電極形成用組成物および電極形成用組成物を用いるプラズマディスプレイパネル
【課題】アドレス電極で発生するマイグレーションおよびエッジカールの発生を防止して、製品の信頼度を向上できるように組成比を調整した電極形成用組成物、および調整された組成比を備える電極形成用組成物を適用して製造されたプラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】本発明の電極形成用組成物は、フリット、金属質パウダーおよびビヒクルを含み、金属質パウダーの含有量は、５２〜６２質量部であり、フリットの含有量は、５〜１５質量部である。
【解決手段】本発明の電極形成用組成物は、フリット、金属質パウダーおよびビヒクルを含み、金属質パウダーの含有量は、５２〜６２質量部であり、フリットの含有量は、５〜１５質量部である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電極形成用組成物および電極形成用組成物を用いるプラズマディスプレイパネルに関し、より詳しくは、電極のマイグレーション（ｍｉｇｒａｔｉｏｎ）現象およびエッジカールの発生を防止するために組成比を最適化した電極形成用組成物および電極形成用組成物を用いるプラズマディスプレイパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
公知のように、プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ、以下、ＰＤＰと略する）は、気体放電を通じて得られたプラズマから放射される真空紫外線（ＶＵＶ、Ｖａｃｕｕｍ Ｕｌｔｒａ−Ｖｉｏｌｅｔ）によって蛍光体を励起することにより発生する赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の可視光を利用して、映像を実現する。
【０００３】
このようなＰＤＰは、６０インチ以上の超大型画面を僅か１０ｃｍ以内の厚さで実現することができ、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）のような自発光ディスプレイ素子であるために、色再現力および視野角によって変化する歪曲現象を生じない特性を備える。また、ＰＤＰは、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）等に比べて、製造工法が単純で生産性および原価側面からも有力な利点を備える。これにより、ＰＤＰは、テレビおよび産業用平板ディスプレイに利用できるディスプレイ素子として注目されている。
【０００４】
ＰＤＰの構造は、１９７０年代から長期間にわたって発展しており、現在一般によく知られている構造は、交流型３電極面放電型構造である。
【０００５】
交流型３電極面放電構造のＰＤＰは、基本的に前面基板上に形成されて面対向を構成する一対の表示電極と、前面基板から離隔される背面基板上に形成されるアドレス電極とを含んで構成される。そして、前面基板と背面基板との間の空間は、隔壁によって複数の放電セルに区画される。複数の放電セルは、表示電極とアドレス電極との交差点に沿って形成される。そして、放電セルの内部には蛍光体層が形成され、放電ガスが注入される。注入された放電ガスは、電極を通じて電圧が印加されるパターンによって放電セル内で放電を起こし、放電によって発生した紫外線は、放電セル内の蛍光体層に衝突して可視光を発生させる。
【０００６】
このように構成される交流型３電極面放電構造のＰＤＰは、壁電荷の記憶特性を利用して点灯される放電セルと点灯されない放電セルとを選択し、点灯される放電セルを放電させることで画像を表示する。
【０００７】
最近、市販されているＰＤＰは、４２インチでＸＧＡ（１０２４×７６８）級の解像度を備える。しかし、現状では、Ｆｕｌｌ−ＨＤ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ）級の画像を表示できる究極的なディスプレイ素子が要求されているのが実情である。ＰＤＰでＦｕｌｌ−ＨＤ級（１９２０×１０８０の解像度）の画像を表示するためには、放電セルの大きさを小さくして高精細（ｈｉｇｈｅｒ ｄｅｎｓｉｔｙ）を実現することが必要であり、そのために電極の幅と間隔を減らして、さらに稠密に形成することも必要である。
【０００８】
一般に、ＰＤＰに適用されるアドレス電極の材質として、電気伝導性が高くて相対的に安価である銀（Ａｇ）が主に用いられている。しかし、銀（Ａｇ）で形成されるアドレス電極は、高精細のためにアドレス電極の幅と間隔を稠密に形成する場合、隣接するアドレス電極の周縁部分で発生するマイグレーション現象によって、アドレス電極の断線または短絡を発生する。マイグレーション現象には様々な原因があるが、外気／外湿による化学的／物理的弱点に起因する場合が多い。このような外気／外湿の浸透は、結果的にアドレス電極で主に使用される感光性銀電極形成用組成物の拡散を促進させてアドレス電極を断線させたり、隣接する２つのアドレス電極の間にブリッジ（ｂｒｉｄｇｅ）を形成して短絡させる。
【０００９】
したがって、マイグレーション現象に起因したアドレス電極の不良現象を防止するために、多様な試みが行われている。
【００１０】
一例として、マイグレーション現象が発生するアドレス電極の部分に多様な耐気／耐湿材料を適用し、洗浄などを利用してアドレス電極間の有機／無機性異物を最少化する方法が適用される。また、半導体をはじめとするその他の電極配線を備える電子製品の場合、高反応性物質である銀を使用せず、金、白金などの超高価の金属を使用したり、銀に対して全率固溶体であるパラジウム（Ｐｄ）等を投入したりもする。
【００１１】
アドレス電極は、背面基板上に感光性銀ペーストを塗布した後、感光性銀ペーストを乾燥して電極層を形成し、電極層を露光および現像して電極層をパターニングする過程を通じて形成される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかし、上記従来技術のマイグレーション現象を防止する方法では、アドレス電極形成工程数は多くなり、製造費も増大する。そこで、銀材質のアドレス電極を主に使用しているプラズマディスプレイパネルの場合、アドレス電極の製造工程を減らして製造単価を節減するためには、アドレス電極自体の特性を制御してマイグレーション現象を防止することがさらに必要である。また、アドレス電極を形成する過程で適切に制御されなかった露光および現像工程は、アドレス電極の両側におけるエッジ部分が巻き上がるエッジカール（ｅｄｇｅ−ｃｕｒｌ）を発生させる（図６（ａ）参照）。エッジカールは、アドレス電極に印加される放電電圧を集中させ、ガス放電時にエッジカール部分を覆っている誘電体層を破損させるなど、製品信頼度を低下させる。
