足浴器
【課題】 足浴槽内に相当量の水を注いだり、使用後に排水したりする手間と時間をなくすとともに、床等への水垂れによる汚れをなくし、さらに、蒸気が足裏へ均等に当たらずに局所的に温度のムラが発生したり、蒸気停止後に、浴槽内の温度が冷めやすいなどの問題を解決する。
【解決手段】 本体１内に足浴するための足浴槽２を設け、本体１上に前後に分割されて足を挟み込むことが可能なフタ３を設けた足浴器において、足浴槽２内に加熱することで一定量の遠赤外線を放出する特性を持つ複数のセラミック４を設け、セラミック４の下方に多くの穴を有したシキリ板７と、スチーム発生装置８を設け、スチーム発生装置８により発生したスチームをシキリ板７とセラミック４を通すことによりセラミック４と足浴槽２内を加熱し、さらに足浴槽２内を加湿することで可能としたものである。
【解決手段】 本体１内に足浴するための足浴槽２を設け、本体１上に前後に分割されて足を挟み込むことが可能なフタ３を設けた足浴器において、足浴槽２内に加熱することで一定量の遠赤外線を放出する特性を持つ複数のセラミック４を設け、セラミック４の下方に多くの穴を有したシキリ板７と、スチーム発生装置８を設け、スチーム発生装置８により発生したスチームをシキリ板７とセラミック４を通すことによりセラミック４と足浴槽２内を加熱し、さらに足浴槽２内を加湿することで可能としたものである。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、足専用の部分浴を行うための足浴器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の足浴器は、特許文献１に示すように本体内にお湯を溜めて足浴を行うための浴槽を設け、その浴槽の外面の底面及び側面に発熱体を取り付け、さらに湯温を調整するため制御装置と温度検出素子を設けた構成となっている。
【０００３】
また、特許文献２に示すように、水をミスト化するミスト化機構を有し、そのミスト化された水を含む状態を加熱して蒸気を含む空気を出力するミスト加熱器を有する蒸気発生装置を設け、発生した蒸気を別に設けた内部に通気性のある足乗せ台を有する足浴槽の下方へ導くような構成のものである。
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−３１４２６４号公報
【０００５】
【特許文献２】特開２００４−１３５８９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記の特許文献１に示す足温浴器の場合には、お湯式の足浴を行う際の事前準備として適温の４０℃前後に調整したお湯をあらかじめ用意して浴槽内に注ぐか、または水を注いでから浴槽内でヒータ加熱して適温の４０℃前後になるまで待つ必要があった。また、足浴に使用するお湯の量はサイズによっては約１０リットルの水が必要となり、適温のお湯をつくるのは手間と時間がかかっていた。また、一度使用したお湯は汚れるため、別の人が使用したい時やある程度時間をおいて使用したい時は、その都度排水してお湯の入れ替えを行わなければならなかった。
【０００７】
さらに、足浴終了後には足が濡れている為、タオル等で拭かないと床等にお湯が垂れたりして周囲を汚してしまう恐れがあった。
【０００８】
一方、特許文献２に示すように、お湯を使わない蒸気加熱式の足浴器では、少量の水で使用でき、また短時間で高温の蒸気を発生させることができるが、蒸気を足裏等から直接噴出して温めるため、蒸気が足裏へ均等に当たらずに局所的に温度が上昇しやすく、ムラが発生しやすいし、熱容量が小さいので蒸気停止後、浴槽内の温度はすぐに冷めやすく、蒸気停止とともに足浴も終了しなければならなかった。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は上記問題を解決する為になされたもので、請求項１では、本体内に足浴するための足浴槽を設け、本体上に足を挟み込むことが可能なフタを設けた足浴器において、足浴槽内に加熱することで一定量の遠赤外線を放出する特性を持つ複数のセラミックを設け、セラミックの下方に多くの穴を有したシキリ板と、スチーム発生装置を設け、スチーム発生装置により発生したスチームをシキリ板とセラミックを通すことによりセラミックと足浴槽内を加熱し、さらに足浴槽内を加湿できるようにしたものである。
