芳香族スルホン酸塩難燃剤組成物
【課題】芳香族スルホン酸塩難燃剤組成物
【解決手段】本発明は、選択された芳香族スルホン酸の塩がポリカーボネート基材中に存在する、難燃剤組成物に関する。該組成物は、ＵＬ−９４（保険業者研究所対象９４）による望ましいＶ−０等級、並びに、光透過性などのポリカーボネートの優れた機械特性、化学特性及び熱的特性を保持しつつ関連した試験方法において他の優良格付けを獲得する。
【解決手段】本発明は、選択された芳香族スルホン酸の塩がポリカーボネート基材中に存在する、難燃剤組成物に関する。該組成物は、ＵＬ−９４（保険業者研究所対象９４）による望ましいＶ−０等級、並びに、光透過性などのポリカーボネートの優れた機械特性、化学特性及び熱的特性を保持しつつ関連した試験方法において他の優良格付けを獲得する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、選択された芳香族スルホン酸の塩とポリカーボネートを含む難燃剤組成物、並びに、ポリカーボネートと選択された芳香族スルホン酸の塩を含むポリマー基材に対して難燃性能を付与する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリカーボネートは非常に強靭で、突出した透明性、幾つかのポリマーとの優れた相溶性、そして高い加熱歪耐性を有する熱可塑性ポリマーである。ポリカーボネートは一般式
【化１】
に対応する。
【０００３】
経済的に最も重要なポリカーボネートは、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンポリカーボネート（１）であり、ビスフェノールＡポリカーボネート［２４９３６−６８−３］（ＢＰＡ−ＰＣ）とも呼ばれる。
【化２】
参照．Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓ Ｅｎｃｙｃｌｏｐａｅｄｉａ ｏｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｏｎ−Ｌｉｎｅ Ｅｄｉｔｉｏｎ、Ｗｉｅｌｙ−ＶＣＨ，ＤＯＩ：１０，１００２／１４３５６００７ ．ａ２１＿２０７，及びＰｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅを，Ｒｏｅｍｐｐ Ｏｎ−ｌｉｎｅ，ｗｗｗ．ｒｏｅｍｐｐ．ｃｏｍに入力。
【０００４】
ポリカーボネートの機械特性、化学特性及び熱的特性を改善する為の様々な添加剤が知られている。フッ化炭素末端のポリカーボネートは、有機材料の、好ましくはポリカーボネート、ポリエステル、ポリアクリレート又はポリメタクリレート、又はそれらの混合物、ブレンド又はアロイに対する、表面エネルギー低化剤、すなわち“表面改質剤”などの様々な技術的応用に対して有用である。表面エネルギーを減少させたポリマーは、例えば“洗浄容易”、“セルフクリーニング”、“耐汚れ性”、“ソイルリリース”、“耐落書き性”、“耐油性”、“耐溶剤性”、“耐薬品性”、“耐潤滑性”、“耐スクラッチ性”、“低水分吸収性”そして“疎水性”表面といった望ましい特性を備えている。特定の有用なフッ化炭素末端のポリカーボネートの製造は、国際出願ＰＣＴ／ＥＰ２００４／０５３３３１号明細書に記載されている。
【０００５】
難燃剤は、ポリマーの難燃特性を増強する為に（合成又は天然の）ポリマー材料に添加される。それらの組成によって、難燃剤は固体相、液体相、或いはガス相で作用し、化学的には、例えば窒素遊離による泡立ちとして、及び／又は物理的には、例えば泡の適用範囲を生成することによって作用する。難燃剤は、特に燃焼プロセスの段階において、例えば燃焼中、分解中、発火中又は燃焼の拡大中に妨げる。
【０００６】
難燃剤のポリカーボネートへの添加は既知である；Ｊ．Ｔｒｏｉｔｚｓｃｈ，Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｆｌａｍｍａｂｉｌｉｔｙ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，第３版，Ｈａｎｓｅｒ Ｐｕ
ｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｍｕｎｉｃｈ ２００４年，１５８−１７２頁（ＩＳＢＮ ３−４４６−２１３０８−２）参照。
【０００７】
アルカリ金属、アルカリ土類金属又はアンモニウム塩ベースの難燃剤は、低濃度で特に適する。これらの塩の中でも、過フッ素アルカンスルホネートがより好ましいものに属する。これらのポリカーボネートにおける難燃剤としての使用は既に既知である；Ｔ．Ｉｓｈｉｋａｗａら，Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｐａｒｔ Ａ−Ｐｕｒｅ ａｎｄ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ａ４１巻，５章、５２３−５３５頁、２００４年参照。
【０００８】
試料厚さが１．６ｍｍより薄いか又は同じであることが要求される用途において、ＵＬ−９４（保険業者研究所対象９４）によるＶ−０の難燃性は、ポリテトラフルオロエチレンなどの所謂アンチドリッピング剤の添加によって得られる。難燃剤の為の他の助添加剤は、例えばハロアリールホスフェート（米国特許第５，４７８，８７４号明細書参照）又はグアニジン塩（米国特許第６，５１８，３４０号公報参照）などが提案されている。異なる構造を有するポリシロキサンの添加は、様々な文献に提案されている（米国特許第６，６６０，７８７号明細書、米国特許第６，７２７，３０２号明細書、又は米国特許第６，７３０，７２０号明細書参照）。これら添加剤の問題点は、実際にはＶ−０等級に到達する為に難燃剤の濃度を増加させねばならないこという現実に見られ、それは、ポリカーボネートの機械特性、化学特性及び熱的特性に対して有害となる。
【特許文献１】国際出願ＰＣＴ／ＥＰ２００４／０５３３３１号明細書
【特許文献２】米国特許第５，４７８，８７４号明細書参照
【特許文献３】米国特許第６，５１８，３４０号公報参照
【特許文献４】米国特許第６，６６０，７８７号明細書、
【特許文献５】米国特許第６，７２７，３０２号明細書、
【特許文献６】米国特許第６，７３０，７２０号明細書参
【非特許文献１】Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓ Ｅｎｃｙｃｌｏｐａｅｄｉａ ｏｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｏｎ−Ｌｉｎｅ Ｅｄｉｔｉｏｎ、Ｗｉｅｌｙ−ＶＣＨ，ＤＯＩ：１０，１００２／１４３５６００７ ．ａ２１＿２０７，及びＰｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅを入力，Ｒｏｅｍｐｐ Ｏｎ−ｌｉｎｅ，ｗｗｗ．ｒｏｅｍｐｐ．ｃｏｍ。
【非特許文献２】Ｊ．Ｔｒｏｉｔｚｓｃｈ，Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｆｌａｍｍａｂｉｌｉｔｙ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，第３版，Ｈａｎｓｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｍｕｎｉｃｈ ２００４年，１５８−１７２頁（ＩＳＢＮ ３−４４６−２１３０８−２）
【非特許文献３】Ｔ．Ｉｓｈｉｋａｗａら，Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｐａｒｔ Ａ−Ｐｕｒｅ ａｎｄ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ａ４１巻，５章、５２３−５３５頁、２００４年
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００９】
従って、本発明は、ポリカーボネートにおける難燃剤として低濃度で適応可能な、適当な添加剤を見出すことに関する。驚くべきことに、選択された芳香族スルホン酸の塩が低濃度であっても特に適する添加剤であることが見出された。アルカリ金属、アルカリ土類金属又はアンモニウム塩ベースの難燃剤などの第一選択の難燃剤のように、選択された芳香族スルホン酸の塩はポリカーボネート中に少量で存在し、そして低投薬レベルのために、ポリマー力学及び他の特性に顕著な悪影響を与えない。
【００１０】
本発明は組成物、特に、
ａ）
ａ1）式（Ｉ）
【化３】
（式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して−ＮＨ2基、−ＮＨ−炭素原子数１乃至４のアルキル基
、−Ｎ（炭素原子数１乃至４のアルキル）2基、−ＮＨ−ヒドロキシ−炭素原子数２乃至
４のアルキル基、−Ｎ（ヒドロキシ−炭素原子数２乃至４のアルキル）2基、−Ｎ（炭素
原子数１乃至４のアルキル）（ヒドロキシ−炭素原子数２乃至４のアルキル）基、フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数１乃至４
のアルキル基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される１乃至３つの置換基によって置換されたフェニルアミノ基又はジフェニルアミノ基、又は５員又は６員の飽和Ｎ−ヘテロ環基を表し；
Ｒ1’及びＲ2’はＲ1及びＲ2として定義されたものと同様のものを表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す。）で
表されるトリアジニルアミノスチルベンジスルホン酸塩；
ａ2）式（ＩＩ）
【化４】
（式中、
Ｒ1は水素原子、炭素原子数１乃至４のアルキル基又はＳ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基を表し；
Ｒ2は水素原子又はヒドロキシ基を表し；
Ｒ3は水素原子、炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数１乃至４のアルコキシ基
又はベンジル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す。）で
表される２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾリルスルホン酸塩；
ａ3）式（ＩＩＩ）
【化５】
（式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数
１乃至４のアルキル基、フェニル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、ヒドロキシ基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される置換基を表し；
Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’は夫々互いに独立して水素原子、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数１乃至４のアルキル基、フェニル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、ヒドロキシ基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される置換基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す。）で
表されるスルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体；そして
ａ4）式（ＩＶ）
【化６】
（式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数
１乃至４のアルキル基、フェニル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、ヒドロキシ基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される置換基を表し；
Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’は夫々互いに独立して水素原子、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数１乃至４のアルキル基、フェニル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、ヒドロキシ基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される置換基を表し；そして、
Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す。）で
表されるスルホ置換された２，５−ビス−（ベンゾオキサゾリル）−チオフェン誘導体；ａ5）式（Ｖ）
【化７】
（式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子、又は炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、アリール基及びアリール−炭素原子数１乃至４のアルキル基からなる群から選択される置換基を表し；
Ｒ3は水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し：
Ｘは炭素原子数２乃至６のアルキレン基を表し；
Ａｒはフェニル基、炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、アリール基及びアリール−炭素原子数１乃至４のアルキル基からなる群から選択される１つ又は２つの置換基で置換されたフェニル基、ナフチル基、又は、１乃至４つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換されたナフチル基を表す。）で表されるスルホ置換されたフェノール誘導体からなる群から選択される少なくとも一種の芳香族スルホン酸の塩；
ｂ）Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す；
及びポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材
を含む、難燃剤組成物に関する。
【００１１】
本発明の好ましい実施態様は組成物、特に、
ａ）
ａ1）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が夫々互いに独立して−ＮＨ2基、−Ｎ（炭素原子数１乃至４のアルキル）2基、−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数１乃至４のアルキル基及び炭素原子数１乃至４
のアルコキシ基からなる群から選択される１乃至３つの置換基によって置換されたフェニルアミノ基、又は５員又は６員の飽和Ｎ−ヘテロ環基を表し；
Ｒ1’及びＲ2’はＲ1及びＲ2として定義されたものと同様のものを表し：そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、トリアジニルアミノスチルベンスルホン酸塩（Ｉ）；
ａ2）前記式中、
Ｒ1が水素原子を表し；
Ｒ2が水素原子を表し；そして
Ｒ3が水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾリルスルホン酸塩（ＩＩ）；そして
ａ3）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が夫々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’のうちの一つが−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基を表し、その他のものが水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体（Ｉ
ＩＩ）；そして
ａ4）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が夫々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’が夫々互いに独立して水素原子、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基及び炭素原子数１乃至４のアルキル基からなる群から選択される置換基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホ置換された２，５−ビス−（ベンゾオキサゾリル
）−チオフェン誘導体（ＩＶ）；そして
ａ5）前記式中、
Ｒ1及びＲ2夫々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；
Ｒ3が水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；
Ｘが炭素原子数２乃至６のアルキレン基を表し；
Ａｒがフェニル基、又は１又は２つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換されたフェニル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホ置換されたフェノール誘導体（Ｖ）、
からなる群から選択された少なくとも一種の芳香族スルホン酸の塩、並びに
ｂ）ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材
を含む難燃剤組成物に関する。
【００１２】
特に好ましい実施態様は組成物、特に
ａ）
ａ1）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が夫々互いに独立して−Ｎ（炭素原子数１乃至４のアルキル）2基、１又は２
つの−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基で置換されたフェニルアミノ基、又はモルホリニル基を表
し；
Ｒ1’及びＲ2’はＲ1及びＲ2として定義されたものと同様のものを表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、トリアジニルアミノスチルベンジスルホン酸塩（Ｉ）；
ａ2）前記式中、
Ｒ1が水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；
Ｒ2が水素原子又はヒドロキシ基を表し；そして
Ｒ3が水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾリルスルホン酸塩（ＩＩ）；そして
ａ3）前記式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’のうちの一つが−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基を表し、その他のものが水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；そして
Ｍ＋がアルカリ金属原子を表す、スルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体（Ｉ
ＩＩ）；そして
ａ5）前記式中、
Ｒ1及びＲ2のうちの一つがメチル基を表し、そしてその他の一つが第三ブチル基を表し、或いはＲ1及びＲ2の双方が第三ブチル基を表し；
Ｒ3が水素原子又はメチル基を表し；
Ｘが炭素原子数２乃至４のアルキレン基を表し；
Ａｒが１つのメチル基及び１つの第三ブチル基で置換されるか、又は２つの第三ブチル基で置換されたフェニル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホ置換されたフェノール誘導体（Ｖ）、
からなる群から選択される少なくとも一種の芳香族スルホン酸の塩；並びに、
ｂ）ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材
を含む、難燃剤組成物に関する。
【００１３】
非常に好ましい実施態様は、組成物、特に、
ａ）
ａ1）前記式中、
Ｒ1及びＲ2のうちの一つが−Ｎ（炭素原子数１乃至４のアルキル）2基を表し、その他の
一つが２つの−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基で置換されたフェニルアミノ基を表し；
Ｒ1’及びＲ2’はＲ1及びＲ2として定義されたものと同様のものを表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、トリアジニルアミノスチルベンジスルホン酸塩（Ｉ）；
ａ2）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が水素原子を表し；そして
Ｒ3が水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾリルスルホン酸塩（ＩＩ）；そして
ａ3）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が水素原子を表し；
Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’のうちの一つが−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基を表し、そしてその他のものが水素原子を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体（Ｉ
ＩＩ）；そして
ａ5）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が第三ブチル基を表し；
Ｒ3が水素原子を表し；
Ｘがエチレン基を表し；
Ａｒが２つの第三ブチル基で置換されたフェニル基を表し；そして、
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホ置換されたフェノール誘導体（Ｖ）；
からなる群から選択される少なくとも一種の芳香族スルホン酸の塩、並びに
ｂ）ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材
を含む、難燃剤組成物に関する。
【００１４】
最も好ましい実施態様は組成物、特に、
ａ）
ａ1）式（Ｉ’）で表されるトリアジニルアミノスチルベンジスルホン酸塩
【化８】
ａ2）式（ＩＩ’）で表される２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾ
リルスルホン酸塩
【化９】
及び、
ａ3）式（ＩＩＩ’）で表されるスルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体
【化１０】
及び、
ａ5）式（Ｖ’）で表されるスルホ置換されたフェノール誘導体の塩、
【化１１】
からなる群から選択される少なくとも一種の芳香族スルホン酸の塩、並びに
ｂ）ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材、
を含む、難燃剤組成物に関する。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の組成物は、光透過性などのポリカーボネートの優れた機械特性、化学特性及び熱的特性を維持しながら、ＵＬ−９４（保険業者研究所対象９４）による望ましいＶ−０等級、並びに、関連する試験法において他の優れた等級を達成する。
【００１６】
上述した該組成物は、以下の成分を含む：
成分ａ）
芳香族スルホン酸の塩という用語は、好ましくは金属塩、例えばアルカリ金属又はアルカリ土類金属塩、例えばナトリウム、カリウム、カルシウム塩をその範囲に含む。
【００１７】
他の実施態様によれば、塩という用語は非金属の塩、例えばアンモニウム、（炭素原子数１乃至２２のアルキル）1-4アンモニウム、又は（２−ヒドロキシエチル）1-4アンモニウム、例えばテトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム又は２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウム塩を含む。
【００１８】
従って、上記式におけるカチオンＭ+は、アルカリ金属原子、例えばナトリウム又はカ
リウムイオン、アンモニウムイオン又はアミンから形成されたカチオン、例えば（炭素原子数１乃至２２のアルキル）1-4アンモニウム又は（２−ヒドロキシエチル）1-4アンモニウム、例えば、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、又は２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムイオンをその範囲に含む。
トリアジニルアミノスチルベンジスルホン酸塩（Ｉ）においてＲ1及びＲ2中、並びに準用するＲ1’及びＲ2’中に存在する、炭素原子数１乃至４のアルキル基は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基又は第三ブチル基である。
ヒドロキシ−炭素原子数２乃至４のアルキル基は、好ましくは２−ヒドロキシエチル基である。
−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数１乃至４のアルキル基及び炭素原子数１乃至４
のアルコキシ基から選択される１−３つの置換基によって置換されたフェニルアミノ基又はジフェニルアミノ基は、例えば、一つ又は二つの−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｎａ+基、或いは
一つ又は二つのメチル基又はメトキシ基でフェニル基が置換されている、フェニルアミノ基又はジフェニルアミノ基である。
炭素原子数１乃至４のアルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、又は第三ブトキシ基である。
５−又は６−員の飽和Ｎ−ヘテロ環は、例えば、ピロリジニル環、ピペリジニル環又は好ましくはモルホリニル環である。
【００１９】
特に好ましいものは、Ｔｉｎｏｐａｌ（登録商標）ＳＰＦ（チバ スペシャルティ ケミカルズ社）である：４，４’−ビス（２−アミノ−４−モノエタノールアミノ−６−ｓ−トリアジニル）−ジアミノスチルベン−２，２’−ジスルホン酸ナトリウム：
【化１２】
【００２０】
トリアジニルアミノスチルベンジスルホン酸塩（Ｉ）は既知の化合物である。
これらの蛍光増白剤としての技術的応用並びにその製法は、国際公開第２００５／０６８５９７号パンフレットに記載されている。２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾリルスルホン酸塩（ＩＩ）において、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3に存在するＭ+、炭素原子数１乃至４のアルキル基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基の定義は、化合物（Ｉ）における定義に該当する。
【００２１】
特に好ましいものは、Ｔｉｎｏｇａｒｄ（登録商標）ＨＳ（チバ スペシャルティ ケミカルズ社）である：３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシ−５−（１−メチルプロピル）−ベンゼンスルホン酸ナトリウム：
【化１３】
【００２２】
２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾリルスルホン酸塩（ＩＩ）は既知の化合物である。織物における光感受性に対する光安定剤としてのこれらの技術的応用及びこれら化合物の製法は、国際公開第８４／０２３６５号パンフレットに記載されている。
【００２３】
スルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体（ＩＩＩ）において、Ｒ1及びＲ2並びにＲ1’及びＲ2’に存在するＭ+、炭素原子数１乃至４のアルキル基及び炭素原子数１
乃至４のアルコキシ基の定義は化合物（Ｉ）における定義に該当する。
【００２４】
フェニル−炭素原子数１乃至４のアルキル基は、例えば、ベンジル基又は１−若しくは２−フェネチル基である。
【００２５】
特に好ましいものはＴＩＮＯＰＡＬ ＣＢＳである：２，２’−（４，４’−ビフェニルジイルジ−２，１−エテンジイル）−ジベンゼンスルホン酸二ナトリウム；
【化１４】
【００２６】
スルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体は既知の化合物である。
これらの蛍光増白剤としての技術的応用及びそれらの製法は米国特許第３，９８４，３９９号明細書に記載されている。
【００２７】
スルホ置換されたフェノール誘導体（Ｖ）において、Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子、又は炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、アリール基及びアリール−炭素原子数１乃至４のアルキル基からなる群から選択された置換基を表す。
炭素原子数１乃至４のアルキル基はメチル基、エチル基、ｎ−若しくはイソプロピル基又はｎ−、イソ−若しくは第三ブチル基である。
炭素原子数５乃至６のシクロアルキル基は、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基である。
炭素原子数５乃至６のシクロアルキル−炭素原子数１乃至４のアルキル基は、例えばシクロペンチルメチル基又はシクロヘキシルメチル基である。
アリール基は好ましくはフェニル基である。
アリール−炭素原子数１乃至４のアルキル基は好ましくはベンジル基又は２−フェニルエチル基である。
【００２８】
Ｒ3は好ましくは水素原子又はメチル基である。
【００２９】
炭素原子数２乃至６のアルキレン基として定義されたＸは、好ましくは直鎖状、例えばエチレン基、ｎ−プロピレン基又はｎ−ブチレン基である。
【００３０】
炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル−炭素原子数１乃至４のアルキル基からなる群から選択される１つ又は２つの置換基によって置換されたフェニル基として定義されたＡｒは、例えば、１つのメチル基及び１つの第三ブチル基で置換されたフェニル基、又は、２つの第三ブチル基で置換されたフェニル基、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基で置換されたフェニル基、ベンジル基で置換されたフェニル基、或いはシクロペンチルメチル基又はシクロヘキシルメチル基で置換されたフェニル基である。
【００３１】
１−４つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換されたナフチル基は、例えば１−４つのメチル基で置換されたナフチル基、１つのメチル基又は１つの第三ブチル基で置換されたナフチル基、或いは、２つの第三ブチル基で置換されたナフチル基である。
【００３２】
スルホ置換されたフェノール誘導体（Ｖ）は既知の化合物であり、既知の方法、例えば、米国特許第３，６６５，０３１号明細書に記載されるような方法によって製造可能である。
【００３３】
好ましい実施態様に従って、スルホ置換されたフェノール誘導体（Ｖ）は以下の構造式で表される：
【化１５】