【００１３】
そこで、本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、アドレス電極で発生するマイグレーションおよびエッジカールの発生を防止して製品の信頼度を向上できるように組成比を調整した電極形成用組成物、および調整された組成比を備える電極形成用組成物を適用して製造されるプラズマディスプレイパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するために、本発明の第１の観点によれば、フリット、金属質パウダーおよびビヒクルを含み、金属質パウダーの含有量は、５２〜６２質量部であり、フリットの含有量は、５〜１５質量部である電極形成用組成物が提供される。
【００１５】
本発明によれば、第１電極（アドレス電極）を形成するのに用いられる電極形成用組成物は、金属質パウダーおよびフリットを含んで構成される。本発明の電極形成用組成物では、上記のように金属質パウダーおよびフリットの組成比が最適化されている。よって、第１電極（アドレス電極）形成過程の焼成時において、液状焼結によって金属質パウダーがフリットによって形状化されて金属質層を形成し、フリットは、液状焼結によって金属質層の両側周縁に絶縁性ガラス層を形成する。結果、第１電極（アドレス電極）は、金属質層および絶縁性ガラス層によって構成される。これにより、金属質層の周縁部分で発生するマイグレーション現象を絶縁性ガラス層によって防止でき、金属質層のエッジ部分で発生するエッジカールを絶縁性ガラス層によって防止できる。また、本発明の電極形成用組成物では、組成比が最適化されているので、マイグレーション現象およびエッジカールを防止するとともに第１電極（アドレス電極）自体の性能を維持できる。従って、本発明の電極形成用組成物を第１電極（アドレス電極）の形成に用いると、第１電極（アドレス電極）を具備するプラズマディスプレイパネルの製品品質を向上できる。
【００１６】
フリットは、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含むことができる。ここで、Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比が１以上であってよく、好ましくは、１以上５以下の範囲であってよい。
【００１７】
金属質パウダーは、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、銀−パラジウム合金（Ａｇ−Ｐｄ）およびこれらの組み合わせから構成される群より選択されてよい。金属質パウダーは、銀（Ａｇ）パウダーであってよい。
【００１８】
ビヒクルは、有機溶媒およびバインダーを含むことができる。
【００１９】
有機溶媒は、ケトン類、アルコール類、エーテル系アルコール類、飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類、乳酸エステル類、エーテル系エステル類およびこれらの組み合わせから構成される群より選択されてよい。
【００２０】
バインダーは、アクリル系樹脂、スチレン樹脂、ノボラック樹脂、ポリエステル樹脂およびこれらの組み合わせから構成される群より選択されてよい。
【００２１】
上記課題を解決するために、本発明の第２の観点によれば、所定の間隔を置いて、対向配置される第１基板および第２基板と、第１基板上に配置され、第１方向に沿って形成される第１電極と、第１基板と第２基板との間で第１電極から離隔して配置され、第１方向と交差する第２方向に沿って形成される第２電極と、第１基板と第２基板との間の空間で複数の放電セルを区画する隔壁と、各放電セル内に形成される蛍光体層とを備え、第１電極は、５２〜６２質量部の金属質パウダーおよび５〜１５質量部のフリットから形成されるプラズマディスプレイパネルが提供される。
【００２２】
フリットは、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含むことができる。ここで、Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比が１以上、好ましくは、１以上５以下の範囲であってよい。金属質パウダーは、銀（Ａｇ）パウダーであってよい。
【００２３】
上記課題を解決するために、本発明の第３の観点によれば、所定の間隔を置いて、対向配置される第１基板および第２基板と、第１基板上に配置され、第１方向に沿って形成される第１電極と、第１基板と第２基板との間で第１電極から離隔して配置され、第１方向と交差する第２方向に沿って形成される第２電極と、第１基板と第２基板との間の空間で複数の放電セルを区画する隔壁と、各放電セル内に形成される蛍光体層とを備え、第１電極は、第１方向の周縁に絶縁性ガラス層を備えるプラズマディスプレイパネルが提供される。
【００２４】
絶縁性ガラス層は、第１電極の両側周縁に沿って帯状に形成されてよい。
【００２５】
第１電極は、金属質層を備えることができる。絶縁性ガラス層は、金属質層と同一平面上に形成されてよい。
【００２６】
絶縁性ガラス層は、金属質層に隣接して形成され、絶縁性ガラス層の表面は、金属質層の表面周縁から第１基板の表面まで傾斜するように形成されてよい。
【００２７】
金属質層は、銀（Ａｇ）パウダーを含むことができ、絶縁性ガラス層は、フリットで形成されてよい。
【００２８】
第１電極は、金属質パウダーおよびフリットから形成されてよい。ここで、金属質パウダーの含有量は、５２〜６２質量部であってよく、フリットの含有量は、５〜１５質量部であってよい。
【００２９】
フリットは、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含むことができる。ここで、Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比は、１以上であってよい。
【００３０】
第１電極は、駆動時にアドレス電圧を印加されるアドレス電極であってよい。
【発明の効果】
【００３１】
以上説明したように本発明によれば、電極形成用組成物は、金属質パウダーを５２〜６２質量部で、フリットを５〜１５質量部で含む。そして、フリットは、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含み、フリットに含まれるＢ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比は、１以上となる。よって、本発明の電極形成用組成物を用いてアドレス電極を形成する場合、アドレス電極形成過程の焼成時に、電極形成用組成物の金属質パウダーが粒子間液状焼結によって金属質層を構成し、フリットによって金属質層の外部に絶縁性ガラス層を形成することができる。これにより、銀などでアドレス電極を形成する際に、隣接するアドレス電極の間で発生するマイグレーション現象を絶縁性ガラス層によって防止できる。また、電気伝導性金属質層のエッジ部分に絶縁性ガラス層が形成されるので、アドレス電極の周縁部分で発生するエッジカールを防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００３３】