【００１０】
また、請求項２では、前記足浴槽内のスチーム発生装置で発生したスチームを撹拌するファンと、上記スチーム発生装置により発生したスチームを直接足浴槽に送る送風路Ａと、シキリ板とセラミックを通して足浴槽に送る送風路Ｂと送風路Ｃとを設けるようにしたものである。
【００１１】
さらに、請求項３では、前記セラミックは、加熱により遠赤外線を放出する特性を持つセラミックと、除菌作用を促すセラミック等、異なる特性を持つ複数のセラミックとで構成し、足浴槽内に配置したものである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の請求項１によれば、スチームを利用してセラミックを温めることにより、浴槽内の温度を湿熱で均一に加熱するため、使用する水の量も少なくて済み、短時間で浴槽内を温め手軽に足浴ができ、足も必要以上に濡れない効果があり、使用後も簡単な手入れで足浴槽内を常に清潔に保つことができる。
【００１３】
また、請求項２によればスチームをファンで撹拌し、足浴槽への風路を２系統にすることにより、浴槽内の温度上昇や加湿の速度を速める効果がある。
【００１４】
さらに、請求項３によれば、セラミックによる遠赤外線の効果の他に除菌作用を促すセラミックを入れることにより、使用後セラミックに残った水滴（湿度）と余熱による雑菌の発生などを防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明の各実施例を以下に説明する。
【実施例１】
【００１６】
本発明の一実施例を図１を用いて説明する。
【００１７】
図において、１は足浴器本体である。１３は水を保持する水タンクで、中に、水を入れたり、清掃ができるように本体１内に取り外し自在に収納されている。１５は水タンク１３内の水が無くなるのを検出するための残量センサである。
【００１８】
２は足浴するための足浴槽、３は本体１上部に前後に分割し脚を挟み込むことが可能なフタである。
【００１９】
４は小形（足を乗せたときに怪我のするような角などが無い形状）に加工を施した複数のセラミックで、加熱することにより遠赤外線を放出する特性を持つ遠赤外線セラミックや除菌を行う銀セラミックを適当にちらばらせて構成されており、足浴槽２内の下方に略水平に配置してある。
【００２０】
５は布で、セラミック４の上に敷いて使用するものであり、同じ温度設定でも個人差やその日の体調により熱さの感じ方に差があるので、熱く感じた時などに敷く数枚を増やしたり、使用する人が変わるごとに、敷く布を代えることで常に清潔に保つことができる。また、この布５は、特に使用しなくても良く、使用しない場合はセラミック４に直接足を載せ、セラミック４のゴツゴツ感で足の裏をマッサージする効果も期待できる。
【００２１】
６は温度センサでセラミック４の温度を検出するものである。
【００２２】
７はシキリ板で、セラミック４の下部に設けられ、多くの穴を有し、後記スチーム発生装置８で発生したスチームや熱を効率よくセラミック４へ伝え、その後足浴槽２内も加湿し、加熱することができる。
【００２３】
８はスチームを発生させるためのスチーム発生装置で、水を沸騰させる蒸発皿８ａと、水を沸騰させるヒータ８ｂとで構成され、足浴槽２の下部に設けられている。
【００２４】
１６は板でスチーム発生装置８の真上に配置し、発生したスチームを分散させスチームがシキリ板７にほぼ均等に当るようにする。
【００２５】
次に、本実施例の動作について説明する。
【００２６】
水タンク１３に水を入れて本体１にセットすると水が蒸発皿８ａにも給水される。そして本体１にフタ３をして運転を開始する。この状態でヒータ８ｂへの通電を開始すると蒸発皿８ａ内の水の温度が上昇してスチームを発生し始める。
【００２７】