式中、Ｒ1及びＲ2の一方はメチル基を、他方は第三ブチル基を表すか、あるいはＲ1及
びＲ2の双方が第三ブチル基を表し、そしてＭ+はアルカリ金属イオンを表す。
【００３４】
特に好ましい実施態様に従って、スルホ置換されたフェノール誘導体（Ｖ）は以下の構造式
【化１６】
で表され、これはチバ スペシャルティ ケミカルズ社より市販されている（Ｔｉｎｏｇａｒｄ（登録商標）ＡＯ ６）。
【００３５】
成分ｂ）
ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材は、任意のグレードのものであり得、任意の既知の方法によって製造され得る。ポリマー基材という用語は、任意のポリカーボネートホモポリマー又はそれらのコポリマー、例えばポリエステルとのコポリマーをその範囲に含む。
【００３６】
ポリカーボネートは一般式：
【化１７】
に対応する熱可塑性ポリマーである。
【００３７】
ポリカーボネートは、界面プロセスによって又は溶融プロセス（触媒エステル交換）によって得られる。ポリカーボネートは分枝状又は線状の構造であり得、任意の官能性置換基を含み得る。ポリカーボネートコポリマー及びポリカーボネートブレンドもまた、本発明の範囲内である。ポリカーボネートという用語は、他の熱可塑性プラスチックスとのコポリマー及びブレンドを含めたものとして解釈されるべきである。ポリカーボネートの製造方法は、例えば、米国特許第３，０３０，３３１号明細書；米国特許第３，１６９，１２１号明細書；米国特許第４，１３０，４５８号明細書、米国特許第４，２６３，２０１号明細書；米国特許第４，２８６，０８３号明細書；米国特許第４，５５２，７０４号明細書；米国特許第５，２１０，２６８号明細書及び米国特許第５，６０６，００７号明細書などによって既知である。二種以上の異なる分子量を有するポリカーボネートの組み合わせが使用され得る。
【００３８】
好ましいものは、ジフェノール、例えばビスフェノールＡのカーボネート源との反応によって得られ得るポリカーボネートである。適当なジフェノールの例は：
【化１８】
４，４’−（２−ノルボルニリデン）ビス（２，６−ジクロロフェノール）；又は
フルオレン−９−ビスフェノール：
【化１９】
である。
【００３９】
該カーボネート源はカルボニルハライド、カーボネートエステル又はハロホルメートであり得る。適当なカーボネートハライドは、ホスゲン又はカルボニルブロミドである。適当なカーボネートエステルは、ジアルキルカーボネート、例えばジメチル−又はジエチルカーボネート、ジフェニルカーボネート、フェニル−アルキルフェニルカーボネート、例えばフェニル−トリルカーボネート、ジアルキルカーボネート、例えばジメチル−又はジエチルカーボネート、ジ−（ハロフェニル）カーボネート、例えばジ−（クロロフェニル）カーボネート、ジ−（ブロモフェニル）カーボネート、ジ−（トリクロロフェニル）カーボネート又はジ（トリクロロフェニル）カーボネート、ジ−（アルキルフェニル）カーボネート、例えばジ−トリルカーボネート、ナフチルカーボネート、ジクロロナフチルカーボネートなどである。
【００４０】
他のプロセスの詳細、例えば分子量調整剤、酸受容体、触媒の添加は、上記文献に開示されている。
【００４１】
更なる実施態様に基づいて、ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材は、そこにはイソフタレート／テレフタレート−レゾルシノールセグメントが存在するポリカーボネートコポリマーである。そのようなポリカーボネートは市販されており、例えば、Ｌｅｘａｎ（登録商標）ＳＬＸ（ゼネラル エレクトリック社、ＵＳＡ）である。
成分ｂ）の他のポリマー基材は、混合物形態又はコポリマー形態で、例えばポリオレフィン、ポリスチレン、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリ（メタ）アクリレート、熱可塑性ポリウレタン、ポリスルホン、ポリアセタール及びＰＶＣなどの様々な合成ポリマーを、適当な親和性剤と共に、更に含み得る。
例えば、ポリマー基材は、ポリオレフィン、熱可塑性ポリウレタン、スチレンポリマー及びそれらのコポリマーからなる樹脂群から選択される熱可塑性ポリマーを更に含み得る。具体的な実施態様としては、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、グリコール変性ポリシクロヘキシレンメチレンテレフタレート（ＰＣＴＧ）、ポリスルホン（ＰＳＵ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ），アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）、アクリロニトリル−スチレン−アクリル酸エステル（ＡＳＡ）、アクリロニトリル−エチレン−プロピレン−スチレン（ＡＥＳ）、スチレン−マレイン酸無水物（ＳＭＡ）又は高衝撃ポリスチレン（ＨＩＰＳ）が挙げられる。
【００４２】
適当な合成ポリマーの一覧は以下の通りである：
１．モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィン、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（所望により架橋され得る）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度及び高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度及び超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）。
【００４３】
ポリオレフィン、すなわち前の段落において例示したモノオレフィンのポリマー、望ましくはポリエチレン及びポリプロピレンは、異なる方法によりそしてとりわけ以下の方法により調製され得る：
ａ）ラジカル重合（通常は高圧下及び高温において）。
ｂ）通常、周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ又はＶＩＩＩ群の金属の一種又はそれ以上を含む触媒を使用した触媒重合。これらの金属は通常、一つ又はそれ以上の配位子、典型的に
はπ−又はσ−配位し得るオキシド、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリールを有する。これらの金属錯体は遊離形態であるか、又は基材に、典型的には活性化塩化マグネシウム、チタン（ＩＩＩ）クロリド、アルミナ又は酸化ケイ素に固定され得る。これらの触媒は、重合媒体中に可溶又は不溶であり得る。該触媒は重合においてそのまま使用され得、又はさらなる活性剤、典型的には金属アルキル、金属ヒドリド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシド又は金属アルキルオキサンであって、前記金属が周期表のＩａ、ＩＩａ及び／又はＩＩＩａ群の元素であるものが使用され得る。活性剤は、他のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル基で都合良く変性され得る。これらの触媒系は通常、フィリップス、スタンダードオイルインディアナ、チグラー（−ナッタ）、ＴＮＺ（デュポン）、メタロセン又はシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と命名される。
【００４４】
２．１）で言及されたポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレン、ポリプロピレンとポリエチレン（例えば、ＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）の混合物、及び異なる型のポリエチレンの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００４５】
３．モノオレフィン及びジオレフィンの互いの又は他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン／シクロオレフィンコポリマー（例えばＣＯＣの様な、エチレン／ノルボルネン）、１−オレフィンがその場で生成されるエチレン／１−オレフィンコポリマー；プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー又はエチレン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（アイオノマー）並びにエチレンとプロピレン及びへキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンなどのジエンとのターポリマー；及びそのようなコポリマーの互いの及び１）で上述したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ及び交互の又はランダムのポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー及びそれらの他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。
【００４６】
４．自らの水素化変性物を含む（例えば炭素原子数５乃至９の）ハイドロカーボン樹脂（例えば粘着付与剤）及びポリアルキレンとでん粉の混合物。
【００４７】
上述のホモポリマー及びコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチックまたアタクチックなどの立体構造を有し得る；アタクチックポリマーが好ましい。立体ブロックポリマーもまた含まれる。
【００４８】
５．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）。
【００４９】
６．スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンの全ての異性体、特にｐビニルトルエン、エチルスチレンの全ての異性体、プロピルスチレン、ビニルビフェニル、ビニルナフチレン及びビニルアントラセン、並びにそれらの混合物などの、ビニル芳香族モノマー由来の芳香族ホモポリマー及びコポリマー。ホモポリマー及びコポリマーはシンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック、又はアタクチックなどの立体構造を有し得る；アタクチックポリマーが好ましい。立体ブロックコポリマーもまた含まれる
：
ａ）エチレン、プロピレン、ジエン、ニトリル、酸、マレイン酸無水物、マレイミド、酢酸ビニル及びビニルクロリド又はアクリル酸誘導体及びそれらの混合物、例えばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／エチレン（インターポリマー）、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエンアルキルアクリレート、スチレン−ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／マレイン酸無水物、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリマー及び他のポリマーの高衝撃スチレンの混合物、例えばポリアクリレート、ジエンポリマー又はエチレン／プロピレン／ジエンターポリマー；及びスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレンなどのスチレンのブロックコポリマー
から選択される、上述のビニル芳香族モノマー及びコモノマーを含むコポリマー。
ｂ）６．）で記述したポリマーの水素化より誘導された水素化芳香族ポリマー、特にアタクチックポリスチレンの水素化によって製造されたポリシクロヘキシルエチレン（ＰＣＨＥ）など、しばしばポリビニルシクロヘキサン（ＰＶＣＨ）として言及される。
ｃ）６ａ）に記述したポリマーの水素化より誘導された水素化芳香族ポリマー。
ホモポリマー及びコポリマーはシンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックなどの立体構造を有し得る；アタクチックポリマーが好ましい。立体ブロックポリマーもまた含まれる。
【００５０】
７．ビニル芳香族モノマー、例えばスチレン又はα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えば、ポリブタジエンにスチレン、ポリブタエン−スチレン又はポリブタジエン−アクリロニトリルコポリマーにスチレン；ポリブタジエンにスチレン及びアクリロニトリル（又はメタクリロニトリル）；ポリブタジエンのスチレン、アクリロニトリル、及びメチルメタクリレート；ポリブタジエンにスチレン及びマレイン酸無水物；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル及びマレイン酸無水物又はマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びアルキルアクリレート又はメタクリレート、エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレン及びアクリロニトリル、ポリアルキルアクリレート又はポリアルキルメタクリレートにスチレン及びアクリロニトリル、アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレン及びアクリロニトリル、並びにそれらの６）に記載されたコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡ又はＡＥＳポリマーとして知られるコポリマー混合物。
【００５１】
８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素化及び臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩素化又はスルホ塩素化ポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリンホモ−及びコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、並びにそれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル又は塩化ビニリデン、酢酸ビニルコポリマーなど。
【００５２】
９．ポリアクリレート及びポリメタクリレートなどのα，β−不飽和酸及びそれらの誘導体より誘導されたポリマー；ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポリアクリルニトリル、ブチルアクリレートで衝撃変性されたもの。
【００５３】
１０．９）に記述したモノマーの互いの又は他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレート又はアクリロニトリル／ビニルハライドコポリマー、又はアクリロニトリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。
【００５４】
１１．不飽和アルコールとアミン又はアシル誘導体又はそれらのアセタールより誘導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレート、ポリビニルブチレート、ポリアリルフタレート、又はポリアリルメラミン；並びにそれらと上記１．で記述したオレフィンとのコポリマー。
【００５５】
１２．ポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドなどの環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー、又はそれらのビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
【００５６】
１３．ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン、並びにコモノマーとしてエチレンオキシドを含むそれらのポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレート又はＭＢＳで変性されたポリアセタール。
【００５７】
１４．ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、並びにポリフェニレンオキシドのスチレンポリマー又はポリアミドとの混合物。
【００５８】
１５．一方がヒドロキシ末端ポリエーテル、ポリエステル又はポリブタジエンであり、他方が脂肪族又は芳香族ポリイソシアネートより誘導されたポリウレタン並びにそれらの前駆体。
【００５９】
１６．ジアミンとジカルボン酸から及び／又はアミノカルボン酸又は対応するラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミン及びアジピン酸から開始した芳香族ポリアミド；へキサメチレンジアミン及びイソフタル酸又は／及びテレフタル酸から及び変性剤としてエラストマーを用いて又は用いずに調製されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド又はポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド：及び上述されたポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマー又は化学的に結合されたか又はグラフトされたエラストマーとのブロックコポリマー；又は例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテトラメチレングリコールなどのポリエーテルとのブロックコポリマー；並びにＥＰＤＭ又はＡＢＳで変性されたポリアミド又はコポリアミド；及びプロセス中に縮合されたポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
【００６０】
１７．ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントイン及びポリベンズイミダゾール。
【００６１】
１８．ジカルボン酸とジオールから、及び／又はヒドロキシカルボン酸又は対応するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリアルキレンナフタレート（ＰＡＮ）及びポリヒドロキシベンゾエート、並びに、ヒドロキシ末端ポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル；及びまたポリカーボネート又はＭＢＳで変性されたポリエステル。
【００６２】
１９．ポリケトン。
【００６３】
２０．ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、及びポリエーテルケトン。
【００６４】
２１．上述したポリマーのブレンド（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭ又はＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６及びコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳ又はＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
【００６５】
成分ａ）は成分ｂ）の基材に対して約０．００１乃至５．０質量％、好ましくは０．０１乃至２．０質量％、及び最も好ましくは０．０４乃至０．５質量％の量で添加される。
【００６６】
本発明の更なる実施態様は、ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材に対して難燃性を付与する方法に関し、該方法は前記ポリマー基材に対して、上述に定義された選択された芳香族スルホン酸の塩を添加することを含む。
【００６７】
更なる成分
本発明はさらに、上述した成分ａ）及びｂ）に加えて、所謂アンチドリッピング剤、ポリマー安定剤及びさらなる難燃剤、例えばリン含有難燃剤、窒素含有難燃剤、ハロゲン化難燃剤及び無機難燃剤などからなる群から選択される更なる添加剤を含む、組成物に関する。
【００６８】
好ましい実施態様によれば、本発明は更なる成分としていわゆるアンチドリッピング剤をさらに含む組成物に関する。
【００６９】
これらアンチドリッピング剤は、ポリカーボネート組成物のメルトフローを下げ、高温におけるドロップ（落下）形成を防止する。様々な文献、例えば米国特許第４，２６３，２０１号明細書などに、ポリカーボネート難燃性組成物に対するアンチドリッピング剤の添加が記載されている。
【００７０】
高温におけるドロップ形成を防止する適当な添加剤としては、ガラスファイバー、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、高温エラストマー、カーボンファイバー、ガラス球などが挙げられる。
【００７１】
異なる構造を有するポリシロキサンの添加が様々な文献において提案されている：米国特許第６，６６０，７８７号明細書、米国特許第６，７２７，３０２号明細書又は米国特許第６，７３０，７２０号明細書参照。
【００７２】
本発明の特定の実施態様によれば、式（１）
【化２０】
（式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立してフッ素原子によって置換された脂肪族基を表し；
Ｘ1及びＸ2は夫々互いに独立して直接結合又は炭素原子数１乃至１２のアルキレン基を表し；
ｍは1乃至１０００の数字を表し；
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は夫々互いに独立して水素原子、炭素原子数１乃至１２のアルキル
基又は炭素原子数３乃至１２のアルケニル基を表し；そして
Ｙは直接結合又は、
【化２１】
からなる群から選択される二価の基を表す；
（式中、
Ｒａ及びＲｂの双方が水素原子又はハロゲン原子を表し；又は
Ｒａ及びＲｂの一方が水素原子を、他方がハロゲン原子を表し；
Ｒ3及びＲ4はそれらが結合される炭素原子と一緒になって、任意の置換基として１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基と共に炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基を形成し；又は
Ｒ3及びＲ4は夫々互いに独立して水素原子、フッ素原子で置換された脂肪族基、炭素原子数１乃至１２のアルキル基、カルボキシ基で置換された炭素原子数１乃至１２のアルキル基、炭素原子数２乃至１２のアルケニル基、アリール基、又は、部分式
【化２２】
（式中、
ｎは０乃至１００００の数字を表し；そして
Ｘ2、Ｙ、Ｒ2、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は上述に定義したとおりである。）を表す。）で表される（ポリ）カーボネート化合物である。
【００７３】
（ポリ）カーボネート化合物（１）中、上述に定義されるように、置換基は以下のように定義される：
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立してフッ素原子で置換された脂肪族基を表し；
Ｘ1及びＸ2は夫々互いに独立して直接結合又は炭素原子数１乃至１２のアルキレン基を表し；
ｍは１乃至１０００の数字を表し；
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は夫々互いに独立して水素原子、炭素原子数１乃至１２のアルキル基又は炭素原子数３乃至１２のアルケニル基を表し；そして
Ｙは直接結合又は
【化２３】
からなる群から選択される二価の基を表し；式中、
Ｒａ及びＲｂの双方が水素原子又はハロゲン原子を表し；又は、
Ｒａ及びＲｂの一方が水素原子を、他方がハロゲン原子を表し；
Ｒ3及びＲ4はそれらが結合される炭素原子と一緒になって、任意の置換基として１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基と共に炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基を形成し；又は
Ｒ3及びＲ4は夫々互いに独立して、ハロゲン原子、フッ素原子で置換された脂肪族基、炭
素原子数１乃至１２のアルキル基、カルボキシ基で置換された炭素原子数１乃至１２のアルキル基、炭素原子数２乃至１２のアルケニル基、アリール基又は基（Ａ）を表し、上述に定義されるように、式中、ｎは０−１００００の数字を表し、そしてＸ2、Ｙ、Ｒ2、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は上述に定義されたとおりである。
【００７４】
フッ素原子で置換された脂肪族基として定義されたＲ1及びＲ2は、好ましくは直鎖又は分枝鎖又は炭化水素基であり、少なくとも一つのフッ素原子と少なくとも一つの水素原子を有し、例えばフルオロ−炭素原子数１乃至２５のアルキル基であり、或いは、部分式
【化２４】
（式中、ｐは１乃至１００の数字を表す）で表されるパーフルオロアルキル基である。
【００７５】
フルオロ−炭素原子数１乃至２５のアルキル基は、例えば、モノ−又はジフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、５−フルオロペンチル基、６−フルオロヘキシル基、７−フルオロヘプチル基、又はペンタフルオロブチル基である。
【００７６】
パーフルオロアルキル基は、パーフルオロアルコールＦ（ＣＦ2）ｐ−ＯＨ（式中、ｐ
は１乃至５０の数字を表す）から誘導される基（Ｂ）であり、例えば、トリフルオロメチル基（ｐ＝１）又はペンタフルオロエチル基（ｐ＝２）である。好ましいパーフルオロアルキル基は、ｐが５、８、９又は１１のパーフルオロアルコールから誘導される。
【００７７】
炭素原子数１乃至１２のアルキレン基として定義されたＸ1及びＸ2は、分枝した又は分枝していない二価の基であり、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基又はドデカメチレン基である。Ｘ1及びＸ2の好ましい定義の一つは、炭素原子数１乃至８のアルキレン基、例えば、炭素原子数２乃至８のアルキレン基である。Ｘ1及びＸ2の特に好ましい定義は、炭素原子数２乃至４のアルキレン基、例えばエチレン基である。
【００７８】
炭素原子数１乃至１２のアルキル基として定義されたＲ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は、直鎖又は、可能であれば分枝状であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、１−メチルウンデシル基又はｎ−ドデシル基である。好ましい定義の一つは、例えば、炭素原子数１乃至８のアルキル基、例えば炭素原子数１乃至４のアルキル基、例えばメチル基である。
【００７９】
炭素原子数３乃至１２のアルケニル基として定義されるＲ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は、直鎖又は可能であれば分枝状であり、例えばアリル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、イソブテニル基、ｎ−２，４−ペンタジエニル基、３−メチル−２−ブテニル基、ｎ−２−オクテニル基、ｎ−２−ドデセニル基又はイソドデセニル基である。
【００８０】
部分式
【化２５】
で表される二価の基として定義されるＹは、好ましくはメチレン基（ＣＨ2＝、Ｒａ及び
Ｒｂ＝Ｈ）である。その他の実施態様によれば、Ｒａ及びＲｂの双方が水素原子又はハロゲン原子、例えば塩素原子又は臭素原子を表し、或いは、Ｒａ及びＲｂの一方が水素原子を、他方がハロゲン原子を表す。
【００８１】
任意の置換基として１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基を有する、炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基として定義されるＲ3及びＲ4は、例えば、シクロペンチリデン基、メチルシクロペンチリデン基、ジメチルシクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基、メチルシクロヘキシリデン基、ジメチルシクロヘキシリデン基、トリメチルシクロヘキシリデン基、第三ブチルシクロヘキシリデン基、シクロヘプチリデン基、又はシクロオクチリデン基である。好ましいものはシクロヘキシリデン基である。
【００８２】
フッ素原子で置換された脂肪族基として定義されたＲ3及びＲ4は、上述に定義したように、例えばフルオロ−炭素原子数１乃至２５のアルキル基であり、或いは上述のパーフルオロアルキル基（Ｂ）（ｐは１乃至５０を表す）である。
【００８３】
炭素原子数１乃至１２のアルキル基として定義されたＲ3及びＲ4は、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及
びＲ8に関して上記に定義されたとおりのものである。
【００８４】
カルボキシ基で置換された炭素原子数１乃至１２のアルキル基として定義されたＲ3及
びＲ4は、例えば、カルボキシメチル基又は１−又は２−カルボキシエチル基である。
【００８５】
アリール基として定義されたＲ3及びＲ4は、好ましくはフェニル基又は１−又は２−ナフチル基である。
【００８６】
基（Ａ）において、指数ｎは０−１００００の数字を表し、そしてＸ2、Ｙ、Ｒ2、Ｒ5
、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は上述に定義したとおりである。
【００８７】
特に興味深いものは、式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立してフッ素原子で置換された脂肪族基を表し；
Ｘ1及びＸ2は夫々互いに独立して炭素原子数１乃至１２のアルキレン基を表し；
ｍは１乃至１０００の数字を表し；
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は水素原子を表し；
Ｙは二価の基
【化２６】
を表し、
式中、夫々互いに独立してＲ3及びＲ4は水素原子、−ＣＦ3基、炭素原子数１乃至１２の
アルキル基、フェニル基又は基（Ａ）（式中ｎは０乃至１００００の数字を表しそしてＸ2、Ｙ、Ｒ2，Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は上述に定義されたものを表す）を表すか、又は
Ｒ3及びＲ4はそれらが結合される炭素原子と一緒になって、任意の置換基として１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基と共にシクロヘキシリデン基を形成する、（ポリ）カーボネート化合物（１）である。
【００８８】
特に興味深いものは、式中、Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して基（Ｂ）を表す（式中、ｐは１乃至５０の数字を表す）、（ポリ）カーボネート化合物（１）である。
【００８９】
非常に興味深いものは、式中ｐが４乃至１５を表す、（ポリ）カーボネート化合物（１）である。
【００９０】
特に非常に興味深いものは、式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して基（Ｂ）を表し（式中、ｐは１乃至５０の数字を表す）、
Ｘ1及びＸ2は夫々互いに独立して炭素原子数２乃至８のアルキレン基を表し；