（プラズマディスプレイパネルの構造）
図１は、本発明の一実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの斜視図である。図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線に沿って切断した側断面図である。
【００３４】
図１を参照すると、本発明の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルは、第１基板１０、第２基板２０、隔壁１６、放電セル１８、第１電極１２、第２電極２７を含んで構成される。第１基板１０（以下、背面基板とする）および第２基板２０（以下、前面基板とする）は、既に設定された所定の間隔を間に置いて、互いに対向配置される。背面基板１０と前面基板２０が重なる周縁をフリット（図示せず）で封着し、背面基板１０と前面基板２０との間に密閉された放電空間を形成する。なお、背面基板１０と前面基板２０との間の間隔は、外気圧によって圧縮され、縮小することが多い。また、背面基板１０および前面基板２０によって形成される放電空間は、背面基板１０と前面基板２０との間に配置される隔壁１６によって、複数の放電セル１８に区画される。
【００３５】
本発明の実施形態における隔壁１６は、背面基板１０上に隔壁誘電体ペーストを塗布し、隔壁誘電体ペーストをパターニングした後に焼成することにより形成される。よって、図１で例示された隔壁１６は、背面基板１０とは別途に形成されたものである。
【００３６】
隔壁１６は、第１方向（図１のｙ軸方向）に沿って形成される縦隔壁部材１６ａと、縦隔壁部材１６ａと直交する第２方向（図１のｘ軸方向）に沿って形成される横隔壁部材１６ｂとを備える。したがって、放電セル１８は、縦隔壁部材１６ａおよび横隔壁部材１６ｂによって、略格子形状パターンに区画される。
【００３７】
しかし、本発明の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルは、上述の構成形状に必ず限定されるわけではない。放電セル１８は、上述した略格子形状パターンの他にも略帯形状パターンおよび略デルタ型形状パターンなど、多様な形状で構成される。
【００３８】
背面基板１０の面上には、各放電セル１８に全て対応し、第１方向に沿って互いに平行に延長して形成される第１電極（以下、アドレス電極とする）１２が形成される。つまり、複数のアドレス電極１２は、背面基板１０上で第１方向に沿って延長して形成され、第２方向に沿って互いに平行となるように並んで配置される。
【００３９】
アドレス電極１２は、金属質層１２ａと、金属質層１２ａの両側周縁に隣接して、同一平面上に形成される絶縁性ガラス層１２ｂとを備える。アドレス電極１２に対する説明は、以下の図３および図４を参照して、さらに詳しく説明する。
【００４０】
そして、背面基板１０上にはアドレス電極１２を覆うように誘電体層１４（以下、下部誘電体層とする）が形成される。下部誘電体層１４上には、上述のように背面基板１０と前面基板２０との間で放電セル１８を区画する隔壁１６が形成される。
【００４１】
そして、放電セル１８内部の隔壁１６の側面および下部誘電体層１４の上部に蛍光体層１９が形成される。蛍光体層１９は、第１方向に沿って区画される各放電セル１８内で同一色の蛍光体で形成され、第２方向に沿って形成される各放電セル１８内には赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）の蛍光体で繰り返して形成される。言い換えると、第１方向に沿って配置される放電セル１８には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）のうち一色の蛍光体層１９が配置される。第２方向に沿って配置される各放電セル１８には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）の蛍光体層１９が交互に配置される。
【００４２】
前面基板２０上には、放電セル１８に対応し、第１方向（図１のｙ軸方向）と交差する第２方向（図１のｘ軸方向）に沿って延長して形成される第２電極（以下、表示電極とする）２７が形成される。表示電極２７は、各放電セル１８に対応する走査電極２３および維持電極２６を対で含んで構成される。つまり、表示電極２７は、背面基板１０と前面基板２０との間で、アドレス電極１２に離隔して配置され、第２方向に沿って延長して形成される。複数の表示電極２７は、第１方向に沿って互いに平行となるように並んで配置される。よって、表示電極２７は、第２方向に沿って配置される放電セル１８に対応する。
【００４３】
走査電極２３は、バス電極２１および透明電極２２を備える。バス電極２１は、横隔壁部材１６ｂに沿って延長して形成される。透明電極２２は、バス電極２１の上面と接しながら放電セル１８の中央に向かって突出され、第２方向に沿って延長して形成される。維持電極２６は、バス電極２４および透明電極２５を備える。バス電極２４は、横隔壁部材１６ｂに沿って延長して形成される。透明電極２５は、バス電極２４の上面に接しながら放電セル１８の中央に向かって突出され、第２方向に沿って延長して形成される。図１では、透明電極２２は、前面基板２０上に配置され、バス電極２１は、透明電極２２の背面基板１０に対向する面上に配置される。バス電極２４、透明電極２５も同様の配置となる。
【００４４】
透明電極２２および透明電極２５は、前面基板２０上において、第２方向に沿って配置される赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）の放電セル１８に全て対応するように、略帯状形状で延長形成される。また、透明電極２２および透明電極２５は、可視光の透過率を高めるために透明ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ、インジウムスズ酸化物）などで形成される。
【００４５】