発生したスチームは板１６に当って分散され、スチームがセラミック４にムラ無く行き渡り温度ムラが少なくなる。板１６が無いとスチーム発生装置８の真上のシキリ板７とセラミック４が部分的に温度が高くなり、セラミック４に温度ムラが発生してしまう。しかし、スチーム発生装置８のスチーム発生面の面積を十分に広くしてスチームをセラミック４の全体に行き渡るようにしたり、水の温度上昇速度を調整することで、板１６が無い状態で使用することも可能である。
【００２８】
板１６で分散されたスチームは、シキリ板７の多数の穴を通ってセラミック４に達し、スチームの熱でセラミック４を加熱し、セラミック４同士の隙間から足浴槽２にスチームが達する。ある程度セラミック４が温められると温度センサ６によって温調が働き、セラミック４は一定温度に保たれ、その後一定時間運転することで全体の温度が均一化し、足浴槽２内もスチームが充満して脚浴ができる状態になる。
【００２９】
足は本体１の上面から図のように入れてセラミック４の上に乗せ、余熱で足浴を行う。このとき、足浴する時間により、例えば１０〜１５分間程度の足浴を行う場合は、ヒータ８ｂへの通電を停止して余熱で足浴を行うことが可能であり、それより長く脚浴したい場合は、通電しながら足浴することも可能である。また、初めから足を入れておくことも可能である。
【実施例２】
【００３０】
実施例２では図２を用いて実施例１と違う部分について説明する。
【００３１】
セラミック４の加熱手段としてスチーム発生装置８の他にスチーム撹拌用のファン９を設け、上記スチーム発生装置８により発生したスチームを送風路Ａ１０を介して足浴槽２内へ直接送り、同時に送風路Ｂ１１を介して上記シキリ板７の下方に設けた送風路Ｃ１２に送る構成とした。
【００３２】
スチーム発生装置８とファン９は、本体１と足浴槽２内の空間部に設けられ、送風路Ａ１０は足浴槽２内の上部側面側に開口し、送風路Ｂ１１は足浴槽２の下部側面を貫通し、送風路Ｃ１２に連なっている。
【００３３】
この図２の構成では、水タンク１３内の水をスチーム発生装置８に供給するのに給水路１４を介して水を送る構成としているが、スチーム発生装置８とファン９を水タンク１３の下に設置し、水タンク１３の位置も下げることにより、給水路１４を短くしたり、使用しない構成にすることも可能である。
【００３４】
また、送風路Ａ１０、Ｂ１１の位置も同様に、例えば送風路Ａ１０の出口を反対側の足つま先側から出すことも可能であり、足浴槽２へ直接スチームを出せる場所なら特に限定しない。
【００３５】
また、図２では送風路Ｂ１１とＣ１２に段差が生じているが、送風路Ｃ１２内で結露した水が溜まることもあるので、送風路Ｂ１１、Ｃ１２間の段差を無くし、送風路Ｃ１２の底に溜まった水が送風路Ｂ１１からスチーム発生装置８に向かって流れるように傾斜を設けることで、送風路Ｃ１２内の水溜まりを防止することもできる。
【００３６】
次にフタ３を閉じた状態で運転を開始すると、スチーム発生装置８に通電され、水が加熱されて、数分でスチームが発生する。その後、送風ファン９の運転を開始する。発生したスチームの一部は送風路Ａ１０を通って足浴槽２内へ直接送り込まれ足浴槽２を温める。また、送風路Ｂ１１を通して送風路Ｃ１２に送られたスチームは、シキリ板７に設けた多数の穴を通過し、不規則に配置された複数のセラミック４の隙間を通過し、足浴槽２内へ到達する。スチームはセラミック４の隙間よりあらゆる箇所から通過していき、均等にムラなくセラミック４を加熱することができる。
【００３７】
ある程度セラミック４が温められると温度センサ６によって温調が働き、セラミック４は一定温度に保たれ、その後一定時間運転することで全体の温度が均一化し、足浴槽２内もスチームが充満して脚浴ができる状態になる。
【００３８】
足は本体１の上部から図のように入れてセラミック４の上に乗せ、余熱で足浴を行う。このとき、足浴する時間により、例えば１０〜１５分間程度の足浴を行う場合は、スチーム発生装置８への通電を停止して余熱で足浴を行うことが可能であり、それより長く使用したい場合は、さらに通電しながら足浴することも可能である。また、初めから足を入れておくことも可能である。