ｍは１乃至１０００の数字を表し；
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は水素原子を表し；
Ｙは二価の基
【化２７】
を表し、
式中、Ｒ3は水素原子、−ＣＦ3基、炭素原子数１乃至１２のアルキル基、フェニル基又は基（Ａ）（式中ｎは０乃至１００００の数字を表しそしてＸ2、Ｙ、Ｒ2，Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7
及びＲ8は上述に定義されたものを表す）を表すか、又は
Ｒ3及びＲ4はそれらが結合される炭素原子と一緒になって、任意の置換基として１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基と共にシクロヘキシリデン基を形成する、（ポリ）カーボネート化合物（１）である。
【００９１】
高い興味があるものは、式中、
Ｒ3及びＲ4は夫々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；或いは、Ｒ3及びＲ4はそれらが結合される炭素原子と一緒になって、シクロヘキシリデン基を形成する、（ポリ）カーボネート化合物（１）である。
【００９２】
特に好ましいものはまた、式中ｍが１乃至５０の数字を表し、ｎが０乃至５０の数字を表す、（ポリ）カーボネート化合物（１）である。
【００９３】
（ポリ）カーボネート化合物（１）は、既知の方法で製造される。フルオロアルコールをビス（２，４−ジニトロフェニル）カーボネート（ＤＮＰＣ）で処理して、２，４−ジニトロフェニルカーボネートのフルオロアルコール物をそのまま得る。この誘導体は、例えば、様々な分子量のヒドロキシ末端ビスフェノールＡオリゴマーによって、単離及び分離可能である。
【００９４】
Ｂｒｕｎｅｌｌｅら（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ １９９１年、２４、３０３５−３０４４）は、ビスフェノールＡのダイマー及び環状オリゴマーの製造のための、ビス（２，４−ジニトロフェニル）カーボネートの使用を開示している。カップリング反応もまた、ホスゲン又はカルボニルジイミダゾール（ＣＤＩ）のような、カーボネート結合形成試薬によって実施可能である。
【００９５】
好ましいフルオロアルコールは、例えば、所謂フルオロテロマーアルコールである。これらは、例えば、デュポン社又はアルドリッチ社よりＺｏｎｙｌ（登録商標）ＢＡ−Ｌとして市販されている。
【００９６】
好ましいビスフェノール出発材料は、例えばビスフェノールＡ及び下記式で表される化合物である：
【化２８】
【００９７】
別の実施態様によれば、式
【化２９】
で表される（ポリ）カーボネート化合物が添加され、式中、
Ｒ0は直接結合又は
【化３０】
からなる群から選択される二価の基を表し；
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立してケイ素含有基を表し；
Ｒ3及びＲ4は夫々互いに独立して水素原子、フッ素原子で置換された脂肪族基、ケイ素含有基、炭素原子数１乃至１２のアルキル基、カルボキシ基で置換された炭素原子数１乃至１２のアルキル基、炭素原子数２乃至１２のアルケニル基、アリール基又は部分式
【化３１】
で表される基を表すか、又は
Ｒ3及びＲ4はそれらが結合される炭素原子と一緒になって、炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基又は、１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換された炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基を表し；
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は夫々互いに独立して水素原子、炭素原子数１乃至１２のアルキル基又は炭素原子数３乃至１２のアルケニル基を表し；
Ｘ1及びＸ2は夫々互いに独立して直接結合、炭素原子数１乃至１２のアルキレン基又は−Ｏ−基で中断された炭素原子数４乃至２５のアルキレン基を表し；
Ｙ1及びＹ2は夫々互いに独立して直接結合又は
【化３２】
からなる群から選択される二価の基を表し；
Ｒ9及びＲ10は夫々互いに独立して直接結合又は炭素原子数１乃至４のアルキレン基を表
し；
Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は夫々互いに独立して水素原子、炭素原子数１乃至１２のアルキル基又は炭素原子数３乃至１２のアルケニル基を表し；
Ｒ14は水素原子、炭素原子数１乃至１２のアルキル基又はケイ素含有基を表し；
ｍは０乃至１００００の数字を表し；そして、
ｎは０乃至１００００の数字を表す。
【００９８】
（ポリ）カーボネート化合物（２）において、上述したように、置換基は以下のとおりに定義される：
Ｒ0は直接結合又は
【化３３】
からなる群から選択される二価の基を表し；
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立してケイ素含有基を表し；
Ｒ3及びＲ4は夫々互いに独立して水素原子、フッ素原子で置換された脂肪族基、ケイ素含有基、炭素原子数１乃至１２のアルキル基、カルボキシ基で置換された炭素原子数１乃至１２のアルキル基、炭素原子数２乃至１２のアルケニル基、アリール基、又は部分式
【化３４】
で表される基を表し、又は
Ｒ3及びＲ4はそれらが結合される炭素原子と一緒になって、炭素原子数５乃至のシクロアルキリデン基又は１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換された炭素原子数５乃至のシクロアルキリデン基を表し；
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は夫々互いに独立して水素原子、炭素原子数１乃至１２のアルキル
基又は炭素原子数３乃至１２のアルケニル基を表し；
Ｘ1及びＸ2は夫々互いに独立して直接結合、炭素原子数１乃至１２のアルキレン基又は−Ｏ−基で中断された炭素原子数４乃至２５のアルキレン基を表し；
Ｙ1及びＹ2は夫々互いに独立して直接結合又は
【化３５】
からなる群から選択される二価の基を表し；
Ｒ9及びＲ10は夫々互いに独立して直接結合又は炭素原子数１乃至４のアルキレン基を表
し；
Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は夫々互いに独立して水素原子、炭素原子数１乃至１２のアルキル基又は炭素原子数３乃至１２のアルケニル基を表し；
Ｒ14は水素原子、炭素原子数１乃至１２のアルキル基又はケイ素含有基を表し；
ｍは０乃至１００００の数字を表し；そして
ｎは０乃至１００００の数字を表す。
【００９９】
ケイ素含有基は、好ましくは部分式
【化３６】
で表される基を表し、式中、
Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ20は夫々互いに独立して炭素原子数１乃至１２のアルキル基、ヒドロキシ基又はアミノ基で置換された炭素原子数１乃至１２のアルキル基；−Ｏ−基で中断されたヒドロキシ−炭素原子数４乃至１２のアルキル基；又は部分式
【化３７】
で表される基を表し、
式中、
Ｒ21は炭素原子数１乃至１２のアルキル基又は部分式
【化３８】
を表し、
Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28及びＲ29は夫々互いに独立して炭素原子数１乃至１２のアルキル基又はヒドロキシ基又はアミノ基で置換された炭素原子数１乃至１２のアルキル基を表し；
ｐは０乃至２００を表し；そして
ｑは０乃至２００を表す。
【０１００】
ケイ素含有基として特に興味あるものは、式中、
Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ20は夫々互いに独立してメチル基又は部分式
【化３９】
で表される基を表し、
Ｒ21はメチル基又は部分式
【化４０】
で表される基を表し、
Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28及びＲ29はメチル基を表し；そして、
ｐ及びｑは夫々互いに独立して０乃至１００を表す、部分式（Ｄ）で表される基である。
【０１０１】
特に興味のあるものは、式中、
Ｒ0は二価の基
【化４１】
を表し；
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立してケイ素含有基を表し；
Ｒ3及びＲ4は夫々互いに独立して水素原子、トリフルオロメチル基、ケイ素含有基、炭素原子数１乃至１２のアルキル基、フェニル基又は基（Ｃ）を表し；あるいは、
Ｒ3及びＲ4はそれらが結合される炭素原子と一緒になって、炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基又は１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換された炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基を表し；
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は水素原子を表し；
Ｘ1及びＸ2は夫々互いに独立して炭素原子数１乃至１２のアルキレン基又は−Ｏ−基で中断された炭素原子数４乃至２５のアルキレン基を表し；
Ｙ1及びＹ2は夫々互いに独立して直接結合又は
【化４２】
からなる群から選択される二価の基を表し；
Ｒ9及びＲ10は夫々互いに独立して直接結合又はメチレン基を表し；
Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は夫々互いに独立して水素原子、炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数３乃至４のアルケニル基を表し：
Ｒ14は水素原子又は炭素原子数１乃至１２のアルキル基を表し；
ｍは０乃至１００００を表し；そして
ｎは０乃至１００００を表す、（ポリ）カーボネート化合物（２）である。
【０１０２】
非常に特に興味のあるものは、式中、
Ｒ0は二価の基
【化４３】
を表し、
Ｒ3は水素原子、−ＣＦ3基、炭素原子数１乃至１２のアルキル基、フェニル基又は基（Ｃ）を表し；
Ｒ4は−ＣＦ3基、炭素原子数１乃至１２のアルキル基又はフェニル基を表し；或いは、
Ｒ3及びＲ4はそれらが結合される炭素原子と一緒になって、炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基又は１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換された炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基を表し；
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は水素原子を表し；
Ｘ1及びＸ2は夫々互いに独立して炭素原子数１乃至１２のアルキレン基又は−Ｏ−基で中断された炭素原子数４乃至２５のアルキレン基を表し；
Ｙ1及びＹ2は夫々互いに独立して直接結合又は
【化４４】
からなる群から選択される二価の基を表し；
Ｒ9及びＲ10は夫々互いに独立して直接結合又はメチレン基を表し；
Ｒ14は水素原子又は炭素原子数１乃至１２のアルキル基を表し；
ｍは０乃至１００００を表し；そして
ｎは０乃至１００００を表す、（ポリ）カーボネート化合物（２）である。
【０１０３】
興味のあるものはまた、式中、
Ｒ3及びＲ4が夫々独立して水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；或いは、
Ｒ3及びＲ4がそれらが結合される炭素原子と一緒になってシクロヘキシリデン基を形成する、
（ポリ）カーボネート化合物（２）である。
【０１０４】
好ましいものは、式中、Ｘ1及びＸ2が夫々互いに独立して炭素原子数２乃至８のアルキレン基又は−Ｏ−基で中断された炭素原子数４乃至２５のアルキレン基を表す、（ポリ）カーボネート化合物（２）である。
【０１０５】
また好ましいものは、式中、ｍが０乃至１００を表し、そしてｎが０乃至１００を表す、（ポリ）カーボネート化合物（２）である。
【０１０６】
非常に特に興味あるものは、式中、
Ｒ0は二価の基
【化４５】
を表し；
Ｒ3及びＲ4は夫々互いに独立して炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；あるいは、
Ｒ3及びＲ4はそれらが結合される炭素原子と一緒になってシクロヘキシリデン基を形成し、
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は水素原子を表し；
Ｘ1及びＸ2は夫々互いに独立して炭素原子数２乃至４のアルキレン基又は−Ｏ−基で中断された炭素原子数４乃至２５のアルキレン基を表し；
Ｙ1及びＹ2は夫々互いに独立して直接結合又は
【化４６】
からなる群から選択される二価の基を表し；
Ｒ9及びＲ10は夫々互いに独立して直接結合又はメチレン基を表し；
ｍは０乃至１００を表し、そして
ｎは０乃至１００を表す、（ポリ）カーボネート化合物（２）である。
【０１０７】
（ポリ）カーボネート化合物（２）において、炭素原子数１乃至１２のアルキル基は直鎖、可能であれば分枝状のアルキル基を表し、（ポリ）カーボネート化合物（１）に関して定義されたものと同様である。
【０１０８】
カルボキシ基で置換された炭素原子数１乃至１２のアルキル基として定義されるＲ3及
びＲ4は、好ましくはカルボキシメチル基又は１−又は２−カルボキシエチル基である。
【０１０９】
アリール基として定義されたＲ3及びＲ4は、好ましくはフェニル基又は１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基、例えばメチル基で置換されたフェニル基を表す。
【０１１０】
炭素原子数２乃至１２のアルケニル基として定義されるＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及び
Ｒ8は、直鎖又は可能であれば分枝状のアルケニル基であり、（ポリ）カーボネート化合
物（１）に関して定義されたものと同様である。
【０１１１】
炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基又は１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換された炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基として定義されるＲ3
及びＲ4は、（ポリ）カーボネート化合物（１）に関して上述に定義されたとおりである
。
【０１１２】
炭素原子数１乃至１２のアルキレン基として定義されたＸ1及びＸ2、並びに炭素原子数１乃至４のアルキレン基として定義されたＲ9及びＲ10は、（ポリ）カーボネート化合物
（１）に関して上述に定義されたような、直鎖又は可能であれば分枝状のアルキレン基である。
【０１１３】
−Ｏ−基で中断された炭素原子数４乃至２５のアルキレン基として定義されたＸ1及び
Ｘ2は、直鎖又は可能であれば分枝状であり、例えば、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−
基、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−基、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−基又は−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−基である。
【０１１４】
ヒドロキシ基又はアミノ基で置換された炭素原子数１乃至１２のアルキル基は、例えば、ヒドロキシメチル基、１−又は２−ヒドロキシエチル基、アミノメチル基又は１−又は２−アミノエチル基である。
【０１１５】
−Ｏ−基で中断されたヒドロキシ−炭素原子数４乃至１２のアルキル基は、例えば−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ基又は−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ基である。
【０１１６】
フッ素含有基は、分枝又は非分枝基であり、少なくとも一つのフッ素原子を含み、例えばフルオロ−炭素原子数１乃至２５のアルキル基であり：あるいは、ｐが１乃至５０である基（Ｂ）である。
【０１１７】
フルオロ−炭素原子数１乃至２５のアルキル基は、例えば、パーフルオロアルキル基、フルオロメチル基、２−フルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、５−フルオロペンチル基、６−フルオロヘキシル基、７−フルオロヘプチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロブチル基である。
【０１１８】
（ポリ）カーボネート化合物（２）は、既知の方法で得られる。ケイ素アルコールをビス（２，４−ジニトロフェニル）カーボネート（ＤＮＰＣ）で処理して２，４−ジニトロフェニルカーボネートのケイ素アルコールをそのまま得る。この誘導体は、例えば様々な分子量のヒドロキシ末端ビスフェノールＡオリゴマーによって単離又は分離可能である。Ｂｒｕｎｅｌｌｅら（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｕｃｕｌｅｓ １９９１，２４，３０３５−３０４４）はビスフェノールＡのダイマー及び環状オリゴマーの製造のためのビス（２，４−ジニトロフェニル）カーボネートの使用を開示している。カップリング反応もまた、例えばホスゲン又はカルボニルジイミダゾール（ＣＤＩ）などのカーボネート結合形成試薬によって実施可能である。
【０１１９】
特に好ましいケイ素含有基は、ｐ＝１０であるモノヒドロキシポリシロキサン；ｐ＝６４であるポリシロキサン；ポリアルキレンオキシド変性ヘプタメチルトリシルオキサン；又は３−（ポリオキシエチレン）プロピルヘプタメチルトリシロキサンから誘導される。代表的な構造式を以下に示す：
【化４７】
【０１２０】
好ましいビスフェノール出発物質は、（ポリ）カーボネート化合物（１）の製造に関して上述に示したものと同様である。
【０１２１】
（ポリ）カーボネート化合物（１）又は（２）は、成分ｂ）の基材に対して０．０１乃至５．０質量％、好ましくは０．２５乃至１．０質量％の量で添加される。（ポリ）カーボネート化合物（１）又は（２）の混合物の添加が提案される。
【０１２２】
別の実施態様によれば、本発明は、ポリマー安定剤並びに更なる難燃剤からなる群から選択された更なる添加剤をさらに含む組成物に関する。
【０１２３】
安定剤は好ましくはハロゲンを含まず、ニトロキシ安定剤、ニトロン安定剤、アミンオキシド安定剤、ベンゾフラノン安定剤、ホスフィット及びホスホナイト安定剤、キノンメチド安定剤及び２，２’−アルキリデンビスフェノールのモノアクリレートエステル安定剤から選択される。
【０１２４】
更なる難燃剤は既知の成分、市販品であり、或いは既知の方法で得られる。
【０１２５】
成分ｂ）に関して上述に定義されたものに加えて、代表的なリン含有難燃剤は、例えば：
テトラフェニルレゾルシノールジホスフィット（ＦＹＲＯＬＦＬＥＸ（登録商標）ＲＤＰ、アクゾノーベル社）、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウムスルフィド、トリフェニルホスフェート、ジエチル−Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−アミノメチルホスホネート、リン酸のヒドロキシアルキルエステル、アンモニウムポリホスフェート（ＡＰＰ）又は（ＨＯＳＴＡＦＬＡＭ（登録商標）ＡＰ７５０）、レゾルシノールジホスフェートオリゴマー（ＲＤＰ）、ホスファゼン難燃剤及びエチレンジアミンジホスフェート（ＥＤＡＰ）である。
【０１２６】
窒素含有難燃剤は、例えば、イソアシアヌレート難燃剤、例えばポリイソシアヌレート、イソシアヌル酸又はイソシアヌレートのエステルである。代表例は、ヒドロキシアルキルイソシアヌレート、例えばトリス−（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、トリス（ヒドロキシメチル）イソシアヌレート、トリス（３−ヒドロキシ−ｎ−プロピル）イ
ソシアヌレート又はトリグリシジルイソシアヌレートである。
【０１２７】
窒素含有難燃剤としては、メラミンベースの難燃剤が挙げられる。代表例は：メラミンシアヌレート、メラミンボレート、メラミンホスフェート、メラミンポリホスフェート、メラミンピロホスフェート、メラミンアンモニウムポリホスフェート及びメラミンアンモニウムピロホスフェートである。
【０１２８】
更なる例は：ベンゾグアナミン、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、アラントイン、グルコールウリル、メラミンシアヌレート、メラミンホスフェート、ジメラミンホスフェート、メラミンピロホスフェート、尿素シアヌレート、メラミンポリホスフェート、メラミンボレート、アンモニウムポリホスフェート、メラミンアンモニウムポリホスフェート又はメラミンアンモニウムピロホスフェート、メレム、メラム、メロンシリーズからのメラミン縮合生成物、及び／又は高縮合化合物、又はメラミンのリン酸との反応生成物、及び／又はメラミン縮合生成物とリン酸との反応生成物又はそれらの混合物である。
【０１２９】
特に強調すべきは：ジメラミンピロホスフェート、メラミンポリホスフェート、メレムポリホスフェート、メラムポリホスフェート及び／又はそのような種類の混合塩で与えられ、最も特にはメラミンポリホスフェートである。
【０１３０】
代表的なオルガノハロゲン難燃剤は、例えば：ポリ臭素化ジフェニルオキシド（ＤＥ−６０Ｆ、グレートレイクス社）、デカブロモジフェニルオキシド（ＤＢＤＰＯ；ＳＡＹＴＥＸ（登録商標）１０２Ｅ）、トリス［３−ブロモ−２，２−ビス（ブロモメチル）プロピル］ホスフェート（ＰＢ３７０（登録商標）、ＦＭＣコーポレーション）、トリス（２，３−ジブロモプロピル）ホスフェート、トリス（２，３−ジクロロプロピル）ホスフェート、クロレンド酸、テトラクロロフタル酸、テトラブロモフタル酸、ポリ−β−クロロエチルトリホスホネート混合物、テトラブロモビスフェノールＡビス（２，３−ジブロモプロピルエーテル）（ＰＥ６８）、臭素化エポキシ樹脂、エチレン−ビス（テトラブロモフタルイミド）（ＳＡＹＴＥＸ（登録商標）ＢＴ−９３）、ビス（ヘキサクロロシクロペンタジエノ）−シクロオクタン（ＤＥＣＬＯＲＡＮＥ ＰＬＵＳ（登録商標））、塩素化パラフィン、オクタブロモジフェニルエーテル、ヘキサクロロシクロペンタジエン誘導体、１，２−ビス（トリブロモフェノキシ）エタン（ＦＦ６８０）、テトラブロモビスフェノールＡ（ＳＡＹＴＥＸ（登録商標）ＲＢ１００）、エチレンビス−（ジブロモ−ノルボルナンジカルボキシイミド）（ＳＡＹＴＥＸ（登録商標）ＢＮ−４５１）、ビス−（ヘキサクロロシクロエンタデノ）シクロオクタン、ＰＴＦＥ、トリス−（２，３−ジブロモプロピル）−イソシアヌレート、及びエチレン−ビス−テトラブロモフタルイミドである。
【０１３１】
上述の難燃剤は、無機相乗酸化剤と通常組み合わせられる。この使用のために最も一般的なものは、酸化亜鉛又は酸化アンチモン、例えばＳｂ2Ｏ3又はＳｂ2Ｏ5である。ホウ素化合物もまた適当である。
【０１３２】
上述の更なる難燃剤類は、有機ポリマー基材の約０．５質量％乃至約４５．０質量％；例えば約１．０質量％乃至約４０．０質量％；例えば約５．０質量％乃至約３０．０質量％の量で、本発明の組成物中に有利に含まれる。
【０１３３】
上述したように、本発明の組成物は更に一種以上の慣用の添加剤、例えば、顔料、染料、可塑剤、抗酸化剤、チキソトロープ剤、レベリング助剤、塩基性補助安定剤、金属不動態化剤、金属酸化物、有機リン化合物、更なる光安定剤及びこれらの混合物、特に顔料、フェノール性抗酸化剤、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール及び／又は２−
（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン群の紫外線吸収剤を含み得る。より具体的な例は以下の成分である：
【０１３４】
１．抗酸化剤
アルキル化モノフェノール、
たとえば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、直線状若しくは側鎖で分岐したノニルフェノール、たとえば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノール及びそれらの混合物。
【０１３５】
アルキルチオメチルフェノール、
たとえば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【０１３６】
ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、
たとえば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【０１３７】
トコフェロール、
たとえば、α−、β−、γ−、δ−トコフェロール、及びそれらの混合物（ビタミンＥ）。
【０１３８】
ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、
たとえば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【０１３９】
アルキリデンビスフェノール、
たとえば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）−フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス
［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール）、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【０１４０】
Ｏ−、Ｎ−、及びＳ−ベンジル化合物、
たとえば、３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【０１４１】
ヒドロキシベンジル化マロネート、
たとえば、ジオクタデシル−２，２−ビス−（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【０１４２】
芳香族ヒドロキシベンジル化合物、
たとえば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【０１４３】
トリアジン化合物、
たとえば、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプ
ロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【０１４４】
ベンジルホスホネート
たとえば、ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【０１４５】
アシルアミノフェノール、
たとえば、４−ヒドロキシラウラニリド、４−ヒドロキシステアラニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバメート。
【０１４６】
β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル、例えばＩｒｇａｎｏｘ（登録商標）１０７６などの市販品。
【０１４７】
β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル；３，９−ビス［２−｛３−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］−ウンデカン。
【０１４８】
β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１４９】
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１５０】
β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド
たとえば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（ユニロイヤルによって供給されるナウガードＸＬ−１（登録商標 Ｎａｕｇａｒｄ））
【０１５１】
アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【０１５２】
２．光安定剤
２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
たとえば、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ
−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；
【化４８】
（式中、Ｒは３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル基を表す）、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］ベンゾトリアゾール；２−［２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール、例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ ２３４、３２６、３２９、３５０、３６０又はＴＩＮＵＶＩＮ １５７７などのＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）シリーズからの市販の光安定剤。
【０１５３】
２−ヒドロキシベンゾフェノン、
たとえば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシ、及び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【０１５４】
置換及び非置換の安息香酸のエステル、
たとえば、４−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−第三ブチルフェニル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【０１５５】
アクリレート、
たとえば、エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート及びＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
【０１５６】
ニッケル化合物
たとえば、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン、若しくはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンといった付加配位子を伴うか若しくは伴わない、１：１又は１：２の錯体といった、２，２’−チオビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステルのニッケル塩、たとえば、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のメチル若しくはエチルエステル、ケトキシム、たとえば、２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、付加的な配位子を伴うか若しくは伴わない１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【０１５７】