しかし、本発明の実施形態の表示電極２７は、必ずしも上述した構造に制限されるわけではない。つまり、透明電極２２および透明電極２５が、赤（Ｒ）の蛍光体層１９が形成される放電セル１８Ｒ、緑（Ｇ）の蛍光体層１９が形成される放電セル１８Ｇ、青（Ｂ）の蛍光体層１９が形成される放電セル１８Ｂの各々に対応し、バス電極２１およびバス電極２４から個別的に突出形成されてもよい。言い換えると、透明電極２２および透明電極２５は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）の放電セル１８のうち１つの放電セル１８に対応するように、例えば放電セル１８の第２方向の長さと同じ長さで形成されてよい。
【００４６】
バス電極２１およびバス電極２４は、透明電極２２および透明電極２５による電圧降下を補充するために電気伝導性に優れた金属材質で形成される。バス電極２１およびバス電極２４は、プラズマ放電によって放電セル１８内で発生する可視光の透過率を高めるために、放電セル１８を間において配置される両側の横隔壁部材１６ｂに隣接して設置されるのが好ましい。さらに、バス電極２１およびバス電極２４は、横隔壁部材１６ｂ上に沿って設置されてもよい。
【００４７】
一方、走査電極２３および維持電極２６を覆うために誘電体層２８（以下、上部誘電体層とする）が形成される。
【００４８】
上部誘電体層２８上には、保護膜２９が形成される。保護膜２９は、表示電極２７および上部誘電体層２８が放電セル１８内で発生するプラズマ放電によって破損されることを防止する。保護膜２９は、可視光透過性材質のＭｇＯ膜などで製作できる。ＭｇＯ膜は、上部誘電体層２８を保護し、高い二次電子放出係数（ｓｅｃｏｎｄａｒｙ ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｅｍｉｓｓｉｏｎ ｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔ）を備えるために、放電開始電圧をさらに下げることができる。
【００４９】
そして、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）の蛍光体層１９が形成される各放電セル１８の内部には、プラズマ放電を発生するための放電ガス（例えば、キセノン（Ｘｅ）、ネオン（Ｎｅ）などを含む混合ガス）が充填される。
【００５０】
したがって、本発明の実施形態のプラズマディスプレイパネルは、駆動時のリセット期間では、走査電極２３に印加されるリセットパルスによってリセット放電を発生する。このリセット期間に続くスキャン期間では、走査電極２３に印加されるスキャンパルスとアドレス電極１２に印加されるアドレスパルス（アドレス電圧）によって、アドレス放電を起こす。その後、維持期間では、維持電極２６および走査電極２３に印加される維持パルスによって維持放電を起こす。
【００５１】
このように、プラズマディスプレイパネルの駆動時では、維持電極２６および走査電極２３は、維持放電に必要な維持パルスを印加される電極の役割を果す。プラズマディスプレイパネルの駆動時では、走査電極２３は、リセットパルスおよびスキャンパルスを印加される電極の役割を果す。プラズマディスプレイパネルの駆動時では、アドレス電極１２は、アドレスパルス（アドレス電圧）を印加される電極の役割を果たす。しかし、本発明の実施形態の維持電極２６、走査電極２３およびアドレス電極１２は、それぞれに印加される電圧波形によってその役割を違えることができるので、必ずしも上述の役割に限定されるわけではない。
【００５２】
したがって、本発明の実施形態のプラズマディスプレイパネルは、アドレス電極１２と走査電極２３との相互作用によるアドレス放電によって、点灯される放電セル１８を選択し、維持電極２６と走査電極２３との相互作用による維持放電によって、選択された放電セル１８を駆動させて画像を表示する。
【００５３】
（アドレス電極の構造）
以下、本発明の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのアドレス電極構造について図３および図４を参照して、より詳しく説明する。
【００５４】
図３は、図２のＩＩＩ部分を拡大して示す写真である。図４は、図３のアドレス電極の平面形状を示す拡大写真である。
【００５５】
図３および図４を参照して説明すると、アドレス電極１２は、金属質層１２ａと、金属質層１２ａの両側周縁に隣接して、同一平面上に形成される絶縁性ガラス層１２ｂとを備える。金属質層１２ａは、背面基板１０上で第１方向に沿って延長して形成され、対応する第１方向の各放電セル１８にアドレス電圧を印加するための導電層を構成する。
【００５６】
金属質層１２ａは、例えば導電性が高く、相対的に安価な銀（Ａｇ）材質などで形成されてよい。金属質層１２ａは、大部分パウダー形状の銀から形成される。これら銀パウダー（金属質パウダー）は、ペースト状態から焼成過程を経て、フリットによって形状化されることにより、アドレス電極１２の形状を構成することができる。
【００５７】
一方、絶縁性ガラス層１２ｂは、金属質層１２ａと同一平面上で金属質層１２ａの両側周縁に配置され、第１方向に沿って略帯状（ｂａｎｄ ｓｈａｐｅｄ）で形成される。絶縁性ガラス層１２ｂの表面（上面）は、金属質層１２ａの表面周縁から背面基板１０の表面まで傾斜するように形成される。したがって、絶縁性ガラス層１２ｂは、金属質層１２ａの両側周縁を絶縁する絶縁層を構成することができる。
【００５８】
このような絶縁性ガラス層１２ｂは、フリットなどから形成される。つまり、金属質層１２ａは、主成分の金属質パウダーがフリットによって形状化されたものである。一方、絶縁性ガラス層１２ｂは、フリット（主成分）から構成され、金属質層１２ａと一体に形成されるが、金属質層１２ａとは、互いに区分して形成される。この部分は、以下で詳細に説明するが、アドレス電極１２の形成過程で金属質パウダーがフリットによって形状化されることにより、金属質層１２ａが形成される。一方、フリットが金属質層１２ａの両側周縁に形成されることにより、絶縁性ガラス層１２ｂが形成される。
【００５９】
この時、アドレス電極１２は、金属質層１２ａの金属質パウダー約５２〜６２質量部、約５〜１５質量部の範囲に属する含量のフリットを含む。つまり、アドレス電極１２は、金属質パウダーおよびフリットから形成される。金属質パウダーの含有量は、約５２〜６２質量部であり、フリットの含有量は、約５〜１５質量部となる。フリットが１５質量部以上（金属質パウダーが５２質量部未満）であると、導電性が不足してアドレス電極１２の電気伝導度が低下する問題が発生する。また、フリットが５質量部未満（金属質パウダーが６２質量部以上）であると、アドレス電極１２の周縁に沿って絶縁性ガラス層１２ｂを形成し難いため、エッジカール、マイグレーションなどの問題が発生する。
【００６０】