【００３９】
しかし、足を入れた状態でスチーム発生装置８への通電を行うとスチームで火傷するおそれがあるので、送風路Ａ１０にフタをして、この出口よりスチームが出ないようにして足浴をすることも可能である。
【００４０】
以上のように加熱されたセラミック４は、比熱が高く保温性が良い為、適温の状態で約１５分間は維持することが可能ある。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明の一実施例を示す足浴器の断面図である。
【図２】本発明の一実施例を示す足浴器の断面図である。
【符号の説明】
【００４２】
１ 本体
２ 足浴槽
４ セラミック
６ 温度センサ
７ シキリ板
８ スチーム発生装置
９ ファン
１０ 送風路Ａ
１１ 送風路Ｂ
１２ 送風路Ｃ
１３ 水タンク
【技術分野】
【０００１】
本発明は、足専用の部分浴を行うための足浴器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の足浴器は、特許文献１に示すように本体内にお湯を溜めて足浴を行うための浴槽を設け、その浴槽の外面の底面及び側面に発熱体を取り付け、さらに湯温を調整するため制御装置と温度検出素子を設けた構成となっている。
【０００３】
また、特許文献２に示すように、水をミスト化するミスト化機構を有し、そのミスト化された水を含む状態を加熱して蒸気を含む空気を出力するミスト加熱器を有する蒸気発生装置を設け、発生した蒸気を別に設けた内部に通気性のある足乗せ台を有する足浴槽の下方へ導くような構成のものである。
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−３１４２６４号公報
【０００５】
【特許文献２】特開２００４−１３５８９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記の特許文献１に示す足温浴器の場合には、お湯式の足浴を行う際の事前準備として適温の４０℃前後に調整したお湯をあらかじめ用意して浴槽内に注ぐか、または水を注いでから浴槽内でヒータ加熱して適温の４０℃前後になるまで待つ必要があった。また、足浴に使用するお湯の量はサイズによっては約１０リットルの水が必要となり、適温のお湯をつくるのは手間と時間がかかっていた。また、一度使用したお湯は汚れるため、別の人が使用したい時やある程度時間をおいて使用したい時は、その都度排水してお湯の入れ替えを行わなければならなかった。
【０００７】
さらに、足浴終了後には足が濡れている為、タオル等で拭かないと床等にお湯が垂れたりして周囲を汚してしまう恐れがあった。
【０００８】
一方、特許文献２に示すように、お湯を使わない蒸気加熱式の足浴器では、少量の水で使用でき、また短時間で高温の蒸気を発生させることができるが、蒸気を足裏等から直接噴出して温めるため、蒸気が足裏へ均等に当たらずに局所的に温度が上昇しやすく、ムラが発生しやすいし、熱容量が小さいので蒸気停止後、浴槽内の温度はすぐに冷めやすく、蒸気停止とともに足浴も終了しなければならなかった。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は上記問題を解決する為になされたもので、請求項１では、本体内に足浴するための足浴槽を設け、本体上に足を挟み込むことが可能なフタを設けた足浴器において、足浴槽内に加熱することで一定量の遠赤外線を放出する特性を持つ複数のセラミックを設け、セラミックの下方に多くの穴を有したシキリ板と、スチーム発生装置を設け、スチーム発生装置により発生したスチームをシキリ板とセラミックを通すことによりセラミックと足浴槽内を加熱し、さらに足浴槽内を加湿できるようにしたものである。
【００１０】
また、請求項２では、前記足浴槽内のスチーム発生装置で発生したスチームを撹拌するファンと、上記スチーム発生装置により発生したスチームを直接足浴槽に送る送風路Ａと、シキリ板とセラミックを通して足浴槽に送る送風路Ｂと送風路Ｃとを設けるようにしたものである。