オキサミド、
たとえば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリド及びその２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合
物、並びに、ｏ−及びｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【０１５８】
２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
たとえば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−[２−ヒドロキシ−４−［３−（２−
エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル]−４，６−
ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【０１５９】
３．金属奪活剤
たとえば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【０１６０】
４．更なるホスフィット及びホスホナイト、
たとえば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニ
ル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’―ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット、５−ブチル−５−エチル−２−（２，４，６−トリ−第三ブチルフェノキシ）−１，３，２−ジオキサホスフィラン。
【０１６１】
特に好まれるのは以下のホスフィットである：
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット（イルガフォス１６８、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社（登録商標：Ｉｒｇａｆｏｓ））、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、
【化４９】
【０１６２】
５．さらなるニトロン、
たとえば、Ｎ−ベンジル−アルファ−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−アルファ−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−アルファ−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−アルファ−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−アルファ−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル
−アルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘキサデシルニトロン、水素化牛脂アミン由来のＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン由来のニトロン。
【０１６３】
６．チオ相乗剤、
たとえば、ジラウリルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピオネート。
【０１６４】
７．過酸化物捕捉剤、
たとえば、β−チオジプロピオン酸のエステル、たとえばラウリル、ステアリル、ミリスチル、若しくはトリデシルエステル、メルカプトベンゾイミダゾール若しくは２−メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【０１６５】
８．ポリアミド安定剤、
たとえば、ヨウ化物及び／又はリン化合物と組合せた銅塩、及び、二価マンガン塩。
【０１６６】
９．塩基性補助安定剤、
たとえば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ポリアミド、ポリウレタン、たとえばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレート、及びカリウムパルミテートなどの高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、アンチモンピロカテコレート、又は亜鉛ピロカテコレート。
【０１６７】
１０．核剤、
たとえば、タルクなどの無機物質、二酸化チタン又は酸化マグネシウムなどの金属酸化物、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸塩、又は硫酸塩；モノあるいはポリカルボン酸などの有機化合物及びそれらの塩、たとえば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウム；イオン化コポリマー（アイオノマー）などのポリマー化化合物。特に好ましいのは、１，３：２，４−ビス（３’，４’−ジメチルベンジリデン）ソルビトール、１，３：２，４−ジ（パラメチルジベンジリデン）ソルビトール、及び１，３：２，４−ジ（ベンジリデン）ソルビトール。
【０１６８】
１１．更なる充填剤及び強化剤、
たとえば、炭酸カルシウム、シリケート、ガラスファイバー、ガラス球、ステンレススチールファイバー、アラミドファイバー、アスベスト、タルク、カオリン、マイカ、硫酸バリウム、金属酸化物及び金属水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉及び他の天然物の粉末又は繊維、合成繊維。
【０１６９】
１２．その他の添加剤、
たとえば、ブレンド相溶化剤、可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流量調整剤、蛍光増白剤、防炎剤、帯電防止剤、及び発泡剤。
【０１７０】
１３．更なるベンゾフラノン及びインドリノン、
たとえば、米国特許第４，３２５，８６３号明細書；米国特許第４，３３８，２４４号明細書；米国特許第５，１７５，３１２号明細書；米国特許第５，２１６，０５２号明細書；米国特許第５，２５２，６４３号明細書；独国特許出願公開第４３１６６１１号明細書；独国特許出願公開第４３１６６２２号明細書；独国特許出願公開第４３１６８７６号明
細書；欧州特許出願公開第０５８９８３９号明細書、欧州特許出願公開第０５９１１０２号明細書に開示されるもの、又は、３−［４−（２−アセトキシエトキシ）−フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン。
【０１７１】
上述に定義した組成物への好ましい更なる添加剤は、プロセス安定剤、例えば上述に定義したホスフィット及びフェノール性抗酸化剤、並びに光安定剤、例えばベンゾトリアゾールである。好ましい特定の抗酸化剤としては、オクタデシル−３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート（ＩＲＧＡＮＯＸ １０７６）が挙げられる。特定のプロセス安定剤としては、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット（ＩＲＧＡＦＯＳ １６８）及びテトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４’−ジイルビスホスホナイト（ＩＲＧＡＦＯＳ Ｐ−ＥＰＱ）が挙げられる。特定の光安定剤としては、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ ２３４）、２−（５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（メチル）−６−（第三ブチル）フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ ３２６）、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ ３２９）、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（第三ブチル）−６−（第二ブチル）フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ ３５０）、２，２’−メチレンビス（６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール）（ＴＩＮＵＶＩＮ ３６０）、及び２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ １５７７）である。
【０１７２】
上述の添加剤は、ポリマー成分ｂ）の質量に対して、好ましくは０．０１乃至１０質量％、特に０．０５乃至５．０質量％の量で含まれる。
【０１７３】
添加剤成分ａ）及び所望により更なる成分のポリマー成分ｂ）への混和は、既知の方法で、例えばパウダー形態でのドライ混合、又は例えば不活性な溶媒、水又はオイルの溶液、分散液又は懸濁液の形態でのウェット混合で、実施される。添加剤成分ａ）及び所望により更なる添加剤は、例えば、成形の前後、又は溶解又は分散させた添加剤又は添加剤混合物を、次に溶媒又は懸濁剤／分散剤の蒸発を伴うか又は伴わずに、同様にポリマー材料に適用することによって、混和され得る。これらは、例えばドライ混合物又はパウダーとして、或いは、溶液又や分散液又は懸濁液又は溶融物として、処理装置（例えば押出機、内部ミキサーなど）へ直接加えられ得る。
【０１７４】
添加剤成分のポリマー基材ｂ）への添加は、ポリマーが溶融し添加剤と混合されるようなあらゆる通例の混合装置で実施可能である。適当な装置は当業者に既知である。これらは主にミキサー、ニーダー及び押出機である。
【０１７５】
本プロセスは、好ましくは、処理中に押出機内に添加剤を添加することによって実施される。
【０１７６】
特に好ましい処理装置は、単軸押出機、二重反転及び共回転二軸押出機、遊星ギア押出機、環状押出機又は共ニーダーである。真空が適用できる少なくとも一種のガス除去区画を備えた処理装置の使用もまた可能である。
【０１７７】
適当な押出機及びニーダーは、例えば、Ｈａｎｄｂｕｃｈ ｄｅｒ Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｅｘｔｒｕｓｉｏｎ，１巻 Ｇｒｕｎｄｌａｇｅｎ，編者 Ｆ．ハンセン，Ｗ．クナッペ，Ｈ．ポテンテ，１９８９年，３−７頁，ＩＳＢＮ：３−４４６−１４３３９−４（２巻 Ｅｘｔｒｕｓｉｏｎｓａｎｌａｇｅｎ １９８６年，ＩＳＢＮ：３−４４６−１４３２９−７）に記載されている。
【０１７８】
例えば、スクリュー長はスクリュー径１−６０であり、好ましくはスクリュー径３５−４８である。スクリューの回転速度は、好ましくは１０−６００回転／分（ｒｐｍ）、好ましくは２５−３００ｒｐｍである。
【０１７９】
最大スループットは、スクリュー径、回転速度及び駆動力によって決まる。本発明の方法はまた、上述のパラメーターの変動又は投与量を供給する計量機の導入によって、最大スループットより低いレベルでも実施され得る。
【０１８０】
多量の成分が添加される場合、事前混合又は個々に添加され得る。
【０１８１】
添加剤成分ａ）及び所望により更なる添加剤はまた、ポリマー基材ｂ）上に噴霧され得る。他の添加剤がこれらの添加剤と共に該ポリマー基材上に噴霧できるように、添加剤混合物は他の添加剤、例えば上述した一般的な添加剤やそれらの溶融物を希釈する。重合触媒の非活性化の間の噴霧による添加は、特に有利である；この場合、発生した蒸気は触媒の非活性化のために使用され得る。球状に重合されたポリオレフィンの場合、例えば、所望により他の添加剤と共に本発明の添加剤を噴霧によって適用することは有利であり得る。
【０１８２】
添加剤成分ａ）及び所望により更なる添加剤はまた、マスターバッチ（“濃縮物”）の形態で、ポリマー中に添加可能であり、それはポリマー中に約１．０質量％乃至約４０．０質量％、好ましくは２．０質量％乃至約２０．０質量％の濃度で混和された成分を含むものである。ポリマーは、添加剤が最後に添加されたポリマーと同一構造を有する必要はない。この方法において、ポリマーは、パウダー、顆粒、溶液及び懸濁液形態で、又は格子形態で使用可能である。
【０１８３】
混和は、成型操作の前又は操作中に実施され得る。本書に記載された本発明の添加剤を含む材料は、好ましくは、成形物品、例えば回転成形物品、射出成形物品、プロファイルなど、特に繊維、スパンメルト不織布、フィルム又はフォームの製造に使用される。
【０１８４】
このように、本発明はさらに、本発明の組成物を含む成形又は押出物品、繊維、スパンメルト不織布又はフォームに関する。
【実施例】
【０１８５】
以下の実施例は本発明を説明する：
実施例
材料及び方法
ＰＣ１４５樹脂（ＧＥプラスチックス社）を８時間１２０℃で真空乾燥し、イルガフォス（ＩＲＧＡＦＯＳ）（登録商標）Ｐ−ＥＰＱ（チバ スペシャルティ ケミカルズ社）で安定化させた。ダイネオン（Ｄｙｎｅｏｎ）ＰＡ５９３１（＝ＰＴＦＥ）をアンチドリッピング剤として用いた。
表１に示すポリカーボネート組成物を、Ｈａａｋｅ ＴＷ−１００上に２８０℃で押し出し、ストランド造粒でペレット化した。１２０℃、１２時間の乾燥後、造粒した組成物を２９０℃で、保険業者研究所難燃性基準ＵＬ−９４に従って、１．６ｍｍ又は３．２ｍｍ厚さのプラークに射出成形した。
ＵＬ−９４に従って、垂直モードで試験した。
【０１８６】
【表１】
【０１８７】
難燃剤（ＦＲ）は下記組成物を表す：
（１）ＴＩＮＯＰＡＬ ＳＦＰ：４，４’−ビス（２−アミノ−４−モノエタノールアミノ−６−ｓ−トリアジニル）ジアミノスチルベン−２，２’−ジスルホン酸ナトリウム（上記構造式、成分ａ）の定義参照）
（２）ＴＩＮＯＧＡＲＤ ＨＳ：３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシ−５−（１−メチルプロピル）−ベンゼンスルホン酸ナトリウム（上記構造式、成分ａ）の定義参照）
（３）ＴＩＮＯＰＡＬ ＣＢＳ：２，２’−（４，４’−ビフェニルジイルジ−２，１−エテネジイル）−ジベンゼンスルホン酸二ナトリウム（上記構造式、成分ａ）の定義参照）
（４）ＴＩＮＯＧＡＲＤ ＡＯ ６（上記構造式、成分ａ）の定義参照）
（５）ＴＩＮＯＧＡＲＤ ＡＯ ６Ｋ（ＴＩＮＡＧＡＲＤ ＡＯ ６のカリウム塩、成分ａ）の定義参照）。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、選択された芳香族スルホン酸の塩とポリカーボネートを含む難燃剤組成物、並びに、ポリカーボネートと選択された芳香族スルホン酸の塩を含むポリマー基材に対して難燃性能を付与する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリカーボネートは非常に強靭で、突出した透明性、幾つかのポリマーとの優れた相溶性、そして高い加熱歪耐性を有する熱可塑性ポリマーである。ポリカーボネートは一般式
【化１】
に対応する。
【０００３】
経済的に最も重要なポリカーボネートは、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンポリカーボネート（１）であり、ビスフェノールＡポリカーボネート［２４９３６−６８−３］（ＢＰＡ−ＰＣ）とも呼ばれる。
【化２】
参照．Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓ Ｅｎｃｙｃｌｏｐａｅｄｉａ ｏｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｏｎ−Ｌｉｎｅ Ｅｄｉｔｉｏｎ、Ｗｉｅｌｙ−ＶＣＨ，ＤＯＩ：１０，１００２／１４３５６００７ ．ａ２１＿２０７，及びＰｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅを，Ｒｏｅｍｐｐ Ｏｎ−ｌｉｎｅ，ｗｗｗ．ｒｏｅｍｐｐ．ｃｏｍに入力。
【０００４】
ポリカーボネートの機械特性、化学特性及び熱的特性を改善する為の様々な添加剤が知られている。フッ化炭素末端のポリカーボネートは、有機材料の、好ましくはポリカーボネート、ポリエステル、ポリアクリレート又はポリメタクリレート、又はそれらの混合物、ブレンド又はアロイに対する、表面エネルギー低化剤、すなわち“表面改質剤”などの様々な技術的応用に対して有用である。表面エネルギーを減少させたポリマーは、例えば“洗浄容易”、“セルフクリーニング”、“耐汚れ性”、“ソイルリリース”、“耐落書き性”、“耐油性”、“耐溶剤性”、“耐薬品性”、“耐潤滑性”、“耐スクラッチ性”、“低水分吸収性”そして“疎水性”表面といった望ましい特性を備えている。特定の有用なフッ化炭素末端のポリカーボネートの製造は、国際出願ＰＣＴ／ＥＰ２００４／０５３３３１号明細書に記載されている。
【０００５】
難燃剤は、ポリマーの難燃特性を増強する為に（合成又は天然の）ポリマー材料に添加される。それらの組成によって、難燃剤は固体相、液体相、或いはガス相で作用し、化学的には、例えば窒素遊離による泡立ちとして、及び／又は物理的には、例えば泡の適用範囲を生成することによって作用する。難燃剤は、特に燃焼プロセスの段階において、例えば燃焼中、分解中、発火中又は燃焼の拡大中に妨げる。
【０００６】
難燃剤のポリカーボネートへの添加は既知である；Ｊ．Ｔｒｏｉｔｚｓｃｈ，Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｆｌａｍｍａｂｉｌｉｔｙ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，第３版，Ｈａｎｓｅｒ Ｐｕ
ｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｍｕｎｉｃｈ ２００４年，１５８−１７２頁（ＩＳＢＮ ３−４４６−２１３０８−２）参照。
【０００７】
アルカリ金属、アルカリ土類金属又はアンモニウム塩ベースの難燃剤は、低濃度で特に適する。これらの塩の中でも、過フッ素アルカンスルホネートがより好ましいものに属する。これらのポリカーボネートにおける難燃剤としての使用は既に既知である；Ｔ．Ｉｓｈｉｋａｗａら，Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｐａｒｔ Ａ−Ｐｕｒｅ ａｎｄ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ａ４１巻，５章、５２３−５３５頁、２００４年参照。
【０００８】
試料厚さが１．６ｍｍより薄いか又は同じであることが要求される用途において、ＵＬ−９４（保険業者研究所対象９４）によるＶ−０の難燃性は、ポリテトラフルオロエチレンなどの所謂アンチドリッピング剤の添加によって得られる。難燃剤の為の他の助添加剤は、例えばハロアリールホスフェート（米国特許第５，４７８，８７４号明細書参照）又はグアニジン塩（米国特許第６，５１８，３４０号公報参照）などが提案されている。異なる構造を有するポリシロキサンの添加は、様々な文献に提案されている（米国特許第６，６６０，７８７号明細書、米国特許第６，７２７，３０２号明細書、又は米国特許第６，７３０，７２０号明細書参照）。これら添加剤の問題点は、実際にはＶ−０等級に到達する為に難燃剤の濃度を増加させねばならないこという現実に見られ、それは、ポリカーボネートの機械特性、化学特性及び熱的特性に対して有害となる。
【特許文献１】国際出願ＰＣＴ／ＥＰ２００４／０５３３３１号明細書
【特許文献２】米国特許第５，４７８，８７４号明細書参照
【特許文献３】米国特許第６，５１８，３４０号公報参照
【特許文献４】米国特許第６，６６０，７８７号明細書、
【特許文献５】米国特許第６，７２７，３０２号明細書、
【特許文献６】米国特許第６，７３０，７２０号明細書参
【非特許文献１】Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓ Ｅｎｃｙｃｌｏｐａｅｄｉａ ｏｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｏｎ−Ｌｉｎｅ Ｅｄｉｔｉｏｎ、Ｗｉｅｌｙ−ＶＣＨ，ＤＯＩ：１０，１００２／１４３５６００７ ．ａ２１＿２０７，及びＰｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅを入力，Ｒｏｅｍｐｐ Ｏｎ−ｌｉｎｅ，ｗｗｗ．ｒｏｅｍｐｐ．ｃｏｍ。
【非特許文献２】Ｊ．Ｔｒｏｉｔｚｓｃｈ，Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｆｌａｍｍａｂｉｌｉｔｙ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，第３版，Ｈａｎｓｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｍｕｎｉｃｈ ２００４年，１５８−１７２頁（ＩＳＢＮ ３−４４６−２１３０８−２）
【非特許文献３】Ｔ．Ｉｓｈｉｋａｗａら，Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｐａｒｔ Ａ−Ｐｕｒｅ ａｎｄ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ａ４１巻，５章、５２３−５３５頁、２００４年
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００９】
従って、本発明は、ポリカーボネートにおける難燃剤として低濃度で適応可能な、適当な添加剤を見出すことに関する。驚くべきことに、選択された芳香族スルホン酸の塩が低濃度であっても特に適する添加剤であることが見出された。アルカリ金属、アルカリ土類金属又はアンモニウム塩ベースの難燃剤などの第一選択の難燃剤のように、選択された芳香族スルホン酸の塩はポリカーボネート中に少量で存在し、そして低投薬レベルのために、ポリマー力学及び他の特性に顕著な悪影響を与えない。
【００１０】
本発明は組成物、特に、
ａ）
ａ1）式（Ｉ）
【化３】
（式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して−ＮＨ2基、−ＮＨ−炭素原子数１乃至４のアルキル基
、−Ｎ（炭素原子数１乃至４のアルキル）2基、−ＮＨ−ヒドロキシ−炭素原子数２乃至
４のアルキル基、−Ｎ（ヒドロキシ−炭素原子数２乃至４のアルキル）2基、−Ｎ（炭素
原子数１乃至４のアルキル）（ヒドロキシ−炭素原子数２乃至４のアルキル）基、フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数１乃至４
のアルキル基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される１乃至３つの置換基によって置換されたフェニルアミノ基又はジフェニルアミノ基、又は５員又は６員の飽和Ｎ−ヘテロ環基を表し；
Ｒ1’及びＲ2’はＲ1及びＲ2として定義されたものと同様のものを表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す。）で
表されるトリアジニルアミノスチルベンジスルホン酸塩；
ａ2）式（ＩＩ）
【化４】
（式中、
Ｒ1は水素原子、炭素原子数１乃至４のアルキル基又はＳ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基を表し；
Ｒ2は水素原子又はヒドロキシ基を表し；
Ｒ3は水素原子、炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数１乃至４のアルコキシ基
又はベンジル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す。）で
表される２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾリルスルホン酸塩；
ａ3）式（ＩＩＩ）
【化５】
（式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数
１乃至４のアルキル基、フェニル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、ヒドロキシ基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される置換基を表し；
Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’は夫々互いに独立して水素原子、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数１乃至４のアルキル基、フェニル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、ヒドロキシ基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される置換基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す。）で
表されるスルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体；そして
ａ4）式（ＩＶ）
【化６】
（式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数
１乃至４のアルキル基、フェニル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、ヒドロキシ基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される置換基を表し；
Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’は夫々互いに独立して水素原子、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数１乃至４のアルキル基、フェニル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、ヒドロキシ基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される置換基を表し；そして、
Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す。）で
表されるスルホ置換された２，５−ビス−（ベンゾオキサゾリル）−チオフェン誘導体；ａ5）式（Ｖ）
【化７】
（式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子、又は炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、アリール基及びアリール−炭素原子数１乃至４のアルキル基からなる群から選択される置換基を表し；
Ｒ3は水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し：
Ｘは炭素原子数２乃至６のアルキレン基を表し；
Ａｒはフェニル基、炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、アリール基及びアリール−炭素原子数１乃至４のアルキル基からなる群から選択される１つ又は２つの置換基で置換されたフェニル基、ナフチル基、又は、１乃至４つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換されたナフチル基を表す。）で表されるスルホ置換されたフェノール誘導体からなる群から選択される少なくとも一種の芳香族スルホン酸の塩；
ｂ）Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す；
及びポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材
を含む、難燃剤組成物に関する。
【００１１】
本発明の好ましい実施態様は組成物、特に、
ａ）
ａ1）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が夫々互いに独立して−ＮＨ2基、−Ｎ（炭素原子数１乃至４のアルキル）2基、−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数１乃至４のアルキル基及び炭素原子数１乃至４
のアルコキシ基からなる群から選択される１乃至３つの置換基によって置換されたフェニルアミノ基、又は５員又は６員の飽和Ｎ−ヘテロ環基を表し；
Ｒ1’及びＲ2’はＲ1及びＲ2として定義されたものと同様のものを表し：そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、トリアジニルアミノスチルベンスルホン酸塩（Ｉ）；
ａ2）前記式中、
Ｒ1が水素原子を表し；
Ｒ2が水素原子を表し；そして
Ｒ3が水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾリルスルホン酸塩（ＩＩ）；そして
ａ3）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が夫々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’のうちの一つが−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基を表し、その他のものが水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体（Ｉ
ＩＩ）；そして
ａ4）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が夫々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’が夫々互いに独立して水素原子、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基及び炭素原子数１乃至４のアルキル基からなる群から選択される置換基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホ置換された２，５−ビス−（ベンゾオキサゾリル
）−チオフェン誘導体（ＩＶ）；そして
ａ5）前記式中、
Ｒ1及びＲ2夫々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；
Ｒ3が水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；
Ｘが炭素原子数２乃至６のアルキレン基を表し；
Ａｒがフェニル基、又は１又は２つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換されたフェニル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホ置換されたフェノール誘導体（Ｖ）、
からなる群から選択された少なくとも一種の芳香族スルホン酸の塩、並びに
ｂ）ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材
を含む難燃剤組成物に関する。
【００１２】