そして、フリットは、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを成分として含む。Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比は、約１以上５以下の範囲となる。フリットは、金属質パウダーと混合されて金属粒子間の結合を補助する役割を果たす。Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比が１未満であると、ガラス転移温度が高くなって液状焼結が難しくなり、質量比が５以上であると、電気伝導性が低下する。フリットは、他の成分としてＳｉＯ２、ＰｂＯ、Ｂｉ２Ｏ３およびＺｎＯを含むことができる。
【００６１】
このように、本発明の実施形態のアドレス電極１２は、アドレス電極１２の第１方向（図１のｙ軸方向）の両側周縁に形成される略帯状の絶縁性ガラス層１２ｂによって、金属質層１２ａの両側周縁を絶縁することができる。これにより、隣接するアドレス電極１２の間で発生するマイグレーション現象によるアドレス電極１２の断線および短絡を防止することができる。
【００６２】
したがって、銀材質などを主に使用するアドレス電極１２の幅とピッチを減らすことができる。よって、ピッチの小さい放電セル１８に全て対応するように、アドレス電極１２自体を稠密に配置できるので、プラズマディスプレイパネルの高精細を実現できる。上記ではアドレス電極１２の構成および形状について説明したが、本発明の実施形態におけるアドレス電極１２の構成および形状は、プラズマディスプレイパネルに用いられる他の電極（例えば、走査電極２３および維持電極２６、中でもこれらのバス電極）にも適用できる。
【００６３】
上述のアドレス電極１２の構造は、後述する電極形成用組成物の組成比および製造工程を通じて得られる。
【００６４】
（アドレス電極の形成工程）
以下、図５を参照して、本発明の実施形態に係るアドレス電極の形成過程を説明する。図５は、本発明の実施形態に係るアドレス電極の形成過程を概略的に示す図面である。
【００６５】
図５を参照すると、本発明の実施形態に係るアドレス電極の形成過程は、電極層を形成する段階（ＳＴ１）、電極層を露光／現像する段階（ＳＴ２、ＳＴ３）および焼成する段階（ＳＴ４）を備える。
【００６６】
図５（ａ）に示すように、電極層を形成する段階（ＳＴ１）は、背面基板１０上にスクイーザー５４（ドクターブレードに似た平坦化器具）を利用してペースト状態の電極形成用組成物を塗布した後、電極形成用組成物を乾燥して電極層５２を形成する。
【００６７】
本発明の実施形態の電極形成用組成物は、金属質パウダー、フリットおよびビヒクルを含む。このうち、金属質パウダーの含有量は、約５２〜６２質量部であり、フリットの含有量は、約５〜１５質量部であることが好ましい。
【００６８】
金属質パウダーは、大部分の金属質層１２ａを構成する電気伝導性金属質で、アドレス電極およびバス電極に通常に使用される金属質であれば、特に限定せずに使用できる。具体的には、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、銀−パラジウム合金（Ａｇ−Ｐｄ）およびこれらの組み合わせなどから構成される群より選択される金属粉末を金属質パウダーとしてアドレス電極１２の形成に使用することができる。言い換えると、金属質パウダーは、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、銀−パラジウム合金（Ａｇ−Ｐｄ）などから構成される群より選択される少なくとも一つ以上の金属粉末によって構成される。その中でも大気中で焼成する場合、酸化によって導電性が低下せず、比較的安価である銀（Ａｇ）パウダーを金属質パウダーとして用いるのがより好ましい。
【００６９】
金属質パウダーは、略粒状型、略球形または略フレーク型など、その形状において特に限定されないが、光特性および分散性を考慮する時、略球形が好ましい。また金属質パウダーとして、単独で金属粉末を使用してもよいし、２種以上の互いに異なる形状の金属粉末を混合して使用することもできる。
【００７０】
金属質パウダーおよびフリットを含む構成が一定であるとする時、金属質パウダーの含量が５２質量部未満（フリットが１５質量部以上）であると、導電性物質が不足してアドレス電極１２の電気伝導度が低下する問題が発生する。また、金属質パウダーが６２質量部以上（フリットが５質量部未満）であると、アドレス電極１２の周縁に沿って絶縁性ガラス層１２ｂを形成することが難しいため、エッジカール、マイグレーションなどの問題が発生する。
【００７１】
フリットは、焼成を経て金属質パウダーを固形化することでアドレス電極１２形状を構成することができ、アドレス電極１２の周縁に絶縁性ガラス層１２ｂを形成する。
【００７２】
フリットは、焼成工程において金属質パウダーと背面基板（第１基板）１０との間に接着力を供給できる物質で構成され、例えばＳｉＯ２、ＰｂＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯなどを含むのが好ましい。
【００７３】
フリット自体のガラス転移温度を低下するために、Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比は、約１以上、好ましくは約１以上５以下の範囲となる。Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比が１未満であれば、ガラス転移温度が増大して液状焼結が難しくなり、質量比が５以上であれば、電気伝導性が低下する。従って、本発明の実施形態では、電極形成用組成物の組成比を上記の通り、最適化できるので、以下で説明するエッジカールおよびマイグレーション現象を防止するとともに、アドレス電極１２自体の性能を維持できる。
【００７４】
ビヒクルは、有機溶媒およびバインダーを含む。
【００７５】