【００１１】
さらに、請求項３では、前記セラミックは、加熱により遠赤外線を放出する特性を持つセラミックと、除菌作用を促すセラミック等、異なる特性を持つ複数のセラミックとで構成し、足浴槽内に配置したものである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の請求項１によれば、スチームを利用してセラミックを温めることにより、浴槽内の温度を湿熱で均一に加熱するため、使用する水の量も少なくて済み、短時間で浴槽内を温め手軽に足浴ができ、足も必要以上に濡れない効果があり、使用後も簡単な手入れで足浴槽内を常に清潔に保つことができる。
【００１３】
また、請求項２によればスチームをファンで撹拌し、足浴槽への風路を２系統にすることにより、浴槽内の温度上昇や加湿の速度を速める効果がある。
【００１４】
さらに、請求項３によれば、セラミックによる遠赤外線の効果の他に除菌作用を促すセラミックを入れることにより、使用後セラミックに残った水滴（湿度）と余熱による雑菌の発生などを防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明の各実施例を以下に説明する。
【実施例１】
【００１６】
本発明の一実施例を図１を用いて説明する。
【００１７】
図において、１は足浴器本体である。１３は水を保持する水タンクで、中に、水を入れたり、清掃ができるように本体１内に取り外し自在に収納されている。１５は水タンク１３内の水が無くなるのを検出するための残量センサである。
【００１８】
２は足浴するための足浴槽、３は本体１上部に前後に分割し脚を挟み込むことが可能なフタである。
【００１９】
４は小形（足を乗せたときに怪我のするような角などが無い形状）に加工を施した複数のセラミックで、加熱することにより遠赤外線を放出する特性を持つ遠赤外線セラミックや除菌を行う銀セラミックを適当にちらばらせて構成されており、足浴槽２内の下方に略水平に配置してある。
【００２０】
５は布で、セラミック４の上に敷いて使用するものであり、同じ温度設定でも個人差やその日の体調により熱さの感じ方に差があるので、熱く感じた時などに敷く数枚を増やしたり、使用する人が変わるごとに、敷く布を代えることで常に清潔に保つことができる。また、この布５は、特に使用しなくても良く、使用しない場合はセラミック４に直接足を載せ、セラミック４のゴツゴツ感で足の裏をマッサージする効果も期待できる。
【００２１】
６は温度センサでセラミック４の温度を検出するものである。
【００２２】
７はシキリ板で、セラミック４の下部に設けられ、多くの穴を有し、後記スチーム発生装置８で発生したスチームや熱を効率よくセラミック４へ伝え、その後足浴槽２内も加湿し、加熱することができる。
【００２３】
８はスチームを発生させるためのスチーム発生装置で、水を沸騰させる蒸発皿８ａと、水を沸騰させるヒータ８ｂとで構成され、足浴槽２の下部に設けられている。
【００２４】
１６は板でスチーム発生装置８の真上に配置し、発生したスチームを分散させスチームがシキリ板７にほぼ均等に当るようにする。
【００２５】
次に、本実施例の動作について説明する。
【００２６】
水タンク１３に水を入れて本体１にセットすると水が蒸発皿８ａにも給水される。そして本体１にフタ３をして運転を開始する。この状態でヒータ８ｂへの通電を開始すると蒸発皿８ａ内の水の温度が上昇してスチームを発生し始める。
【００２７】
発生したスチームは板１６に当って分散され、スチームがセラミック４にムラ無く行き渡り温度ムラが少なくなる。板１６が無いとスチーム発生装置８の真上のシキリ板７とセラミック４が部分的に温度が高くなり、セラミック４に温度ムラが発生してしまう。しかし、スチーム発生装置８のスチーム発生面の面積を十分に広くしてスチームをセラミック４の全体に行き渡るようにしたり、水の温度上昇速度を調整することで、板１６が無い状態で使用することも可能である。
【００２８】