特に好ましい実施態様は組成物、特に
ａ）
ａ1）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が夫々互いに独立して−Ｎ（炭素原子数１乃至４のアルキル）2基、１又は２
つの−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基で置換されたフェニルアミノ基、又はモルホリニル基を表
し；
Ｒ1’及びＲ2’はＲ1及びＲ2として定義されたものと同様のものを表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、トリアジニルアミノスチルベンジスルホン酸塩（Ｉ）；
ａ2）前記式中、
Ｒ1が水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；
Ｒ2が水素原子又はヒドロキシ基を表し；そして
Ｒ3が水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾリルスルホン酸塩（ＩＩ）；そして
ａ3）前記式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’のうちの一つが−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基を表し、その他のものが水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；そして
Ｍ＋がアルカリ金属原子を表す、スルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体（Ｉ
ＩＩ）；そして
ａ5）前記式中、
Ｒ1及びＲ2のうちの一つがメチル基を表し、そしてその他の一つが第三ブチル基を表し、或いはＲ1及びＲ2の双方が第三ブチル基を表し；
Ｒ3が水素原子又はメチル基を表し；
Ｘが炭素原子数２乃至４のアルキレン基を表し；
Ａｒが１つのメチル基及び１つの第三ブチル基で置換されるか、又は２つの第三ブチル基で置換されたフェニル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホ置換されたフェノール誘導体（Ｖ）、
からなる群から選択される少なくとも一種の芳香族スルホン酸の塩；並びに、
ｂ）ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材
を含む、難燃剤組成物に関する。
【００１３】
非常に好ましい実施態様は、組成物、特に、
ａ）
ａ1）前記式中、
Ｒ1及びＲ2のうちの一つが−Ｎ（炭素原子数１乃至４のアルキル）2基を表し、その他の
一つが２つの−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基で置換されたフェニルアミノ基を表し；
Ｒ1’及びＲ2’はＲ1及びＲ2として定義されたものと同様のものを表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、トリアジニルアミノスチルベンジスルホン酸塩（Ｉ）；
ａ2）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が水素原子を表し；そして
Ｒ3が水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾリルスルホン酸塩（ＩＩ）；そして
ａ3）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が水素原子を表し；
Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’のうちの一つが−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基を表し、そしてその他のものが水素原子を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体（Ｉ
ＩＩ）；そして
ａ5）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が第三ブチル基を表し；
Ｒ3が水素原子を表し；
Ｘがエチレン基を表し；
Ａｒが２つの第三ブチル基で置換されたフェニル基を表し；そして、
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホ置換されたフェノール誘導体（Ｖ）；
からなる群から選択される少なくとも一種の芳香族スルホン酸の塩、並びに
ｂ）ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材
を含む、難燃剤組成物に関する。
【００１４】
最も好ましい実施態様は組成物、特に、
ａ）
ａ1）式（Ｉ’）で表されるトリアジニルアミノスチルベンジスルホン酸塩
【化８】
ａ2）式（ＩＩ’）で表される２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾ
リルスルホン酸塩
【化９】
及び、
ａ3）式（ＩＩＩ’）で表されるスルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体
【化１０】
及び、
ａ5）式（Ｖ’）で表されるスルホ置換されたフェノール誘導体の塩、
【化１１】
からなる群から選択される少なくとも一種の芳香族スルホン酸の塩、並びに
ｂ）ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材、
を含む、難燃剤組成物に関する。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の組成物は、光透過性などのポリカーボネートの優れた機械特性、化学特性及び熱的特性を維持しながら、ＵＬ−９４（保険業者研究所対象９４）による望ましいＶ−０等級、並びに、関連する試験法において他の優れた等級を達成する。
【００１６】
上述した該組成物は、以下の成分を含む：
成分ａ）
芳香族スルホン酸の塩という用語は、好ましくは金属塩、例えばアルカリ金属又はアルカリ土類金属塩、例えばナトリウム、カリウム、カルシウム塩をその範囲に含む。
【００１７】
他の実施態様によれば、塩という用語は非金属の塩、例えばアンモニウム、（炭素原子数１乃至２２のアルキル）1-4アンモニウム、又は（２−ヒドロキシエチル）1-4アンモニウム、例えばテトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム又は２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウム塩を含む。
【００１８】
従って、上記式におけるカチオンＭ+は、アルカリ金属原子、例えばナトリウム又はカ
リウムイオン、アンモニウムイオン又はアミンから形成されたカチオン、例えば（炭素原子数１乃至２２のアルキル）1-4アンモニウム又は（２−ヒドロキシエチル）1-4アンモニウム、例えば、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、又は２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムイオンをその範囲に含む。
トリアジニルアミノスチルベンジスルホン酸塩（Ｉ）においてＲ1及びＲ2中、並びに準用するＲ1’及びＲ2’中に存在する、炭素原子数１乃至４のアルキル基は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基又は第三ブチル基である。
ヒドロキシ−炭素原子数２乃至４のアルキル基は、好ましくは２−ヒドロキシエチル基である。
−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数１乃至４のアルキル基及び炭素原子数１乃至４
のアルコキシ基から選択される１−３つの置換基によって置換されたフェニルアミノ基又はジフェニルアミノ基は、例えば、一つ又は二つの−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｎａ+基、或いは
一つ又は二つのメチル基又はメトキシ基でフェニル基が置換されている、フェニルアミノ基又はジフェニルアミノ基である。
炭素原子数１乃至４のアルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、又は第三ブトキシ基である。
５−又は６−員の飽和Ｎ−ヘテロ環は、例えば、ピロリジニル環、ピペリジニル環又は好ましくはモルホリニル環である。
【００１９】
特に好ましいものは、Ｔｉｎｏｐａｌ（登録商標）ＳＰＦ（チバ スペシャルティ ケミカルズ社）である：４，４’−ビス（２−アミノ−４−モノエタノールアミノ−６−ｓ−トリアジニル）−ジアミノスチルベン−２，２’−ジスルホン酸ナトリウム：
【化１２】
【００２０】
トリアジニルアミノスチルベンジスルホン酸塩（Ｉ）は既知の化合物である。
これらの蛍光増白剤としての技術的応用並びにその製法は、国際公開第２００５／０６８５９７号パンフレットに記載されている。２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾリルスルホン酸塩（ＩＩ）において、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3に存在するＭ+、炭素原子数１乃至４のアルキル基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基の定義は、化合物（Ｉ）における定義に該当する。
【００２１】
特に好ましいものは、Ｔｉｎｏｇａｒｄ（登録商標）ＨＳ（チバ スペシャルティ ケミカルズ社）である：３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシ−５−（１−メチルプロピル）−ベンゼンスルホン酸ナトリウム：
【化１３】
【００２２】
２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾリルスルホン酸塩（ＩＩ）は既知の化合物である。織物における光感受性に対する光安定剤としてのこれらの技術的応用及びこれら化合物の製法は、国際公開第８４／０２３６５号パンフレットに記載されている。
【００２３】
スルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体（ＩＩＩ）において、Ｒ1及びＲ2並びにＲ1’及びＲ2’に存在するＭ+、炭素原子数１乃至４のアルキル基及び炭素原子数１
乃至４のアルコキシ基の定義は化合物（Ｉ）における定義に該当する。
【００２４】
フェニル−炭素原子数１乃至４のアルキル基は、例えば、ベンジル基又は１−若しくは２−フェネチル基である。
【００２５】
特に好ましいものはＴＩＮＯＰＡＬ ＣＢＳである：２，２’−（４，４’−ビフェニルジイルジ−２，１−エテンジイル）−ジベンゼンスルホン酸二ナトリウム；
【化１４】
【００２６】
スルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体は既知の化合物である。
これらの蛍光増白剤としての技術的応用及びそれらの製法は米国特許第３，９８４，３９９号明細書に記載されている。
【００２７】
スルホ置換されたフェノール誘導体（Ｖ）において、Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子、又は炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、アリール基及びアリール−炭素原子数１乃至４のアルキル基からなる群から選択された置換基を表す。
炭素原子数１乃至４のアルキル基はメチル基、エチル基、ｎ−若しくはイソプロピル基又はｎ−、イソ−若しくは第三ブチル基である。
炭素原子数５乃至６のシクロアルキル基は、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基である。
炭素原子数５乃至６のシクロアルキル−炭素原子数１乃至４のアルキル基は、例えばシクロペンチルメチル基又はシクロヘキシルメチル基である。
アリール基は好ましくはフェニル基である。
アリール−炭素原子数１乃至４のアルキル基は好ましくはベンジル基又は２−フェニルエチル基である。
【００２８】
Ｒ3は好ましくは水素原子又はメチル基である。
【００２９】
炭素原子数２乃至６のアルキレン基として定義されたＸは、好ましくは直鎖状、例えばエチレン基、ｎ−プロピレン基又はｎ−ブチレン基である。
【００３０】
炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル−炭素原子数１乃至４のアルキル基からなる群から選択される１つ又は２つの置換基によって置換されたフェニル基として定義されたＡｒは、例えば、１つのメチル基及び１つの第三ブチル基で置換されたフェニル基、又は、２つの第三ブチル基で置換されたフェニル基、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基で置換されたフェニル基、ベンジル基で置換されたフェニル基、或いはシクロペンチルメチル基又はシクロヘキシルメチル基で置換されたフェニル基である。
【００３１】
１−４つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換されたナフチル基は、例えば１−４つのメチル基で置換されたナフチル基、１つのメチル基又は１つの第三ブチル基で置換されたナフチル基、或いは、２つの第三ブチル基で置換されたナフチル基である。
【００３２】
スルホ置換されたフェノール誘導体（Ｖ）は既知の化合物であり、既知の方法、例えば、米国特許第３，６６５，０３１号明細書に記載されるような方法によって製造可能である。
【００３３】
好ましい実施態様に従って、スルホ置換されたフェノール誘導体（Ｖ）は以下の構造式で表される：
【化１５】
式中、Ｒ1及びＲ2の一方はメチル基を、他方は第三ブチル基を表すか、あるいはＲ1及
びＲ2の双方が第三ブチル基を表し、そしてＭ+はアルカリ金属イオンを表す。
【００３４】
特に好ましい実施態様に従って、スルホ置換されたフェノール誘導体（Ｖ）は以下の構造式
【化１６】
で表され、これはチバ スペシャルティ ケミカルズ社より市販されている（Ｔｉｎｏｇａｒｄ（登録商標）ＡＯ ６）。
【００３５】
成分ｂ）
ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材は、任意のグレードのものであり得、任意の既知の方法によって製造され得る。ポリマー基材という用語は、任意のポリカーボネートホモポリマー又はそれらのコポリマー、例えばポリエステルとのコポリマーをその範囲に含む。
【００３６】
ポリカーボネートは一般式：
【化１７】
に対応する熱可塑性ポリマーである。
【００３７】
ポリカーボネートは、界面プロセスによって又は溶融プロセス（触媒エステル交換）によって得られる。ポリカーボネートは分枝状又は線状の構造であり得、任意の官能性置換基を含み得る。ポリカーボネートコポリマー及びポリカーボネートブレンドもまた、本発明の範囲内である。ポリカーボネートという用語は、他の熱可塑性プラスチックスとのコポリマー及びブレンドを含めたものとして解釈されるべきである。ポリカーボネートの製造方法は、例えば、米国特許第３，０３０，３３１号明細書；米国特許第３，１６９，１２１号明細書；米国特許第４，１３０，４５８号明細書、米国特許第４，２６３，２０１号明細書；米国特許第４，２８６，０８３号明細書；米国特許第４，５５２，７０４号明細書；米国特許第５，２１０，２６８号明細書及び米国特許第５，６０６，００７号明細書などによって既知である。二種以上の異なる分子量を有するポリカーボネートの組み合わせが使用され得る。
【００３８】
好ましいものは、ジフェノール、例えばビスフェノールＡのカーボネート源との反応によって得られ得るポリカーボネートである。適当なジフェノールの例は：
【化１８】
４，４’−（２−ノルボルニリデン）ビス（２，６−ジクロロフェノール）；又は
フルオレン−９−ビスフェノール：
【化１９】
である。
【００３９】
該カーボネート源はカルボニルハライド、カーボネートエステル又はハロホルメートであり得る。適当なカーボネートハライドは、ホスゲン又はカルボニルブロミドである。適当なカーボネートエステルは、ジアルキルカーボネート、例えばジメチル−又はジエチルカーボネート、ジフェニルカーボネート、フェニル−アルキルフェニルカーボネート、例えばフェニル−トリルカーボネート、ジアルキルカーボネート、例えばジメチル−又はジエチルカーボネート、ジ−（ハロフェニル）カーボネート、例えばジ−（クロロフェニル）カーボネート、ジ−（ブロモフェニル）カーボネート、ジ−（トリクロロフェニル）カーボネート又はジ（トリクロロフェニル）カーボネート、ジ−（アルキルフェニル）カーボネート、例えばジ−トリルカーボネート、ナフチルカーボネート、ジクロロナフチルカーボネートなどである。
【００４０】
他のプロセスの詳細、例えば分子量調整剤、酸受容体、触媒の添加は、上記文献に開示されている。
【００４１】
更なる実施態様に基づいて、ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材は、そこにはイソフタレート／テレフタレート−レゾルシノールセグメントが存在するポリカーボネートコポリマーである。そのようなポリカーボネートは市販されており、例えば、Ｌｅｘａｎ（登録商標）ＳＬＸ（ゼネラル エレクトリック社、ＵＳＡ）である。
成分ｂ）の他のポリマー基材は、混合物形態又はコポリマー形態で、例えばポリオレフィン、ポリスチレン、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリ（メタ）アクリレート、熱可塑性ポリウレタン、ポリスルホン、ポリアセタール及びＰＶＣなどの様々な合成ポリマーを、適当な親和性剤と共に、更に含み得る。
例えば、ポリマー基材は、ポリオレフィン、熱可塑性ポリウレタン、スチレンポリマー及びそれらのコポリマーからなる樹脂群から選択される熱可塑性ポリマーを更に含み得る。具体的な実施態様としては、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、グリコール変性ポリシクロヘキシレンメチレンテレフタレート（ＰＣＴＧ）、ポリスルホン（ＰＳＵ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ），アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）、アクリロニトリル−スチレン−アクリル酸エステル（ＡＳＡ）、アクリロニトリル−エチレン−プロピレン−スチレン（ＡＥＳ）、スチレン−マレイン酸無水物（ＳＭＡ）又は高衝撃ポリスチレン（ＨＩＰＳ）が挙げられる。
【００４２】
適当な合成ポリマーの一覧は以下の通りである：
１．モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィン、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（所望により架橋され得る）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度及び高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度及び超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）。
【００４３】
ポリオレフィン、すなわち前の段落において例示したモノオレフィンのポリマー、望ましくはポリエチレン及びポリプロピレンは、異なる方法によりそしてとりわけ以下の方法により調製され得る：
ａ）ラジカル重合（通常は高圧下及び高温において）。
ｂ）通常、周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ又はＶＩＩＩ群の金属の一種又はそれ以上を含む触媒を使用した触媒重合。これらの金属は通常、一つ又はそれ以上の配位子、典型的に
はπ−又はσ−配位し得るオキシド、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリールを有する。これらの金属錯体は遊離形態であるか、又は基材に、典型的には活性化塩化マグネシウム、チタン（ＩＩＩ）クロリド、アルミナ又は酸化ケイ素に固定され得る。これらの触媒は、重合媒体中に可溶又は不溶であり得る。該触媒は重合においてそのまま使用され得、又はさらなる活性剤、典型的には金属アルキル、金属ヒドリド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシド又は金属アルキルオキサンであって、前記金属が周期表のＩａ、ＩＩａ及び／又はＩＩＩａ群の元素であるものが使用され得る。活性剤は、他のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル基で都合良く変性され得る。これらの触媒系は通常、フィリップス、スタンダードオイルインディアナ、チグラー（−ナッタ）、ＴＮＺ（デュポン）、メタロセン又はシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と命名される。
【００４４】
２．１）で言及されたポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレン、ポリプロピレンとポリエチレン（例えば、ＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）の混合物、及び異なる型のポリエチレンの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００４５】
３．モノオレフィン及びジオレフィンの互いの又は他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン／シクロオレフィンコポリマー（例えばＣＯＣの様な、エチレン／ノルボルネン）、１−オレフィンがその場で生成されるエチレン／１−オレフィンコポリマー；プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー又はエチレン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（アイオノマー）並びにエチレンとプロピレン及びへキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンなどのジエンとのターポリマー；及びそのようなコポリマーの互いの及び１）で上述したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ及び交互の又はランダムのポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー及びそれらの他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。
【００４６】
４．自らの水素化変性物を含む（例えば炭素原子数５乃至９の）ハイドロカーボン樹脂（例えば粘着付与剤）及びポリアルキレンとでん粉の混合物。
【００４７】
上述のホモポリマー及びコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチックまたアタクチックなどの立体構造を有し得る；アタクチックポリマーが好ましい。立体ブロックポリマーもまた含まれる。
【００４８】
５．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）。
【００４９】
６．スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンの全ての異性体、特にｐビニルトルエン、エチルスチレンの全ての異性体、プロピルスチレン、ビニルビフェニル、ビニルナフチレン及びビニルアントラセン、並びにそれらの混合物などの、ビニル芳香族モノマー由来の芳香族ホモポリマー及びコポリマー。ホモポリマー及びコポリマーはシンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック、又はアタクチックなどの立体構造を有し得る；アタクチックポリマーが好ましい。立体ブロックコポリマーもまた含まれる
：
ａ）エチレン、プロピレン、ジエン、ニトリル、酸、マレイン酸無水物、マレイミド、酢酸ビニル及びビニルクロリド又はアクリル酸誘導体及びそれらの混合物、例えばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／エチレン（インターポリマー）、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエンアルキルアクリレート、スチレン−ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／マレイン酸無水物、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリマー及び他のポリマーの高衝撃スチレンの混合物、例えばポリアクリレート、ジエンポリマー又はエチレン／プロピレン／ジエンターポリマー；及びスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレンなどのスチレンのブロックコポリマー
から選択される、上述のビニル芳香族モノマー及びコモノマーを含むコポリマー。
ｂ）６．）で記述したポリマーの水素化より誘導された水素化芳香族ポリマー、特にアタクチックポリスチレンの水素化によって製造されたポリシクロヘキシルエチレン（ＰＣＨＥ）など、しばしばポリビニルシクロヘキサン（ＰＶＣＨ）として言及される。
ｃ）６ａ）に記述したポリマーの水素化より誘導された水素化芳香族ポリマー。
ホモポリマー及びコポリマーはシンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックなどの立体構造を有し得る；アタクチックポリマーが好ましい。立体ブロックポリマーもまた含まれる。
【００５０】
７．ビニル芳香族モノマー、例えばスチレン又はα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えば、ポリブタジエンにスチレン、ポリブタエン−スチレン又はポリブタジエン−アクリロニトリルコポリマーにスチレン；ポリブタジエンにスチレン及びアクリロニトリル（又はメタクリロニトリル）；ポリブタジエンのスチレン、アクリロニトリル、及びメチルメタクリレート；ポリブタジエンにスチレン及びマレイン酸無水物；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル及びマレイン酸無水物又はマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びアルキルアクリレート又はメタクリレート、エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレン及びアクリロニトリル、ポリアルキルアクリレート又はポリアルキルメタクリレートにスチレン及びアクリロニトリル、アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレン及びアクリロニトリル、並びにそれらの６）に記載されたコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡ又はＡＥＳポリマーとして知られるコポリマー混合物。
【００５１】
８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素化及び臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩素化又はスルホ塩素化ポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリンホモ−及びコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、並びにそれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル又は塩化ビニリデン、酢酸ビニルコポリマーなど。
【００５２】
９．ポリアクリレート及びポリメタクリレートなどのα，β−不飽和酸及びそれらの誘導体より誘導されたポリマー；ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポリアクリルニトリル、ブチルアクリレートで衝撃変性されたもの。
【００５３】
１０．９）に記述したモノマーの互いの又は他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレート又はアクリロニトリル／ビニルハライドコポリマー、又はアクリロニトリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。
【００５４】
１１．不飽和アルコールとアミン又はアシル誘導体又はそれらのアセタールより誘導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレート、ポリビニルブチレート、ポリアリルフタレート、又はポリアリルメラミン；並びにそれらと上記１．で記述したオレフィンとのコポリマー。
【００５５】
１２．ポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドなどの環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー、又はそれらのビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
【００５６】
１３．ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン、並びにコモノマーとしてエチレンオキシドを含むそれらのポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレート又はＭＢＳで変性されたポリアセタール。
【００５７】
１４．ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、並びにポリフェニレンオキシドのスチレンポリマー又はポリアミドとの混合物。
【００５８】
１５．一方がヒドロキシ末端ポリエーテル、ポリエステル又はポリブタジエンであり、他方が脂肪族又は芳香族ポリイソシアネートより誘導されたポリウレタン並びにそれらの前駆体。
【００５９】
１６．ジアミンとジカルボン酸から及び／又はアミノカルボン酸又は対応するラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミン及びアジピン酸から開始した芳香族ポリアミド；へキサメチレンジアミン及びイソフタル酸又は／及びテレフタル酸から及び変性剤としてエラストマーを用いて又は用いずに調製されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド又はポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド：及び上述されたポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマー又は化学的に結合されたか又はグラフトされたエラストマーとのブロックコポリマー；又は例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテトラメチレングリコールなどのポリエーテルとのブロックコポリマー；並びにＥＰＤＭ又はＡＢＳで変性されたポリアミド又はコポリアミド；及びプロセス中に縮合されたポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