有機溶媒としては、この分野で通常使用される有機溶媒が好ましい。具体的には、有機溶媒は、ケトン類、アルコール類、エーテル系アルコール類、飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類、乳酸エステル類、エーテル系エステル類およびこれらの組み合わせなどから構成される群より選択される化合物を含む。言い換えると、有機溶媒は、ケトン類、アルコール類、エーテル系アルコール類、飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類、乳酸エステル類、エーテル系エステル類などから構成される群より選択される少なくとも一つ以上の化合物を含む。ここで、ケトン類は、ジエチルケトン、メチルブチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノンなどを含む。アルコール類は、ｎ−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコール、テキサノールなどを含む。エーテル系アルコール類は、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどを含む。飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類は、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸アミルなどを含む。乳酸エステル類は、ラクト酸エチル、乳酸−ｎ−ブチルなどを含む。エーテル系エステル類は、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオン酸塩、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールモノ（２−メチルプロパノエイト）（２，２，４−ｔｒｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｐｅｎｔａｎｅｄｉｏｌ ｍｏｎｏ（２−ｍｅｔｈｙｌｐｒｏｐａｎｏａｔｅ））などを含む。
【００７６】
バインダーとしては、光開始剤によって架橋が可能で、アドレス電極形成時に現像工程によって簡単に除去できる高分子などを用いることができる。具体的には、バインダーとして、フォトレジスト組成分野で通常使用されるアクリル系樹脂、スチレン樹脂、ノボラック樹脂またはポリエステル樹脂およびこれら組み合わせなどから構成される群より選択される化合物が使用される。言い換えると、バインダーは、アクリル系樹脂、スチレン樹脂、ノボラック樹脂またはポリエステル樹脂などから構成される群より選択される少なくとも一つ以上の化合物を含む。好ましくは、下記のカルボキシル基含有モノマー類（ｉ）、ＯＨ基含有モノマー（ｉｉ）およびその他の共重合可能なモノマー類（ｉｉｉ）などから構成される群より選択される１種以上の共重合体をバインダーとして使用することができる。また、バインダーとして、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ、Ｈｙｄｒｏｘｙｐｒｏｐｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）、エチルセルロース（ＥＣ、Ｅｔｈｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）などの化合物も追加的に用いられてもよい。
【００７７】
（カルボキシル基含有モノマー類（ｉ））
カルボキシル基含有モノマー類としては、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、桂皮酸、琥珀酸モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）またはω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなどがある。
【００７８】
（ＯＨ基含有モノマー類（ｉｉ））
ＯＨ基含有モノマー類としては、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピルなどのＯＨ基含有単量体類およびｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性ＯＨ基含有モノマー類などがある。
【００７９】
（その他の共重合可能なモノマー類（ｉｉｉ））
その他の共重合可能なモノマー類としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ラウリル、（メタ）アクリル酸ベンジル、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートなど、モノマー（ｉ）以外の（メタ）アクリル酸エステル類、スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル系モノマー類、ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン類、ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ベンジル、ポリ（イソブチルメタクリレート）（ＰＩＢＭＡ、Ｐｏｌｙｉｓｏｂｕｔｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）などの重合体鎖の一側の末端に（メタ）アクリロイル基などの重合性不飽和基を備えるマクロモノマー類がある。
【００８０】
また、背面基板（第１基板）１０上に電極形成用組成物を塗布して金属質層１２ａを形成するために、バインダーは、適切な粘度を備える。そして、下記の現像工程における分解（溶解）を考慮して、重量平均分子量が約５，０００〜５０，０００、酸価が約２０〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダーを用いるのが好ましい。バインダーの重量平均分子量が５，０００未満である場合には、現像時に金属質層１２ａの密着性に悪影響を与えることがあり、５０，０００を以上である場合には、現像不良が生じやすい。酸価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満である場合には、アルカリ水溶液に対する溶解性が不十分であるため現像不良が発生しやすく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である場合には、現像時に金属質層１２ａの密着性低下や露光部の溶解が発生するため好ましくない。
【００８１】
塗布工程に適した電極形成用組成物の粘度を得るために、有機溶媒およびバインダーの各々含有量は適切に調節される。
【００８２】
本発明の実施形態に係る電極形成用組成物は、架橋剤および光開始剤をさらに含むことができる。
【００８３】
架橋剤は、光開始剤によってラジカル重合反応できる化合物であれば、特に限定されない。具体的には、架橋剤として、多官能モノマー、さらに好ましくはエチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、テトラメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートおよびテトラメチロールプロパンテトラメタクリレートなどから構成される群より選択される１種以上の化合物を使用することができる。