板１６で分散されたスチームは、シキリ板７の多数の穴を通ってセラミック４に達し、スチームの熱でセラミック４を加熱し、セラミック４同士の隙間から足浴槽２にスチームが達する。ある程度セラミック４が温められると温度センサ６によって温調が働き、セラミック４は一定温度に保たれ、その後一定時間運転することで全体の温度が均一化し、足浴槽２内もスチームが充満して脚浴ができる状態になる。
【００２９】
足は本体１の上面から図のように入れてセラミック４の上に乗せ、余熱で足浴を行う。このとき、足浴する時間により、例えば１０〜１５分間程度の足浴を行う場合は、ヒータ８ｂへの通電を停止して余熱で足浴を行うことが可能であり、それより長く脚浴したい場合は、通電しながら足浴することも可能である。また、初めから足を入れておくことも可能である。
【実施例２】
【００３０】
実施例２では図２を用いて実施例１と違う部分について説明する。
【００３１】
セラミック４の加熱手段としてスチーム発生装置８の他にスチーム撹拌用のファン９を設け、上記スチーム発生装置８により発生したスチームを送風路Ａ１０を介して足浴槽２内へ直接送り、同時に送風路Ｂ１１を介して上記シキリ板７の下方に設けた送風路Ｃ１２に送る構成とした。
【００３２】
スチーム発生装置８とファン９は、本体１と足浴槽２内の空間部に設けられ、送風路Ａ１０は足浴槽２内の上部側面側に開口し、送風路Ｂ１１は足浴槽２の下部側面を貫通し、送風路Ｃ１２に連なっている。
【００３３】
この図２の構成では、水タンク１３内の水をスチーム発生装置８に供給するのに給水路１４を介して水を送る構成としているが、スチーム発生装置８とファン９を水タンク１３の下に設置し、水タンク１３の位置も下げることにより、給水路１４を短くしたり、使用しない構成にすることも可能である。
【００３４】
また、送風路Ａ１０、Ｂ１１の位置も同様に、例えば送風路Ａ１０の出口を反対側の足つま先側から出すことも可能であり、足浴槽２へ直接スチームを出せる場所なら特に限定しない。
【００３５】
また、図２では送風路Ｂ１１とＣ１２に段差が生じているが、送風路Ｃ１２内で結露した水が溜まることもあるので、送風路Ｂ１１、Ｃ１２間の段差を無くし、送風路Ｃ１２の底に溜まった水が送風路Ｂ１１からスチーム発生装置８に向かって流れるように傾斜を設けることで、送風路Ｃ１２内の水溜まりを防止することもできる。
【００３６】
次にフタ３を閉じた状態で運転を開始すると、スチーム発生装置８に通電され、水が加熱されて、数分でスチームが発生する。その後、送風ファン９の運転を開始する。発生したスチームの一部は送風路Ａ１０を通って足浴槽２内へ直接送り込まれ足浴槽２を温める。また、送風路Ｂ１１を通して送風路Ｃ１２に送られたスチームは、シキリ板７に設けた多数の穴を通過し、不規則に配置された複数のセラミック４の隙間を通過し、足浴槽２内へ到達する。スチームはセラミック４の隙間よりあらゆる箇所から通過していき、均等にムラなくセラミック４を加熱することができる。
【００３７】
ある程度セラミック４が温められると温度センサ６によって温調が働き、セラミック４は一定温度に保たれ、その後一定時間運転することで全体の温度が均一化し、足浴槽２内もスチームが充満して脚浴ができる状態になる。
【００３８】
足は本体１の上部から図のように入れてセラミック４の上に乗せ、余熱で足浴を行う。このとき、足浴する時間により、例えば１０〜１５分間程度の足浴を行う場合は、スチーム発生装置８への通電を停止して余熱で足浴を行うことが可能であり、それより長く使用したい場合は、さらに通電しながら足浴することも可能である。また、初めから足を入れておくことも可能である。
【００３９】
しかし、足を入れた状態でスチーム発生装置８への通電を行うとスチームで火傷するおそれがあるので、送風路Ａ１０にフタをして、この出口よりスチームが出ないようにして足浴をすることも可能である。
【００４０】
以上のように加熱されたセラミック４は、比熱が高く保温性が良い為、適温の状態で約１５分間は維持することが可能ある。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明の一実施例を示す足浴器の断面図である。