【００６０】
１７．ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントイン及びポリベンズイミダゾール。
【００６１】
１８．ジカルボン酸とジオールから、及び／又はヒドロキシカルボン酸又は対応するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリアルキレンナフタレート（ＰＡＮ）及びポリヒドロキシベンゾエート、並びに、ヒドロキシ末端ポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル；及びまたポリカーボネート又はＭＢＳで変性されたポリエステル。
【００６２】
１９．ポリケトン。
【００６３】
２０．ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、及びポリエーテルケトン。
【００６４】
２１．上述したポリマーのブレンド（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭ又はＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６及びコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳ又はＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
【００６５】
成分ａ）は成分ｂ）の基材に対して約０．００１乃至５．０質量％、好ましくは０．０１乃至２．０質量％、及び最も好ましくは０．０４乃至０．５質量％の量で添加される。
【００６６】
本発明の更なる実施態様は、ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材に対して難燃性を付与する方法に関し、該方法は前記ポリマー基材に対して、上述に定義された選択された芳香族スルホン酸の塩を添加することを含む。
【００６７】
更なる成分
本発明はさらに、上述した成分ａ）及びｂ）に加えて、所謂アンチドリッピング剤、ポリマー安定剤及びさらなる難燃剤、例えばリン含有難燃剤、窒素含有難燃剤、ハロゲン化難燃剤及び無機難燃剤などからなる群から選択される更なる添加剤を含む、組成物に関する。
【００６８】
好ましい実施態様によれば、本発明は更なる成分としていわゆるアンチドリッピング剤をさらに含む組成物に関する。
【００６９】
これらアンチドリッピング剤は、ポリカーボネート組成物のメルトフローを下げ、高温におけるドロップ（落下）形成を防止する。様々な文献、例えば米国特許第４，２６３，２０１号明細書などに、ポリカーボネート難燃性組成物に対するアンチドリッピング剤の添加が記載されている。
【００７０】
高温におけるドロップ形成を防止する適当な添加剤としては、ガラスファイバー、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、高温エラストマー、カーボンファイバー、ガラス球などが挙げられる。
【００７１】
異なる構造を有するポリシロキサンの添加が様々な文献において提案されている：米国特許第６，６６０，７８７号明細書、米国特許第６，７２７，３０２号明細書又は米国特許第６，７３０，７２０号明細書参照。
【００７２】
本発明の特定の実施態様によれば、式（１）
【化２０】
（式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立してフッ素原子によって置換された脂肪族基を表し；
Ｘ1及びＸ2は夫々互いに独立して直接結合又は炭素原子数１乃至１２のアルキレン基を表し；
ｍは1乃至１０００の数字を表し；
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は夫々互いに独立して水素原子、炭素原子数１乃至１２のアルキル
基又は炭素原子数３乃至１２のアルケニル基を表し；そして
Ｙは直接結合又は、
【化２１】
からなる群から選択される二価の基を表す；
（式中、
Ｒａ及びＲｂの双方が水素原子又はハロゲン原子を表し；又は
Ｒａ及びＲｂの一方が水素原子を、他方がハロゲン原子を表し；
Ｒ3及びＲ4はそれらが結合される炭素原子と一緒になって、任意の置換基として１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基と共に炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基を形成し；又は
Ｒ3及びＲ4は夫々互いに独立して水素原子、フッ素原子で置換された脂肪族基、炭素原子数１乃至１２のアルキル基、カルボキシ基で置換された炭素原子数１乃至１２のアルキル基、炭素原子数２乃至１２のアルケニル基、アリール基、又は、部分式
【化２２】
（式中、
ｎは０乃至１００００の数字を表し；そして
Ｘ2、Ｙ、Ｒ2、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は上述に定義したとおりである。）を表す。）で表される（ポリ）カーボネート化合物である。
【００７３】
（ポリ）カーボネート化合物（１）中、上述に定義されるように、置換基は以下のように定義される：
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立してフッ素原子で置換された脂肪族基を表し；
Ｘ1及びＸ2は夫々互いに独立して直接結合又は炭素原子数１乃至１２のアルキレン基を表し；
ｍは１乃至１０００の数字を表し；
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は夫々互いに独立して水素原子、炭素原子数１乃至１２のアルキル基又は炭素原子数３乃至１２のアルケニル基を表し；そして
Ｙは直接結合又は
【化２３】
からなる群から選択される二価の基を表し；式中、
Ｒａ及びＲｂの双方が水素原子又はハロゲン原子を表し；又は、
Ｒａ及びＲｂの一方が水素原子を、他方がハロゲン原子を表し；
Ｒ3及びＲ4はそれらが結合される炭素原子と一緒になって、任意の置換基として１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基と共に炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基を形成し；又は
Ｒ3及びＲ4は夫々互いに独立して、ハロゲン原子、フッ素原子で置換された脂肪族基、炭
素原子数１乃至１２のアルキル基、カルボキシ基で置換された炭素原子数１乃至１２のアルキル基、炭素原子数２乃至１２のアルケニル基、アリール基又は基（Ａ）を表し、上述に定義されるように、式中、ｎは０−１００００の数字を表し、そしてＸ2、Ｙ、Ｒ2、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は上述に定義されたとおりである。
【００７４】
フッ素原子で置換された脂肪族基として定義されたＲ1及びＲ2は、好ましくは直鎖又は分枝鎖又は炭化水素基であり、少なくとも一つのフッ素原子と少なくとも一つの水素原子を有し、例えばフルオロ−炭素原子数１乃至２５のアルキル基であり、或いは、部分式
【化２４】
（式中、ｐは１乃至１００の数字を表す）で表されるパーフルオロアルキル基である。
【００７５】
フルオロ−炭素原子数１乃至２５のアルキル基は、例えば、モノ−又はジフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、５−フルオロペンチル基、６−フルオロヘキシル基、７−フルオロヘプチル基、又はペンタフルオロブチル基である。
【００７６】
パーフルオロアルキル基は、パーフルオロアルコールＦ（ＣＦ2）ｐ−ＯＨ（式中、ｐ
は１乃至５０の数字を表す）から誘導される基（Ｂ）であり、例えば、トリフルオロメチル基（ｐ＝１）又はペンタフルオロエチル基（ｐ＝２）である。好ましいパーフルオロアルキル基は、ｐが５、８、９又は１１のパーフルオロアルコールから誘導される。
【００７７】
炭素原子数１乃至１２のアルキレン基として定義されたＸ1及びＸ2は、分枝した又は分枝していない二価の基であり、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基又はドデカメチレン基である。Ｘ1及びＸ2の好ましい定義の一つは、炭素原子数１乃至８のアルキレン基、例えば、炭素原子数２乃至８のアルキレン基である。Ｘ1及びＸ2の特に好ましい定義は、炭素原子数２乃至４のアルキレン基、例えばエチレン基である。
【００７８】
炭素原子数１乃至１２のアルキル基として定義されたＲ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は、直鎖又は、可能であれば分枝状であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、１−メチルウンデシル基又はｎ−ドデシル基である。好ましい定義の一つは、例えば、炭素原子数１乃至８のアルキル基、例えば炭素原子数１乃至４のアルキル基、例えばメチル基である。
【００７９】
炭素原子数３乃至１２のアルケニル基として定義されるＲ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は、直鎖又は可能であれば分枝状であり、例えばアリル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、イソブテニル基、ｎ−２，４−ペンタジエニル基、３−メチル−２−ブテニル基、ｎ−２−オクテニル基、ｎ−２−ドデセニル基又はイソドデセニル基である。
【００８０】
部分式
【化２５】
で表される二価の基として定義されるＹは、好ましくはメチレン基（ＣＨ2＝、Ｒａ及び
Ｒｂ＝Ｈ）である。その他の実施態様によれば、Ｒａ及びＲｂの双方が水素原子又はハロゲン原子、例えば塩素原子又は臭素原子を表し、或いは、Ｒａ及びＲｂの一方が水素原子を、他方がハロゲン原子を表す。
【００８１】
任意の置換基として１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基を有する、炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基として定義されるＲ3及びＲ4は、例えば、シクロペンチリデン基、メチルシクロペンチリデン基、ジメチルシクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基、メチルシクロヘキシリデン基、ジメチルシクロヘキシリデン基、トリメチルシクロヘキシリデン基、第三ブチルシクロヘキシリデン基、シクロヘプチリデン基、又はシクロオクチリデン基である。好ましいものはシクロヘキシリデン基である。
【００８２】
フッ素原子で置換された脂肪族基として定義されたＲ3及びＲ4は、上述に定義したように、例えばフルオロ−炭素原子数１乃至２５のアルキル基であり、或いは上述のパーフルオロアルキル基（Ｂ）（ｐは１乃至５０を表す）である。
【００８３】
炭素原子数１乃至１２のアルキル基として定義されたＲ3及びＲ4は、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及
びＲ8に関して上記に定義されたとおりのものである。
【００８４】
カルボキシ基で置換された炭素原子数１乃至１２のアルキル基として定義されたＲ3及
びＲ4は、例えば、カルボキシメチル基又は１−又は２−カルボキシエチル基である。
【００８５】
アリール基として定義されたＲ3及びＲ4は、好ましくはフェニル基又は１−又は２−ナフチル基である。
【００８６】
基（Ａ）において、指数ｎは０−１００００の数字を表し、そしてＸ2、Ｙ、Ｒ2、Ｒ5
、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は上述に定義したとおりである。
【００８７】
特に興味深いものは、式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立してフッ素原子で置換された脂肪族基を表し；
Ｘ1及びＸ2は夫々互いに独立して炭素原子数１乃至１２のアルキレン基を表し；
ｍは１乃至１０００の数字を表し；
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は水素原子を表し；
Ｙは二価の基
【化２６】
を表し、
式中、夫々互いに独立してＲ3及びＲ4は水素原子、−ＣＦ3基、炭素原子数１乃至１２の
アルキル基、フェニル基又は基（Ａ）（式中ｎは０乃至１００００の数字を表しそしてＸ2、Ｙ、Ｒ2，Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は上述に定義されたものを表す）を表すか、又は
Ｒ3及びＲ4はそれらが結合される炭素原子と一緒になって、任意の置換基として１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基と共にシクロヘキシリデン基を形成する、（ポリ）カーボネート化合物（１）である。
【００８８】
特に興味深いものは、式中、Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して基（Ｂ）を表す（式中、ｐは１乃至５０の数字を表す）、（ポリ）カーボネート化合物（１）である。
【００８９】
非常に興味深いものは、式中ｐが４乃至１５を表す、（ポリ）カーボネート化合物（１）である。
【００９０】
特に非常に興味深いものは、式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して基（Ｂ）を表し（式中、ｐは１乃至５０の数字を表す）、
Ｘ1及びＸ2は夫々互いに独立して炭素原子数２乃至８のアルキレン基を表し；
ｍは１乃至１０００の数字を表し；
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は水素原子を表し；
Ｙは二価の基
【化２７】
を表し、
式中、Ｒ3は水素原子、−ＣＦ3基、炭素原子数１乃至１２のアルキル基、フェニル基又は基（Ａ）（式中ｎは０乃至１００００の数字を表しそしてＸ2、Ｙ、Ｒ2，Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7
及びＲ8は上述に定義されたものを表す）を表すか、又は
Ｒ3及びＲ4はそれらが結合される炭素原子と一緒になって、任意の置換基として１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基と共にシクロヘキシリデン基を形成する、（ポリ）カーボネート化合物（１）である。
【００９１】
高い興味があるものは、式中、
Ｒ3及びＲ4は夫々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；或いは、Ｒ3及びＲ4はそれらが結合される炭素原子と一緒になって、シクロヘキシリデン基を形成する、（ポリ）カーボネート化合物（１）である。
【００９２】
特に好ましいものはまた、式中ｍが１乃至５０の数字を表し、ｎが０乃至５０の数字を表す、（ポリ）カーボネート化合物（１）である。
【００９３】
（ポリ）カーボネート化合物（１）は、既知の方法で製造される。フルオロアルコールをビス（２，４−ジニトロフェニル）カーボネート（ＤＮＰＣ）で処理して、２，４−ジニトロフェニルカーボネートのフルオロアルコール物をそのまま得る。この誘導体は、例えば、様々な分子量のヒドロキシ末端ビスフェノールＡオリゴマーによって、単離及び分離可能である。
【００９４】
Ｂｒｕｎｅｌｌｅら（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ １９９１年、２４、３０３５−３０４４）は、ビスフェノールＡのダイマー及び環状オリゴマーの製造のための、ビス（２，４−ジニトロフェニル）カーボネートの使用を開示している。カップリング反応もまた、ホスゲン又はカルボニルジイミダゾール（ＣＤＩ）のような、カーボネート結合形成試薬によって実施可能である。
【００９５】
好ましいフルオロアルコールは、例えば、所謂フルオロテロマーアルコールである。これらは、例えば、デュポン社又はアルドリッチ社よりＺｏｎｙｌ（登録商標）ＢＡ−Ｌとして市販されている。
【００９６】
好ましいビスフェノール出発材料は、例えばビスフェノールＡ及び下記式で表される化合物である：
【化２８】
【００９７】
別の実施態様によれば、式
【化２９】
で表される（ポリ）カーボネート化合物が添加され、式中、
Ｒ0は直接結合又は
【化３０】
からなる群から選択される二価の基を表し；
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立してケイ素含有基を表し；
Ｒ3及びＲ4は夫々互いに独立して水素原子、フッ素原子で置換された脂肪族基、ケイ素含有基、炭素原子数１乃至１２のアルキル基、カルボキシ基で置換された炭素原子数１乃至１２のアルキル基、炭素原子数２乃至１２のアルケニル基、アリール基又は部分式
【化３１】
で表される基を表すか、又は
Ｒ3及びＲ4はそれらが結合される炭素原子と一緒になって、炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基又は、１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換された炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基を表し；
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は夫々互いに独立して水素原子、炭素原子数１乃至１２のアルキル基又は炭素原子数３乃至１２のアルケニル基を表し；
Ｘ1及びＸ2は夫々互いに独立して直接結合、炭素原子数１乃至１２のアルキレン基又は−Ｏ−基で中断された炭素原子数４乃至２５のアルキレン基を表し；
Ｙ1及びＹ2は夫々互いに独立して直接結合又は
【化３２】
からなる群から選択される二価の基を表し；
Ｒ9及びＲ10は夫々互いに独立して直接結合又は炭素原子数１乃至４のアルキレン基を表
し；
Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は夫々互いに独立して水素原子、炭素原子数１乃至１２のアルキル基又は炭素原子数３乃至１２のアルケニル基を表し；
Ｒ14は水素原子、炭素原子数１乃至１２のアルキル基又はケイ素含有基を表し；
ｍは０乃至１００００の数字を表し；そして、
ｎは０乃至１００００の数字を表す。
【００９８】
（ポリ）カーボネート化合物（２）において、上述したように、置換基は以下のとおりに定義される：
Ｒ0は直接結合又は
【化３３】
からなる群から選択される二価の基を表し；
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立してケイ素含有基を表し；
Ｒ3及びＲ4は夫々互いに独立して水素原子、フッ素原子で置換された脂肪族基、ケイ素含有基、炭素原子数１乃至１２のアルキル基、カルボキシ基で置換された炭素原子数１乃至１２のアルキル基、炭素原子数２乃至１２のアルケニル基、アリール基、又は部分式
【化３４】
で表される基を表し、又は
Ｒ3及びＲ4はそれらが結合される炭素原子と一緒になって、炭素原子数５乃至のシクロアルキリデン基又は１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換された炭素原子数５乃至のシクロアルキリデン基を表し；
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は夫々互いに独立して水素原子、炭素原子数１乃至１２のアルキル
基又は炭素原子数３乃至１２のアルケニル基を表し；
Ｘ1及びＸ2は夫々互いに独立して直接結合、炭素原子数１乃至１２のアルキレン基又は−Ｏ−基で中断された炭素原子数４乃至２５のアルキレン基を表し；
Ｙ1及びＹ2は夫々互いに独立して直接結合又は
【化３５】
からなる群から選択される二価の基を表し；
Ｒ9及びＲ10は夫々互いに独立して直接結合又は炭素原子数１乃至４のアルキレン基を表
し；
Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は夫々互いに独立して水素原子、炭素原子数１乃至１２のアルキル基又は炭素原子数３乃至１２のアルケニル基を表し；
Ｒ14は水素原子、炭素原子数１乃至１２のアルキル基又はケイ素含有基を表し；
ｍは０乃至１００００の数字を表し；そして
ｎは０乃至１００００の数字を表す。
【００９９】
ケイ素含有基は、好ましくは部分式
【化３６】
で表される基を表し、式中、
Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ20は夫々互いに独立して炭素原子数１乃至１２のアルキル基、ヒドロキシ基又はアミノ基で置換された炭素原子数１乃至１２のアルキル基；−Ｏ−基で中断されたヒドロキシ−炭素原子数４乃至１２のアルキル基；又は部分式
【化３７】
で表される基を表し、
式中、
Ｒ21は炭素原子数１乃至１２のアルキル基又は部分式
【化３８】
を表し、
Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28及びＲ29は夫々互いに独立して炭素原子数１乃至１２のアルキル基又はヒドロキシ基又はアミノ基で置換された炭素原子数１乃至１２のアルキル基を表し；
ｐは０乃至２００を表し；そして
ｑは０乃至２００を表す。
【０１００】
ケイ素含有基として特に興味あるものは、式中、
Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ20は夫々互いに独立してメチル基又は部分式
【化３９】
で表される基を表し、
Ｒ21はメチル基又は部分式
【化４０】
で表される基を表し、
Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28及びＲ29はメチル基を表し；そして、
ｐ及びｑは夫々互いに独立して０乃至１００を表す、部分式（Ｄ）で表される基である。
【０１０１】
特に興味のあるものは、式中、
Ｒ0は二価の基
【化４１】
を表し；
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立してケイ素含有基を表し；
Ｒ3及びＲ4は夫々互いに独立して水素原子、トリフルオロメチル基、ケイ素含有基、炭素原子数１乃至１２のアルキル基、フェニル基又は基（Ｃ）を表し；あるいは、
Ｒ3及びＲ4はそれらが結合される炭素原子と一緒になって、炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基又は１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換された炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基を表し；
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は水素原子を表し；
Ｘ1及びＸ2は夫々互いに独立して炭素原子数１乃至１２のアルキレン基又は−Ｏ−基で中断された炭素原子数４乃至２５のアルキレン基を表し；
Ｙ1及びＹ2は夫々互いに独立して直接結合又は
【化４２】
からなる群から選択される二価の基を表し；
Ｒ9及びＲ10は夫々互いに独立して直接結合又はメチレン基を表し；
Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は夫々互いに独立して水素原子、炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数３乃至４のアルケニル基を表し：
Ｒ14は水素原子又は炭素原子数１乃至１２のアルキル基を表し；
ｍは０乃至１００００を表し；そして
ｎは０乃至１００００を表す、（ポリ）カーボネート化合物（２）である。
【０１０２】
非常に特に興味のあるものは、式中、
Ｒ0は二価の基
【化４３】
を表し、
Ｒ3は水素原子、−ＣＦ3基、炭素原子数１乃至１２のアルキル基、フェニル基又は基（Ｃ）を表し；
Ｒ4は−ＣＦ3基、炭素原子数１乃至１２のアルキル基又はフェニル基を表し；或いは、
Ｒ3及びＲ4はそれらが結合される炭素原子と一緒になって、炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基又は１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換された炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基を表し；
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は水素原子を表し；
Ｘ1及びＸ2は夫々互いに独立して炭素原子数１乃至１２のアルキレン基又は−Ｏ−基で中断された炭素原子数４乃至２５のアルキレン基を表し；
Ｙ1及びＹ2は夫々互いに独立して直接結合又は
【化４４】
からなる群から選択される二価の基を表し；
Ｒ9及びＲ10は夫々互いに独立して直接結合又はメチレン基を表し；
Ｒ14は水素原子又は炭素原子数１乃至１２のアルキル基を表し；
ｍは０乃至１００００を表し；そして
ｎは０乃至１００００を表す、（ポリ）カーボネート化合物（２）である。
【０１０３】
興味のあるものはまた、式中、
Ｒ3及びＲ4が夫々独立して水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；或いは、
Ｒ3及びＲ4がそれらが結合される炭素原子と一緒になってシクロヘキシリデン基を形成する、
（ポリ）カーボネート化合物（２）である。
【０１０４】
好ましいものは、式中、Ｘ1及びＸ2が夫々互いに独立して炭素原子数２乃至８のアルキレン基又は−Ｏ−基で中断された炭素原子数４乃至２５のアルキレン基を表す、（ポリ）カーボネート化合物（２）である。
【０１０５】
また好ましいものは、式中、ｍが０乃至１００を表し、そしてｎが０乃至１００を表す、（ポリ）カーボネート化合物（２）である。
【０１０６】
非常に特に興味あるものは、式中、
Ｒ0は二価の基
【化４５】
を表し；
Ｒ3及びＲ4は夫々互いに独立して炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；あるいは、
Ｒ3及びＲ4はそれらが結合される炭素原子と一緒になってシクロヘキシリデン基を形成し、
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は水素原子を表し；
Ｘ1及びＸ2は夫々互いに独立して炭素原子数２乃至４のアルキレン基又は−Ｏ−基で中断された炭素原子数４乃至２５のアルキレン基を表し；
Ｙ1及びＹ2は夫々互いに独立して直接結合又は
【化４６】
からなる群から選択される二価の基を表し；
Ｒ9及びＲ10は夫々互いに独立して直接結合又はメチレン基を表し；
ｍは０乃至１００を表し、そして
ｎは０乃至１００を表す、（ポリ）カーボネート化合物（２）である。
【０１０７】
（ポリ）カーボネート化合物（２）において、炭素原子数１乃至１２のアルキル基は直鎖、可能であれば分枝状のアルキル基を表し、（ポリ）カーボネート化合物（１）に関して定義されたものと同様である。
【０１０８】
カルボキシ基で置換された炭素原子数１乃至１２のアルキル基として定義されるＲ3及
びＲ4は、好ましくはカルボキシメチル基又は１−又は２−カルボキシエチル基である。
【０１０９】
アリール基として定義されたＲ3及びＲ4は、好ましくはフェニル基又は１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基、例えばメチル基で置換されたフェニル基を表す。
【０１１０】
炭素原子数２乃至１２のアルケニル基として定義されるＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及び
Ｒ8は、直鎖又は可能であれば分枝状のアルケニル基であり、（ポリ）カーボネート化合
物（１）に関して定義されたものと同様である。
【０１１１】
炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基又は１乃至３つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換された炭素原子数５乃至８のシクロアルキリデン基として定義されるＲ3
及びＲ4は、（ポリ）カーボネート化合物（１）に関して上述に定義されたとおりである
。
【０１１２】
炭素原子数１乃至１２のアルキレン基として定義されたＸ1及びＸ2、並びに炭素原子数１乃至４のアルキレン基として定義されたＲ9及びＲ10は、（ポリ）カーボネート化合物
（１）に関して上述に定義されたような、直鎖又は可能であれば分枝状のアルキレン基である。
【０１１３】
−Ｏ−基で中断された炭素原子数４乃至２５のアルキレン基として定義されたＸ1及び
Ｘ2は、直鎖又は可能であれば分枝状であり、例えば、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−
基、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−基、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−基又は−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−基である。
【０１１４】
ヒドロキシ基又はアミノ基で置換された炭素原子数１乃至１２のアルキル基は、例えば、ヒドロキシメチル基、１−又は２−ヒドロキシエチル基、アミノメチル基又は１−又は２−アミノエチル基である。
【０１１５】
−Ｏ−基で中断されたヒドロキシ−炭素原子数４乃至１２のアルキル基は、例えば−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ基又は−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ基である。
【０１１６】
フッ素含有基は、分枝又は非分枝基であり、少なくとも一つのフッ素原子を含み、例えばフルオロ−炭素原子数１乃至２５のアルキル基であり：あるいは、ｐが１乃至５０である基（Ｂ）である。
【０１１７】
フルオロ−炭素原子数１乃至２５のアルキル基は、例えば、パーフルオロアルキル基、フルオロメチル基、２−フルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、５−フルオロペンチル基、６−フルオロヘキシル基、７−フルオロヘプチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロブチル基である。
【０１１８】
（ポリ）カーボネート化合物（２）は、既知の方法で得られる。ケイ素アルコールをビス（２，４−ジニトロフェニル）カーボネート（ＤＮＰＣ）で処理して２，４−ジニトロフェニルカーボネートのケイ素アルコールをそのまま得る。この誘導体は、例えば様々な分子量のヒドロキシ末端ビスフェノールＡオリゴマーによって単離又は分離可能である。Ｂｒｕｎｅｌｌｅら（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｕｃｕｌｅｓ １９９１，２４，３０３５−３０４４）はビスフェノールＡのダイマー及び環状オリゴマーの製造のためのビス（２，４−ジニトロフェニル）カーボネートの使用を開示している。カップリング反応もまた、例えばホスゲン又はカルボニルジイミダゾール（ＣＤＩ）などのカーボネート結合形成試薬によって実施可能である。