【００８４】
架橋剤は、バインダーの含有量に対して所定の比で添加されるのが好ましい。より好ましくは、バインダー１００質量部に対して約２０〜１５０質量部の量で架橋剤が含まれる。この時、架橋剤の含有量が２０質量部未満であれば、アドレス電極形成時の露光工程で露光感度が低下し、現像工程時にアドレス電極パターンに欠陥が生じる場合がある。これとは反対に、１５０質量部以上であれば、現像後に線幅が大きくなって、アドレス電極パターン形成時のパターン形状が不鮮明となり、焼成後、アドレス電極周囲に残留物を発生させるため、上記含有量範囲内の架橋剤を使用するのが好ましい。
【００８５】
光開始剤は、露光工程中にラジカルを発生させ、架橋剤の架橋反応を開始することができる化合物であれば、特に限定されない。具体的には、光開始剤として、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパノン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノン、２，４−ジエチルチオキサントン（２，４−Ｄｉｅｔｈｙｌｔｈｉｏｘａｎｔｈｏｎｅ）およびビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイドなどから構成される群より選択される１種以上の化合物を使用することができる。
【００８６】
光開始剤は、架橋剤の含有量に対して所定の比で含まれるのが好ましい。より好ましくは、架橋剤１００質量部に対して約１０〜５０質量部の量で光開始剤が含まれる。この時、光開始剤の含有量が１０質量部未満であれば、電極形成用組成物の露光感度が低下し、５０質量部以上であれば、露光部の線幅が小さくなったり、非露光部が現像（溶解）されない問題が発生するため、鮮明なアドレス電極パターンが得られない。
【００８７】
本発明の実施形態に係る電極形成用組成物は、上記成分の他にそれぞれの目的に応じて添加剤をさらに含むことができる。
【００８８】
このような添加剤としては、感度を向上させる増減剤、電極形成用組成物の保存性を向上させる重合禁止剤および酸化防止剤、解像度を向上させる紫外線吸光剤、電極形成用組成物内の気泡を減らす消泡剤、分散性を向上させる分散剤、印刷時に膜の平坦性を向上させるレベリング剤、または窯変特性を付与する可塑剤などが挙げられる。
【００８９】
これら添加剤は、必ず使用されるものではなく、必要に応じて使用され、添加の時には量を適切に調節して使用する。添加剤の量は、当業者に公知の範囲内となる。
【００９０】
図５（ｂ）に示すように、露光段階（ＳＴ２）では、電極層５２上にアドレス電極パターンを備えるマスク５６を置いて、その上に紫外線光（ＵＶ）を照射する。
【００９１】
図５（ｃ）に示すように、現像段階（ＳＴ３）では、ノズル５８を介して現像液を噴射して、露光段階（ＳＴ２）で紫外線光照射による感光部分５２ａを除いた非感光部分５２ｂをエッチングした後、残った感光部分５２ａを乾燥する。
【００９２】
そして、図５（ｄ）に示すように、焼成段階（ＳＴ４）では、電極層５２の中で露光段階（ＳＴ２）および現像段階（ＳＴ３）によって残存した電極層５２の部分（感光部分５２ａ）を焼成してアドレス電極１２を形成する。
【００９３】
焼成段階を経て、電極形成用組成物のうち、有機溶媒およびバインダーなどから構成されるビヒクルが除去され、金属質パウダーおよびフリットが残る。
【００９４】
したがって、アドレス電極１２は、残存する金属質パウダーおよびフリットから構成される。金属質パウダーは、フリットによって固形化されてアドレス電極１２の中心部で金属質層１２ａを形成する。フリットは、金属質層１２ａの両側エッジ部分で絶縁性ガラス層１２ｂを形成する（図３および図４参照）。
【００９５】
このように、焼成段階でフリットが絶縁性ガラス層１２ｂを構成して金属質層１２ａのエッジ部分に形成されるメカニズムは、典型的なセラミックスの液状焼結（ｌｉｑｕｉｄ−ｓｔａｔｅ ｓｉｎｔｅｒｉｎｇ）として解釈できる。
【００９６】
液状焼結の一段階である粒子再配列時において、金属質層１２ａを構成する銀パウダー粒子と銀パウダー粒子との間の移動を円滑にするのに、絶縁性ガラス層１２ｂを構成するガラス成分のフリットが主な駆動力となる。そして、フリットは、銀パウダー粒子の間にネック（ｎｅｃｋ）を形成した後、金属質層１２ａの外側に排出される。
【００９７】
したがって、ガラス成分のフリットが金属質層１２ａの表面に排出される場合には、銀パウダー粒子のみ存在する開気孔（ｏｐｅｎ ｐｏｒｅ）の量を顕著に減少させる。
【００９８】
そして、ガラス成分のフリットが金属質層１２ａの両側周縁に排出される場合、絶縁性ガラス層１２ｂを形成することができる。
【００９９】
絶縁性ガラス層１２ｂは、金属質層１２ａの両側エッジ部分を絶縁させることによって、隣接するアドレス電極１２の間で発生するマイグレーション現象を防止することができる。
【０１００】
また、絶縁性ガラス層１２ｂは、焼成段階（ＳＴ４）で金属質層１２ａのエッジ部分で発生する中心部との収縮荷重の差を緩和することによって、金属質層１２ａの周縁が浮き上がるエッジカール（ｅｄｇｅ−ｃｕｒｌ）の発生を防止することができる。以上上記では、アドレス電極１２形成に用いられる電極形成用組成物およびアドレス電極１２の形成方法について説明した。本発明の実施形態におけるアドレス電極１２形成に用いられる電極形成用組成物およびアドレス電極１２の形成方法は、プラズマディスプレイパネルに用いられる他の電極（例えば、走査電極２３および維持電極２６、中でもこれらのバス電極）にも適用できる。
【０１０１】
以下、本発明の実施形態に係る電極形成用組成物に対する好ましい実施例および比較例を記載する。しかし、下記の実施例は、本発明の実施形態において好ましい実施例に過ぎず、本発明の実施形態が下記の実施例に限定されるわけではない。
【０１０２】
（実施例１）
ＳｉＯ２、ＰｂＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含み、Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比が１であるフリット１５０ｇ、Ａｇである金属質パウダー５２０ｇ、メチルメタクリレート／メタクリレート共重合体（（ＭＭＡ／ＭＡＡ）ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、エチルセルロース（ＥＣ）およびポリ（イソブチルメタクリレート）（ＰＩＢＭＡ）を混合したバインダー５０ｇ、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンである光開始剤１５ｇおよびテトラメチロールプロパンテトラアクリレートである架橋剤１０ｇを２５５ｍｌのテキサノールに添加して撹拌機で混合した。次いで、３−ロールミルを使用して攪拌および分散をさらに行った後、ろ過工程および脱泡工程を経て電極形成用組成物を製造した。