【図２】本発明の一実施例を示す足浴器の断面図である。
【符号の説明】
【００４２】
１ 本体
２ 足浴槽
４ セラミック
６ 温度センサ
７ シキリ板
８ スチーム発生装置
９ ファン
１０ 送風路Ａ
１１ 送風路Ｂ
１２ 送風路Ｃ
１３ 水タンク
【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体（１）内に足浴するための足浴槽（２）を設け、本体（１）上に足を挟み込むことが可能なフタ（３）を設けた足浴器において、足浴槽（２）内に加熱することで一定量の遠赤外線を放出する特性を持つ複数のセラミック（４）を設け、セラミック（４）の下方に多くの穴を有したシキリ板（７）と、スチーム発生装置（８）を設け、スチーム発生装置（８）により発生したスチームをシキリ板（７）とセラミック（４）を通すことによりセラミック（４）と足浴槽（２）内を加熱し、さらに足浴槽（２）内を加湿することを特徴とする足浴器。
【請求項２】
前記足浴槽（２）内のスチーム発生装置（８）で発生したスチームを撹拌するファン（９）と、上記スチーム発生装置（８）により発生したスチームを直接足浴槽（２）に送る送風路Ａ（１０）と、シキリ板（７）とセラミック（４）を通して足浴槽（２）に送る送風路Ｂ（１１）と送風路Ｃ（１２）とを設けたことを特徴とする請求項１記載の足浴器。
【請求項３】
前記セラミック（４）は、加熱により遠赤外線を放出する特性を持つセラミックと、除菌作用を促すセラミック等、異なる特性を持つ複数のセラミックとで構成し、足浴槽（２）内に配置したことを特徴とする請求項１及び２記載の足浴器。
【請求項１】
本体（１）内に足浴するための足浴槽（２）を設け、本体（１）上に足を挟み込むことが可能なフタ（３）を設けた足浴器において、足浴槽（２）内に加熱することで一定量の遠赤外線を放出する特性を持つ複数のセラミック（４）を設け、セラミック（４）の下方に多くの穴を有したシキリ板（７）と、スチーム発生装置（８）を設け、スチーム発生装置（８）により発生したスチームをシキリ板（７）とセラミック（４）を通すことによりセラミック（４）と足浴槽（２）内を加熱し、さらに足浴槽（２）内を加湿することを特徴とする足浴器。
【請求項２】
前記足浴槽（２）内のスチーム発生装置（８）で発生したスチームを撹拌するファン（９）と、上記スチーム発生装置（８）により発生したスチームを直接足浴槽（２）に送る送風路Ａ（１０）と、シキリ板（７）とセラミック（４）を通して足浴槽（２）に送る送風路Ｂ（１１）と送風路Ｃ（１２）とを設けたことを特徴とする請求項１記載の足浴器。
【請求項３】
前記セラミック（４）は、加熱により遠赤外線を放出する特性を持つセラミックと、除菌作用を促すセラミック等、異なる特性を持つ複数のセラミックとで構成し、足浴槽（２）内に配置したことを特徴とする請求項１及び２記載の足浴器。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２００６−５１１３８（Ｐ２００６−５１１３８Ａ）
【公開日】平成１８年２月２３日（２００６．２．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−２３４０３０（Ｐ２００４−２３４０３０）
【出願日】平成１６年８月１１日（２００４．８．１１）
【出願人】（５０２１３１４３１）日立ホーム・アンド・ライフ・ソリューション株式会社 (302)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年２月２３日（２００６．２．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年８月１１日（２００４．８．１１）
【出願人】（５０２１３１４３１）日立ホーム・アンド・ライフ・ソリューション株式会社 (302)
【Ｆターム（参考）】
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