【０１１９】
特に好ましいケイ素含有基は、ｐ＝１０であるモノヒドロキシポリシロキサン；ｐ＝６４であるポリシロキサン；ポリアルキレンオキシド変性ヘプタメチルトリシルオキサン；又は３−（ポリオキシエチレン）プロピルヘプタメチルトリシロキサンから誘導される。代表的な構造式を以下に示す：
【化４７】
【０１２０】
好ましいビスフェノール出発物質は、（ポリ）カーボネート化合物（１）の製造に関して上述に示したものと同様である。
【０１２１】
（ポリ）カーボネート化合物（１）又は（２）は、成分ｂ）の基材に対して０．０１乃至５．０質量％、好ましくは０．２５乃至１．０質量％の量で添加される。（ポリ）カーボネート化合物（１）又は（２）の混合物の添加が提案される。
【０１２２】
別の実施態様によれば、本発明は、ポリマー安定剤並びに更なる難燃剤からなる群から選択された更なる添加剤をさらに含む組成物に関する。
【０１２３】
安定剤は好ましくはハロゲンを含まず、ニトロキシ安定剤、ニトロン安定剤、アミンオキシド安定剤、ベンゾフラノン安定剤、ホスフィット及びホスホナイト安定剤、キノンメチド安定剤及び２，２’−アルキリデンビスフェノールのモノアクリレートエステル安定剤から選択される。
【０１２４】
更なる難燃剤は既知の成分、市販品であり、或いは既知の方法で得られる。
【０１２５】
成分ｂ）に関して上述に定義されたものに加えて、代表的なリン含有難燃剤は、例えば：
テトラフェニルレゾルシノールジホスフィット（ＦＹＲＯＬＦＬＥＸ（登録商標）ＲＤＰ、アクゾノーベル社）、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウムスルフィド、トリフェニルホスフェート、ジエチル−Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−アミノメチルホスホネート、リン酸のヒドロキシアルキルエステル、アンモニウムポリホスフェート（ＡＰＰ）又は（ＨＯＳＴＡＦＬＡＭ（登録商標）ＡＰ７５０）、レゾルシノールジホスフェートオリゴマー（ＲＤＰ）、ホスファゼン難燃剤及びエチレンジアミンジホスフェート（ＥＤＡＰ）である。
【０１２６】
窒素含有難燃剤は、例えば、イソアシアヌレート難燃剤、例えばポリイソシアヌレート、イソシアヌル酸又はイソシアヌレートのエステルである。代表例は、ヒドロキシアルキルイソシアヌレート、例えばトリス−（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、トリス（ヒドロキシメチル）イソシアヌレート、トリス（３−ヒドロキシ−ｎ−プロピル）イ
ソシアヌレート又はトリグリシジルイソシアヌレートである。
【０１２７】
窒素含有難燃剤としては、メラミンベースの難燃剤が挙げられる。代表例は：メラミンシアヌレート、メラミンボレート、メラミンホスフェート、メラミンポリホスフェート、メラミンピロホスフェート、メラミンアンモニウムポリホスフェート及びメラミンアンモニウムピロホスフェートである。
【０１２８】
更なる例は：ベンゾグアナミン、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、アラントイン、グルコールウリル、メラミンシアヌレート、メラミンホスフェート、ジメラミンホスフェート、メラミンピロホスフェート、尿素シアヌレート、メラミンポリホスフェート、メラミンボレート、アンモニウムポリホスフェート、メラミンアンモニウムポリホスフェート又はメラミンアンモニウムピロホスフェート、メレム、メラム、メロンシリーズからのメラミン縮合生成物、及び／又は高縮合化合物、又はメラミンのリン酸との反応生成物、及び／又はメラミン縮合生成物とリン酸との反応生成物又はそれらの混合物である。
【０１２９】
特に強調すべきは：ジメラミンピロホスフェート、メラミンポリホスフェート、メレムポリホスフェート、メラムポリホスフェート及び／又はそのような種類の混合塩で与えられ、最も特にはメラミンポリホスフェートである。
【０１３０】
代表的なオルガノハロゲン難燃剤は、例えば：ポリ臭素化ジフェニルオキシド（ＤＥ−６０Ｆ、グレートレイクス社）、デカブロモジフェニルオキシド（ＤＢＤＰＯ；ＳＡＹＴＥＸ（登録商標）１０２Ｅ）、トリス［３−ブロモ−２，２−ビス（ブロモメチル）プロピル］ホスフェート（ＰＢ３７０（登録商標）、ＦＭＣコーポレーション）、トリス（２，３−ジブロモプロピル）ホスフェート、トリス（２，３−ジクロロプロピル）ホスフェート、クロレンド酸、テトラクロロフタル酸、テトラブロモフタル酸、ポリ−β−クロロエチルトリホスホネート混合物、テトラブロモビスフェノールＡビス（２，３−ジブロモプロピルエーテル）（ＰＥ６８）、臭素化エポキシ樹脂、エチレン−ビス（テトラブロモフタルイミド）（ＳＡＹＴＥＸ（登録商標）ＢＴ−９３）、ビス（ヘキサクロロシクロペンタジエノ）−シクロオクタン（ＤＥＣＬＯＲＡＮＥ ＰＬＵＳ（登録商標））、塩素化パラフィン、オクタブロモジフェニルエーテル、ヘキサクロロシクロペンタジエン誘導体、１，２−ビス（トリブロモフェノキシ）エタン（ＦＦ６８０）、テトラブロモビスフェノールＡ（ＳＡＹＴＥＸ（登録商標）ＲＢ１００）、エチレンビス−（ジブロモ−ノルボルナンジカルボキシイミド）（ＳＡＹＴＥＸ（登録商標）ＢＮ−４５１）、ビス−（ヘキサクロロシクロエンタデノ）シクロオクタン、ＰＴＦＥ、トリス−（２，３−ジブロモプロピル）−イソシアヌレート、及びエチレン−ビス−テトラブロモフタルイミドである。
【０１３１】
上述の難燃剤は、無機相乗酸化剤と通常組み合わせられる。この使用のために最も一般的なものは、酸化亜鉛又は酸化アンチモン、例えばＳｂ2Ｏ3又はＳｂ2Ｏ5である。ホウ素化合物もまた適当である。
【０１３２】
上述の更なる難燃剤類は、有機ポリマー基材の約０．５質量％乃至約４５．０質量％；例えば約１．０質量％乃至約４０．０質量％；例えば約５．０質量％乃至約３０．０質量％の量で、本発明の組成物中に有利に含まれる。
【０１３３】
上述したように、本発明の組成物は更に一種以上の慣用の添加剤、例えば、顔料、染料、可塑剤、抗酸化剤、チキソトロープ剤、レベリング助剤、塩基性補助安定剤、金属不動態化剤、金属酸化物、有機リン化合物、更なる光安定剤及びこれらの混合物、特に顔料、フェノール性抗酸化剤、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール及び／又は２−
（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン群の紫外線吸収剤を含み得る。より具体的な例は以下の成分である：
【０１３４】
１．抗酸化剤
アルキル化モノフェノール、
たとえば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、直線状若しくは側鎖で分岐したノニルフェノール、たとえば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノール及びそれらの混合物。
【０１３５】
アルキルチオメチルフェノール、
たとえば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【０１３６】
ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、
たとえば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【０１３７】
トコフェロール、
たとえば、α−、β−、γ−、δ−トコフェロール、及びそれらの混合物（ビタミンＥ）。
【０１３８】
ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、
たとえば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【０１３９】
アルキリデンビスフェノール、
たとえば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）−フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス
［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール）、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【０１４０】
Ｏ−、Ｎ−、及びＳ−ベンジル化合物、
たとえば、３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【０１４１】
ヒドロキシベンジル化マロネート、
たとえば、ジオクタデシル−２，２−ビス−（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【０１４２】
芳香族ヒドロキシベンジル化合物、
たとえば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【０１４３】
トリアジン化合物、
たとえば、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプ
ロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【０１４４】
ベンジルホスホネート
たとえば、ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【０１４５】
アシルアミノフェノール、
たとえば、４−ヒドロキシラウラニリド、４−ヒドロキシステアラニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバメート。
【０１４６】
β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル、例えばＩｒｇａｎｏｘ（登録商標）１０７６などの市販品。
【０１４７】
β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル；３，９−ビス［２−｛３−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］−ウンデカン。
【０１４８】
β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１４９】
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１５０】
β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド
たとえば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（ユニロイヤルによって供給されるナウガードＸＬ−１（登録商標 Ｎａｕｇａｒｄ））
【０１５１】
アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【０１５２】
２．光安定剤
２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
たとえば、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ
−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；
【化４８】
（式中、Ｒは３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル基を表す）、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］ベンゾトリアゾール；２−［２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール、例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ ２３４、３２６、３２９、３５０、３６０又はＴＩＮＵＶＩＮ １５７７などのＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）シリーズからの市販の光安定剤。
【０１５３】
２−ヒドロキシベンゾフェノン、
たとえば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシ、及び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【０１５４】
置換及び非置換の安息香酸のエステル、
たとえば、４−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−第三ブチルフェニル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【０１５５】
アクリレート、
たとえば、エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート及びＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
【０１５６】
ニッケル化合物
たとえば、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン、若しくはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンといった付加配位子を伴うか若しくは伴わない、１：１又は１：２の錯体といった、２，２’−チオビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステルのニッケル塩、たとえば、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のメチル若しくはエチルエステル、ケトキシム、たとえば、２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、付加的な配位子を伴うか若しくは伴わない１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【０１５７】
オキサミド、
たとえば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリド及びその２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合
物、並びに、ｏ−及びｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【０１５８】
２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
たとえば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−[２−ヒドロキシ−４−［３−（２−
エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル]−４，６−
ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【０１５９】
３．金属奪活剤
たとえば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【０１６０】
４．更なるホスフィット及びホスホナイト、
たとえば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニ
ル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’―ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット、５−ブチル−５−エチル−２−（２，４，６−トリ−第三ブチルフェノキシ）−１，３，２−ジオキサホスフィラン。
【０１６１】
特に好まれるのは以下のホスフィットである：
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット（イルガフォス１６８、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社（登録商標：Ｉｒｇａｆｏｓ））、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、
【化４９】
【０１６２】
５．さらなるニトロン、
たとえば、Ｎ−ベンジル−アルファ−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−アルファ−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−アルファ−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−アルファ−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−アルファ−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル
−アルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘキサデシルニトロン、水素化牛脂アミン由来のＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン由来のニトロン。
【０１６３】
６．チオ相乗剤、
たとえば、ジラウリルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピオネート。
【０１６４】
７．過酸化物捕捉剤、
たとえば、β−チオジプロピオン酸のエステル、たとえばラウリル、ステアリル、ミリスチル、若しくはトリデシルエステル、メルカプトベンゾイミダゾール若しくは２−メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【０１６５】
８．ポリアミド安定剤、
たとえば、ヨウ化物及び／又はリン化合物と組合せた銅塩、及び、二価マンガン塩。
【０１６６】
９．塩基性補助安定剤、
たとえば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ポリアミド、ポリウレタン、たとえばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレート、及びカリウムパルミテートなどの高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、アンチモンピロカテコレート、又は亜鉛ピロカテコレート。
【０１６７】
１０．核剤、
たとえば、タルクなどの無機物質、二酸化チタン又は酸化マグネシウムなどの金属酸化物、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸塩、又は硫酸塩；モノあるいはポリカルボン酸などの有機化合物及びそれらの塩、たとえば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウム；イオン化コポリマー（アイオノマー）などのポリマー化化合物。特に好ましいのは、１，３：２，４−ビス（３’，４’−ジメチルベンジリデン）ソルビトール、１，３：２，４−ジ（パラメチルジベンジリデン）ソルビトール、及び１，３：２，４−ジ（ベンジリデン）ソルビトール。
【０１６８】
１１．更なる充填剤及び強化剤、
たとえば、炭酸カルシウム、シリケート、ガラスファイバー、ガラス球、ステンレススチールファイバー、アラミドファイバー、アスベスト、タルク、カオリン、マイカ、硫酸バリウム、金属酸化物及び金属水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉及び他の天然物の粉末又は繊維、合成繊維。
【０１６９】
１２．その他の添加剤、
たとえば、ブレンド相溶化剤、可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流量調整剤、蛍光増白剤、防炎剤、帯電防止剤、及び発泡剤。
【０１７０】
１３．更なるベンゾフラノン及びインドリノン、
たとえば、米国特許第４，３２５，８６３号明細書；米国特許第４，３３８，２４４号明細書；米国特許第５，１７５，３１２号明細書；米国特許第５，２１６，０５２号明細書；米国特許第５，２５２，６４３号明細書；独国特許出願公開第４３１６６１１号明細書；独国特許出願公開第４３１６６２２号明細書；独国特許出願公開第４３１６８７６号明
細書；欧州特許出願公開第０５８９８３９号明細書、欧州特許出願公開第０５９１１０２号明細書に開示されるもの、又は、３−［４−（２−アセトキシエトキシ）−フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン。
【０１７１】
上述に定義した組成物への好ましい更なる添加剤は、プロセス安定剤、例えば上述に定義したホスフィット及びフェノール性抗酸化剤、並びに光安定剤、例えばベンゾトリアゾールである。好ましい特定の抗酸化剤としては、オクタデシル−３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート（ＩＲＧＡＮＯＸ １０７６）が挙げられる。特定のプロセス安定剤としては、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット（ＩＲＧＡＦＯＳ １６８）及びテトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４’−ジイルビスホスホナイト（ＩＲＧＡＦＯＳ Ｐ−ＥＰＱ）が挙げられる。特定の光安定剤としては、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ ２３４）、２−（５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（メチル）−６−（第三ブチル）フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ ３２６）、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ ３２９）、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（第三ブチル）−６−（第二ブチル）フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ ３５０）、２，２’−メチレンビス（６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール）（ＴＩＮＵＶＩＮ ３６０）、及び２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ １５７７）である。
【０１７２】
上述の添加剤は、ポリマー成分ｂ）の質量に対して、好ましくは０．０１乃至１０質量％、特に０．０５乃至５．０質量％の量で含まれる。
【０１７３】
添加剤成分ａ）及び所望により更なる成分のポリマー成分ｂ）への混和は、既知の方法で、例えばパウダー形態でのドライ混合、又は例えば不活性な溶媒、水又はオイルの溶液、分散液又は懸濁液の形態でのウェット混合で、実施される。添加剤成分ａ）及び所望により更なる添加剤は、例えば、成形の前後、又は溶解又は分散させた添加剤又は添加剤混合物を、次に溶媒又は懸濁剤／分散剤の蒸発を伴うか又は伴わずに、同様にポリマー材料に適用することによって、混和され得る。これらは、例えばドライ混合物又はパウダーとして、或いは、溶液又や分散液又は懸濁液又は溶融物として、処理装置（例えば押出機、内部ミキサーなど）へ直接加えられ得る。
【０１７４】
添加剤成分のポリマー基材ｂ）への添加は、ポリマーが溶融し添加剤と混合されるようなあらゆる通例の混合装置で実施可能である。適当な装置は当業者に既知である。これらは主にミキサー、ニーダー及び押出機である。
【０１７５】
本プロセスは、好ましくは、処理中に押出機内に添加剤を添加することによって実施される。
【０１７６】
特に好ましい処理装置は、単軸押出機、二重反転及び共回転二軸押出機、遊星ギア押出機、環状押出機又は共ニーダーである。真空が適用できる少なくとも一種のガス除去区画を備えた処理装置の使用もまた可能である。
【０１７７】
適当な押出機及びニーダーは、例えば、Ｈａｎｄｂｕｃｈ ｄｅｒ Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｅｘｔｒｕｓｉｏｎ，１巻 Ｇｒｕｎｄｌａｇｅｎ，編者 Ｆ．ハンセン，Ｗ．クナッペ，Ｈ．ポテンテ，１９８９年，３−７頁，ＩＳＢＮ：３−４４６−１４３３９−４（２巻 Ｅｘｔｒｕｓｉｏｎｓａｎｌａｇｅｎ １９８６年，ＩＳＢＮ：３−４４６−１４３２９−７）に記載されている。
【０１７８】
例えば、スクリュー長はスクリュー径１−６０であり、好ましくはスクリュー径３５−４８である。スクリューの回転速度は、好ましくは１０−６００回転／分（ｒｐｍ）、好ましくは２５−３００ｒｐｍである。
【０１７９】
最大スループットは、スクリュー径、回転速度及び駆動力によって決まる。本発明の方法はまた、上述のパラメーターの変動又は投与量を供給する計量機の導入によって、最大スループットより低いレベルでも実施され得る。
【０１８０】
多量の成分が添加される場合、事前混合又は個々に添加され得る。
【０１８１】
添加剤成分ａ）及び所望により更なる添加剤はまた、ポリマー基材ｂ）上に噴霧され得る。他の添加剤がこれらの添加剤と共に該ポリマー基材上に噴霧できるように、添加剤混合物は他の添加剤、例えば上述した一般的な添加剤やそれらの溶融物を希釈する。重合触媒の非活性化の間の噴霧による添加は、特に有利である；この場合、発生した蒸気は触媒の非活性化のために使用され得る。球状に重合されたポリオレフィンの場合、例えば、所望により他の添加剤と共に本発明の添加剤を噴霧によって適用することは有利であり得る。
【０１８２】
添加剤成分ａ）及び所望により更なる添加剤はまた、マスターバッチ（“濃縮物”）の形態で、ポリマー中に添加可能であり、それはポリマー中に約１．０質量％乃至約４０．０質量％、好ましくは２．０質量％乃至約２０．０質量％の濃度で混和された成分を含むものである。ポリマーは、添加剤が最後に添加されたポリマーと同一構造を有する必要はない。この方法において、ポリマーは、パウダー、顆粒、溶液及び懸濁液形態で、又は格子形態で使用可能である。
【０１８３】
混和は、成型操作の前又は操作中に実施され得る。本書に記載された本発明の添加剤を含む材料は、好ましくは、成形物品、例えば回転成形物品、射出成形物品、プロファイルなど、特に繊維、スパンメルト不織布、フィルム又はフォームの製造に使用される。
【０１８４】
このように、本発明はさらに、本発明の組成物を含む成形又は押出物品、繊維、スパンメルト不織布又はフォームに関する。
【実施例】
【０１８５】
以下の実施例は本発明を説明する：
実施例
材料及び方法
ＰＣ１４５樹脂（ＧＥプラスチックス社）を８時間１２０℃で真空乾燥し、イルガフォス（ＩＲＧＡＦＯＳ）（登録商標）Ｐ−ＥＰＱ（チバ スペシャルティ ケミカルズ社）で安定化させた。ダイネオン（Ｄｙｎｅｏｎ）ＰＡ５９３１（＝ＰＴＦＥ）をアンチドリッピング剤として用いた。
表１に示すポリカーボネート組成物を、Ｈａａｋｅ ＴＷ−１００上に２８０℃で押し出し、ストランド造粒でペレット化した。１２０℃、１２時間の乾燥後、造粒した組成物を２９０℃で、保険業者研究所難燃性基準ＵＬ−９４に従って、１．６ｍｍ又は３．２ｍｍ厚さのプラークに射出成形した。
ＵＬ−９４に従って、垂直モードで試験した。
【０１８６】
【表１】
【０１８７】
難燃剤（ＦＲ）は下記組成物を表す：
（１）ＴＩＮＯＰＡＬ ＳＦＰ：４，４’−ビス（２−アミノ−４−モノエタノールアミノ−６−ｓ−トリアジニル）ジアミノスチルベン−２，２’−ジスルホン酸ナトリウム（上記構造式、成分ａ）の定義参照）
（２）ＴＩＮＯＧＡＲＤ ＨＳ：３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシ−５−（１−メチルプロピル）−ベンゼンスルホン酸ナトリウム（上記構造式、成分ａ）の定義参照）
（３）ＴＩＮＯＰＡＬ ＣＢＳ：２，２’−（４，４’−ビフェニルジイルジ−２，１−エテネジイル）−ジベンゼンスルホン酸二ナトリウム（上記構造式、成分ａ）の定義参照）
（４）ＴＩＮＯＧＡＲＤ ＡＯ ６（上記構造式、成分ａ）の定義参照）
（５）ＴＩＮＯＧＡＲＤ ＡＯ ６Ｋ（ＴＩＮＡＧＡＲＤ ＡＯ ６のカリウム塩、成分ａ）の定義参照）。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）
ａ1）式（Ｉ）
【化１】
（式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して−ＮＨ2基、−ＮＨ−炭素原子数１乃至４のアルキル基
、−Ｎ（炭素原子数１乃至４のアルキル）2基、−ＮＨ−ヒドロキシ−炭素原子数２乃至
４のアルキル基、−Ｎ（ヒドロキシ−炭素原子数２乃至４のアルキル）2基、−Ｎ（炭素
原子数１乃至４のアルキル）（ヒドロキシ−炭素原子数２乃至４のアルキル）基、フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数１乃至４
のアルキル基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される１乃至３つの置換基によって置換されたフェニルアミノ基又はジフェニルアミノ基、又は５員又は６員の飽和Ｎ−ヘテロ環基を表し；
Ｒ1’及びＲ2’はＲ1及びＲ2として定義されたものと同様のものを表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す。）で
表されるトリアジニルアミノスチルベンジスルホン酸塩；
ａ2）式（ＩＩ）
【化２】
（式中、
Ｒ1は水素原子、炭素原子数１乃至４のアルキル基又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基を表し；Ｒ2は水素原子又はヒドロキシ基を表し；
Ｒ3は水素原子、炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数１乃至４のアルコキシ基
又はベンジル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す。）で
表される２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾリルスルホン酸塩；
ａ3）式（ＩＩＩ）
【化３】
（式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数
１乃至４のアルキル基、フェニル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、ヒドロキシ基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される置換基を表し；
Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’は夫々互いに独立して水素原子、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数１乃至４のアルキル基、フェニル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、ヒドロキシ基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される置換基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す。）で
表されるスルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体；そして
ａ4）式（ＩＶ）
【化４】
（式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数
１乃至４のアルキル基、フェニル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、ヒドロキシ基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される置換基を表し；
Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数１乃至４のアルキル基、フェニル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、ヒドロキシ基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される置換基を表し；そして、
Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す。）で
表されるスルホ置換された２，５−ビス−（ベンゾオキサゾリル）−チオフェン誘導体；ａ5）式（Ｖ）
【化５】
（式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子、又は炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、アリール基及びアリール−炭素原子数１乃至４のアルキル基からなる群から選択される置換基を表し；
Ｒ3は水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し：
Ｘは炭素原子数２乃至６のアルキレン基を表し；
Ａｒはフェニル基、炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、アリール基及びアリール−炭素原子数１乃至４のアルキル基からなる群から選択される１つ又は２つの置換基で置換されたフェニル基、ナフチル基、又は、１乃至４つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換されたナフチル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す。）で
表されるスルホ置換されたフェノール誘導体からなる群から選択される少なくとも一種の芳香族スルホン酸の塩、そして更なる成分としてアンチドリッピング剤；及び
ｂ）ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材
を含む組成物。
【請求項２】
更なるアンチドリッピング剤としてポリテトラフルオロエチレンを含む、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
ａ）
ａ1）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が夫々互いに独立して−ＮＨ2基、−Ｎ（炭素原子数１乃至４のアルキル）2基、−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数１乃至４のアルキル基及び炭素原子数１乃至４
のアルコキシ基からなる群から選択される１乃至３つの置換基によって置換されたフェニルアミノ基、又は５員又は６員の飽和Ｎ−ヘテロ環基を表し；
Ｒ1’及びＲ2’はＲ1及びＲ2として定義されたものと同様のものを表し：そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、トリアジニルアミノスチルベンスルホン酸塩（Ｉ）；
ａ2）前記式中、
Ｒ1が水素原子を表し；
Ｒ2が水素原子を表し；そして
Ｒ3が水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾリルスルホン酸塩（ＩＩ）；そして
ａ3）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が夫々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’のうちの一つが−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基を表し、その他のものが水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体（Ｉ
ＩＩ）；そして
ａ4）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が夫々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’が夫々互いに独立して水素原子、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基及び炭素原子数１乃至４のアルキル基からなる群から選択される置換基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホ置換された２，５−ビス−（ベンゾオキサゾリル
）−チオフェン誘導体（ＩＶ）；そして
ａ5）前記式中、
Ｒ1及びＲ2夫々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；
Ｒ3が水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；
Ｘが炭素原子数２乃至６のアルキレン基を表し；
Ａｒがフェニル基、又は１又は２つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換されたフェニル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホ置換されたフェノール誘導体（Ｖ）、
からなる群から選択された少なくとも一種の芳香族スルホン酸の塩、並びに
ｂ）ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材
を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項４】
ａ）
ａ1）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が夫々互いに独立して−Ｎ（炭素原子数１乃至４のアルキル）2基、１又は２
つの−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基で置換されたフェニルアミノ基、又はモルホリニル基を表
し；
Ｍ+はアルカリ金属原子を表し；そして
Ｒ1’及びＲ2’はＲ1及びＲ2として定義されたものと同様のものを表す、トリアジニルアミノスチルベンジスルホン酸塩（Ｉ）；
ａ2）前記式中、
Ｒ1が水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；
Ｒ2が水素原子又はヒドロキシ基を表し；そして
Ｒ3が水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾリルスルホン酸塩（ＩＩ）；そして
ａ3）前記式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’のうちの一つが−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基を表し、他のものが水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表す、スルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体（ＩＩＩ）；そして
ａ5）前記式中、
Ｒ1及びＲ2のうちの一つがメチル基を表し、そしてその他の一つが第三ブチル基を表し、或いはＲ1及びＲ2の双方が第三ブチル基を表し；
Ｒ3が水素原子又はメチル基を表し；
Ｘが炭素原子数２乃至４のアルキレン基を表し；
Ａｒが１つのメチル基及び１つの第三ブチル基で置換されるか、又は２つの第三ブチル基で置換されたフェニル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホ置換されたフェノール誘導体（Ｖ）、
からなる群から選択される少なくとも一種の芳香族スルホン酸の塩；並びに、
ｂ）ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材
を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項５】
ａ）
ａ1）前記式中、
Ｒ1及びＲ2のうちの一つが−Ｎ（炭素原子数１乃至４のアルキル）2基を表し、その他の
一つが２つの−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基で置換されたフェニルアミノ基を表し；
Ｒ1’及びＲ2’はＲ1及びＲ2として定義されたものと同様のものを表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、トリアジニルアミノスチルベンジスルホン酸塩（Ｉ）；
ａ2）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が水素原子を表し；そして
Ｒ3が水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾリルスルホン酸塩（ＩＩ）；そして
ａ3）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が水素原子を表し；
Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’のうちの一つが−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基を表し、そしてその他のものが水素原子を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体（Ｉ
ＩＩ）；そして
ａ5）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が第三ブチル基を表し；
Ｒ3が水素原子を表し；
Ｘがエチレン基を表し；
Ａｒが２つの第三ブチル基で置換されたフェニル基を表し；そして、
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホ置換されたフェノール誘導体（Ｖ）；
からなる群から選択される少なくとも一種の芳香族スルホン酸の塩、並びに
ｂ）ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材
を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項６】
ａ）
ａ1）式（Ｉ’）で表されるトリアジニルアミノスチルベンジスルホン酸塩
【化６】
ａ2）式（ＩＩ’）で表される２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾ
リルスルホン酸塩
【化７】
及び、
ａ3）式（ＩＩＩ’）で表されるスルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体
【化８】
及び、
ａ5）式（Ｖ’）で表されるスルホ置換されたフェノール誘導体の塩、
【化９】
からなる群から選択される少なくとも一種の芳香族スルホン酸の塩、並びに
ｂ）ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材、
を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項７】
ポリマー安定剤及び更なる難燃剤からなる群から選択される更なる添加剤をさらに含む、請求項１記載の組成物。
【請求項８】
ａ5）式（Ｖ）
【化１０】
（式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子又は、炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、アリール基及びアリール−炭素原子数１乃至４のアルキル基からなる群から選択される置換基を表し；
Ｒ3は水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；
Ｘは炭素原子数２乃至６のアルキレン基を表し；
Ａｒはフェニル基、炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、アリール基及びアリール−炭素原子数１乃至４のアルキル基からなる群から選択される１つ又は２つの置換基で置換されたフェニル基、ナフチル基又は１−４つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換されたナフチル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す。）で
表されるスルホ置換されたフェノール誘導体、並びに、
ｂ）ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材、
を含む組成物。
【請求項９】
ポリカーボネート又はポリカーネートブレンドを含むポリマー基材に難燃性を付与する方法であって、前記ポリマー基材に、請求項１記載の芳香族スルホン酸の塩を添加することを含む方法。
【請求項１】
ａ）
ａ1）式（Ｉ）
【化１】
（式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して−ＮＨ2基、−ＮＨ−炭素原子数１乃至４のアルキル基
、−Ｎ（炭素原子数１乃至４のアルキル）2基、−ＮＨ−ヒドロキシ−炭素原子数２乃至
４のアルキル基、−Ｎ（ヒドロキシ−炭素原子数２乃至４のアルキル）2基、−Ｎ（炭素
原子数１乃至４のアルキル）（ヒドロキシ−炭素原子数２乃至４のアルキル）基、フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数１乃至４
のアルキル基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される１乃至３つの置換基によって置換されたフェニルアミノ基又はジフェニルアミノ基、又は５員又は６員の飽和Ｎ−ヘテロ環基を表し；
Ｒ1’及びＲ2’はＲ1及びＲ2として定義されたものと同様のものを表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す。）で
表されるトリアジニルアミノスチルベンジスルホン酸塩；
ａ2）式（ＩＩ）
【化２】
（式中、
Ｒ1は水素原子、炭素原子数１乃至４のアルキル基又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基を表し；Ｒ2は水素原子又はヒドロキシ基を表し；
Ｒ3は水素原子、炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数１乃至４のアルコキシ基
又はベンジル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す。）で
表される２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾリルスルホン酸塩；
ａ3）式（ＩＩＩ）
【化３】
（式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数
１乃至４のアルキル基、フェニル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、ヒドロキシ基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される置換基を表し；
Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’は夫々互いに独立して水素原子、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数１乃至４のアルキル基、フェニル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、ヒドロキシ基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される置換基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す。）で
表されるスルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体；そして
ａ4）式（ＩＶ）
【化４】
（式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数
１乃至４のアルキル基、フェニル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、ヒドロキシ基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される置換基を表し；
Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数１乃至４のアルキル基、フェニル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、ヒドロキシ基及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される置換基を表し；そして、
Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す。）で
表されるスルホ置換された２，５−ビス−（ベンゾオキサゾリル）−チオフェン誘導体；ａ5）式（Ｖ）
【化５】
（式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子、又は炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、アリール基及びアリール−炭素原子数１乃至４のアルキル基からなる群から選択される置換基を表し；
Ｒ3は水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し：
Ｘは炭素原子数２乃至６のアルキレン基を表し；
Ａｒはフェニル基、炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、アリール基及びアリール−炭素原子数１乃至４のアルキル基からなる群から選択される１つ又は２つの置換基で置換されたフェニル基、ナフチル基、又は、１乃至４つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換されたナフチル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す。）で
表されるスルホ置換されたフェノール誘導体からなる群から選択される少なくとも一種の芳香族スルホン酸の塩、そして更なる成分としてアンチドリッピング剤；及び
ｂ）ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材
を含む組成物。
【請求項２】
更なるアンチドリッピング剤としてポリテトラフルオロエチレンを含む、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
ａ）
ａ1）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が夫々互いに独立して−ＮＨ2基、−Ｎ（炭素原子数１乃至４のアルキル）2基、−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基、炭素原子数１乃至４のアルキル基及び炭素原子数１乃至４
のアルコキシ基からなる群から選択される１乃至３つの置換基によって置換されたフェニルアミノ基、又は５員又は６員の飽和Ｎ−ヘテロ環基を表し；
Ｒ1’及びＲ2’はＲ1及びＲ2として定義されたものと同様のものを表し：そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、トリアジニルアミノスチルベンスルホン酸塩（Ｉ）；
ａ2）前記式中、
Ｒ1が水素原子を表し；
Ｒ2が水素原子を表し；そして
Ｒ3が水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾリルスルホン酸塩（ＩＩ）；そして
ａ3）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が夫々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’のうちの一つが−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基を表し、その他のものが水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体（Ｉ
ＩＩ）；そして
ａ4）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が夫々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’が夫々互いに独立して水素原子、又は−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基及び炭素原子数１乃至４のアルキル基からなる群から選択される置換基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホ置換された２，５−ビス−（ベンゾオキサゾリル
）−チオフェン誘導体（ＩＶ）；そして
ａ5）前記式中、
Ｒ1及びＲ2夫々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；
Ｒ3が水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；
Ｘが炭素原子数２乃至６のアルキレン基を表し；
Ａｒがフェニル基、又は１又は２つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換されたフェニル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホ置換されたフェノール誘導体（Ｖ）、
からなる群から選択された少なくとも一種の芳香族スルホン酸の塩、並びに
ｂ）ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材
を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項４】
ａ）
ａ1）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が夫々互いに独立して−Ｎ（炭素原子数１乃至４のアルキル）2基、１又は２
つの−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基で置換されたフェニルアミノ基、又はモルホリニル基を表
し；
Ｍ+はアルカリ金属原子を表し；そして
Ｒ1’及びＲ2’はＲ1及びＲ2として定義されたものと同様のものを表す、トリアジニルアミノスチルベンジスルホン酸塩（Ｉ）；
ａ2）前記式中、
Ｒ1が水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；
Ｒ2が水素原子又はヒドロキシ基を表し；そして
Ｒ3が水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾリルスルホン酸塩（ＩＩ）；そして
ａ3）前記式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’のうちの一つが−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基を表し、他のものが水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表す、スルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体（ＩＩＩ）；そして
ａ5）前記式中、
Ｒ1及びＲ2のうちの一つがメチル基を表し、そしてその他の一つが第三ブチル基を表し、或いはＲ1及びＲ2の双方が第三ブチル基を表し；
Ｒ3が水素原子又はメチル基を表し；
Ｘが炭素原子数２乃至４のアルキレン基を表し；
Ａｒが１つのメチル基及び１つの第三ブチル基で置換されるか、又は２つの第三ブチル基で置換されたフェニル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホ置換されたフェノール誘導体（Ｖ）、
からなる群から選択される少なくとも一種の芳香族スルホン酸の塩；並びに、
ｂ）ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材
を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項５】
ａ）
ａ1）前記式中、
Ｒ1及びＲ2のうちの一つが−Ｎ（炭素原子数１乃至４のアルキル）2基を表し、その他の
一つが２つの−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基で置換されたフェニルアミノ基を表し；
Ｒ1’及びＲ2’はＲ1及びＲ2として定義されたものと同様のものを表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、トリアジニルアミノスチルベンジスルホン酸塩（Ｉ）；
ａ2）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が水素原子を表し；そして
Ｒ3が水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾリルスルホン酸塩（ＩＩ）；そして
ａ3）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が水素原子を表し；
Ｒ1’、Ｒ2’及びＲ3’のうちの一つが−Ｓ（＝Ｏ）2−Ｏ-Ｍ+基を表し、そしてその他のものが水素原子を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体（Ｉ
ＩＩ）；そして
ａ5）前記式中、
Ｒ1及びＲ2が第三ブチル基を表し；
Ｒ3が水素原子を表し；
Ｘがエチレン基を表し；
Ａｒが２つの第三ブチル基で置換されたフェニル基を表し；そして、
Ｍ+はアルカリ金属原子を表す、スルホ置換されたフェノール誘導体（Ｖ）；
からなる群から選択される少なくとも一種の芳香族スルホン酸の塩、並びに
ｂ）ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材
を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項６】
ａ）
ａ1）式（Ｉ’）で表されるトリアジニルアミノスチルベンジスルホン酸塩
【化６】
ａ2）式（ＩＩ’）で表される２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾ
リルスルホン酸塩
【化７】
及び、
ａ3）式（ＩＩＩ’）で表されるスルホフェニル置換されたビス−スチルベン誘導体
【化８】
及び、
ａ5）式（Ｖ’）で表されるスルホ置換されたフェノール誘導体の塩、
【化９】
からなる群から選択される少なくとも一種の芳香族スルホン酸の塩、並びに
ｂ）ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材、
を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項７】
ポリマー安定剤及び更なる難燃剤からなる群から選択される更なる添加剤をさらに含む、請求項１記載の組成物。
【請求項８】
ａ5）式（Ｖ）
【化１０】
（式中、
Ｒ1及びＲ2は夫々互いに独立して水素原子又は、炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、アリール基及びアリール−炭素原子数１乃至４のアルキル基からなる群から選択される置換基を表し；
Ｒ3は水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し；
Ｘは炭素原子数２乃至６のアルキレン基を表し；
Ａｒはフェニル基、炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル基、炭素原子数５乃至６のシクロアルキル−炭素原子数１乃至４のアルキル基、アリール基及びアリール−炭素原子数１乃至４のアルキル基からなる群から選択される１つ又は２つの置換基で置換されたフェニル基、ナフチル基又は１−４つの炭素原子数１乃至４のアルキル基で置換されたナフチル基を表し；そして
Ｍ+はアルカリ金属原子、アンモニウム又はアミンから形成されたカチオンを表す。）で
表されるスルホ置換されたフェノール誘導体、並びに、
ｂ）ポリカーボネート又はポリカーボネートブレンドを含むポリマー基材、
を含む組成物。
【請求項９】
ポリカーボネート又はポリカーネートブレンドを含むポリマー基材に難燃性を付与する方法であって、前記ポリマー基材に、請求項１記載の芳香族スルホン酸の塩を添加することを含む方法。
【公表番号】特表２００９−５２６８７５（Ｐ２００９−５２６８７５Ａ）
【公表日】平成２１年７月２３日（２００９．７．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−５５３７３６（Ｐ２００８−５５３７３６）
【出願日】平成１９年２月５日（２００７．２．５）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００７／０５１０５８
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０９３５１３
【国際公開日】平成１９年８月２３日（２００７．８．２３）
【出願人】（３９６０２３９４８）チバ ホールディング インコーポレーテッド (530)
【氏名又は名称原語表記】Ｃｉｂａ Ｈｏｌｄｉｎｇ Ｉｎｃ．
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２１年７月２３日（２００９．７．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年２月５日（２００７．２．５）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００７／０５１０５８
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０９３５１３
【国際公開日】平成１９年８月２３日（２００７．８．２３）
【出願人】（３９６０２３９４８）チバ ホールディング インコーポレーテッド (530)
【氏名又は名称原語表記】Ｃｉｂａ Ｈｏｌｄｉｎｇ Ｉｎｃ．
【Ｆターム（参考）】
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