液を満たしたメッキ槽と、該メッキ槽内に設けられた陽極と、前記メッキ槽の外部に設けられた陰極と、前記メッキ槽の槽壁に設けられた対のスリットと、該スリットに設けられ前記メッキ液のメッキ槽外への洩れを防ぐ液密手段と、前記メッキ槽の中に設けられた区画室と、該区画室内に設けられた第２の陰極と、前記区画室の室壁に設けられた対の第２のスリットと、該第２のスリットに設けられ前記メッキ液の区画室内への侵入を防ぐ液密手段とを備え、被メッキ物が前記陰極に接しスリットを通ってメッキ槽内に入って陽極に接し、第２のスリットを通って区画室内に入り、第２の陰極接し第２のスリットを通って区画室を通過し、陽極に接しスリットを通ってメッキ槽外に出て陰極に接するようにしたことを特徴とする自動メッキ装置。
【請求項２】 陽極に揺動機構が接続されていることを特徴とする請求項１記載の自動メッキ装置。
【請求項３】 切り欠き孔を有する被メッキ物の回転送り機構を備えたことを特徴とする請求項１又は請求項２記載の自動メッキ装置。
【請求項４】 メッキ槽内の下部に設けられた被メッキ物の受台と、該受台の上方に設けられ被メッキ物を通過させるスリットを有する遮蔽板と、を備えたことを特徴とする請求項１、請求項２又は請求項３記載の自動メッキ装置。
【請求項１】 メッキ液を満たしたメッキ槽と、該メッキ槽内に設けられた陽極と、前記メッキ槽の外部に設けられた陰極と、前記メッキ槽の槽壁に設けられた対のスリットと、該スリットに設けられ前記メッキ液のメッキ槽外への洩れを防ぐ液密手段と、前記メッキ槽の中に設けられた区画室と、該区画室内に設けられた第２の陰極と、前記区画室の室壁に設けられた対の第２のスリットと、該第２のスリットに設けられ前記メッキ液の区画室内への侵入を防ぐ液密手段とを備え、被メッキ物が前記陰極に接しスリットを通ってメッキ槽内に入って陽極に接し、第２のスリットを通って区画室内に入り、第２の陰極接し第２のスリットを通って区画室を通過し、陽極に接しスリットを通ってメッキ槽外に出て陰極に接するようにしたことを特徴とする自動メッキ装置。
【請求項２】 陽極に揺動機構が接続されていることを特徴とする請求項１記載の自動メッキ装置。
【請求項３】 切り欠き孔を有する被メッキ物の回転送り機構を備えたことを特徴とする請求項１又は請求項２記載の自動メッキ装置。
【請求項４】 メッキ槽内の下部に設けられた被メッキ物の受台と、該受台の上方に設けられ被メッキ物を通過させるスリットを有する遮蔽板と、を備えたことを特徴とする請求項１、請求項２又は請求項３記載の自動メッキ装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【特許番号】特許第３０３７１７９号（Ｐ３０３７１７９）
【登録日】平成１２年２月２５日（２０００．２．２５）
【発行日】平成１２年４月２４日（２０００．４．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願平９−２２７０９
【出願日】平成９年２月５日（１９９７．２．５）
【公開番号】特開平１０−２７３７９９
【公開日】平成１０年１０月１３日（１９９８．１０．１３）
【審査請求日】平成１０年７月１４日（１９９８．７．１４）
【出願人】（３９１０６５７７０）栄電子工業株式会社 (1)
【出願人】（５９２０７４５１１）
【参考文献】
【文献】特開 平２−１８２８９５（ＪＰ，Ａ）
【登録日】平成１２年２月２５日（２０００．２．２５）
【発行日】平成１２年４月２４日（２０００．４．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成９年２月５日（１９９７．２．５）
【公開番号】特開平１０−２７３７９９
【公開日】平成１０年１０月１３日（１９９８．１０．１３）
【審査請求日】平成１０年７月１４日（１９９８．７．１４）
【出願人】（３９１０６５７７０）栄電子工業株式会社 (1)
【出願人】（５９２０７４５１１）
【参考文献】
【文献】特開 平２−１８２８９５（ＪＰ，Ａ）
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