【０１０３】
上述のように製造された電極形成用組成物は、金属質パウダーを５２質量部、およびフリットを１５質量部で含む。
【０１０４】
まず、ガラス基板（１０ｃｍ×１０ｃｍ）を洗浄および乾燥した後、上述で得た電極形成用組成物をガラス基板上にスクリーン印刷法で印刷した。そして、電極形成用組成物をガラス基板にスクリーン印刷法によって塗布した後、ドライオーブンで１００℃、１５分間乾燥して感光性導電膜を形成した。感光性導電膜上に帯状パターンを備えるフォトマスクを、所定の間隔をおいて配置した後、高圧水銀ランプを利用して４５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して露光した。露光後、感光性導電膜（電極形成用組成物）に３５℃の０．４質量％炭酸ナトリウム水溶液をノズルを介して１．５ｋｇｆ／ｃｍ２の噴射圧力で２５秒間噴射して現像することにより、未露光部位を除去してアドレス電極パターンを形成した。
【０１０５】
次に、電気焼成炉を利用して５８０℃で１５分間焼成して、膜の厚さが約４μｍであるパターン化されたアドレス電極を得た。
【０１０６】
パターン化されたアドレス電極上に異方性導電フィルム（ＡＣＦ、Ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ Ｆｉｌｍ）およびＴＣＰ（Ｔａｐｅ Ｃａｒｒｉｅｒ Ｐａｃｋａｇｅ）を乗せて仮圧着および本圧着してボンディングすることで、プラズマディスプレイパネルを製造した。
【０１０７】
（実施例２）
ＳｉＯ２、ＰｂＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含み、Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比が１であるフリット５０ｇ、Ａｇである金属質パウダー６２０ｇ、メチルメタクリレート／メタクリレート共重合体（（ＭＭＡ／ＭＡＡ）ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、エチルセルロース（ＥＣ）およびポリ（イソブチルメタクリレート）（ＰＩＢＭＡ）を混合したバインダー５５ｇ、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンである光開始剤１５ｇおよびテトラメチロールプロパンテトラアクリレートである架橋剤１０ｇを２４０ｍｌのテキサノールに添加したことを除いては、実施例１と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【０１０８】
実施例２で製造された電極形成用組成物は、金属質パウダーを６２質量部、フリットを５質量部で含む。
【０１０９】
（実施例３）
ＳｉＯ２、ＰｂＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含み、Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比が１であるフリット１００ｇ、Ａｇである金属質パウダー５８０ｇ、メチルメタクリレート／メタクリレート共重合体（（ＭＭＡ／ＭＡＡ）ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、エチルセルロース（ＥＣ）およびポリ（イソブチルメタクリレート）（ＰＩＢＭＡ）を混合したバインダー５６ｇ、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンである光開始剤１４ｇおよびテトラメチロールプロパンテトラアクリレートである架橋剤１０ｇを２４０ｍｌのテキサノールに添加したことを除いては、実施例１と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【０１１０】
実施例３で製造された電極形成用組成物は、金属質パウダーを５８質量部、フリットを１０質量部で含む。上記実施例１〜実施例３では、１０ｇの架橋剤を用いたが、５０ｇの架橋剤を用いることもできる。
【０１１１】
（比較例１）
ＳｉＯ２、ＰｂＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含み、Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比が１であるフリット３０ｇ、Ａｇである金属質パウダー６５０ｇ、メチルメタクリレート／メタクリレート共重合体（（ＭＭＡ／ＭＡＡ）ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、エチルセルロース（ＥＣ）およびポリ（イソブチルメタクリレート）（ＰＩＢＭＡ）を混合したバインダー５７ｇ、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンである光開始剤１３ｇおよびテトラメチロールプロパンテトラアクリレートである架橋剤１０ｇを２４０ｍｌのテキサノールに添加したことを除いては、実施例１と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【０１１２】
比較例１で製造された電極形成用組成物は、金属質パウダーを６５質量部、フリットを３質量部で含む。
【０１１３】
図６は、本発明の実施例１および比較例１に係るアドレス電極の形状を比較して示す側断面拡大写真である。
【０１１４】
図６を参照して説明すると、実施例１および比較例１で製造されたプラズマディスプレイパネルのアドレス電極を走査顕微鏡写真で観察し、その結果を図６（ｂ）および図６（ａ）に示した。
【０１１５】
図６（ｂ）は、実施例１のアドレス電極１２に対する走査顕微鏡写真である。図６（ａ）は、比較例１のアドレス電極１１２に対する走査顕微鏡写真である。図６（ｂ）を参照すると、実施例１のアドレス電極１２には、金属質層１２ａの両側周縁に隣接し、同一平面上に形成される絶縁性ガラス層１２ｂが形成されたことが確認できる。反面、図６（ａ）を参照すると、比較例１のアドレス電極１１２は、エッジカール１１２ａが形成されたことが確認できる。図６では、図示していないが、実施例２、実施例３で形成されたアドレス電極も実施例１と同様の形状を示す。
【０１１６】
以上より、本発明の実施形態では、アドレス電極１２を形成するのに用いられる電極形成用組成物は、金属質パウダーおよびフリットを含んで構成される。当該電極形成用組成物では、金属質パウダーおよびフリットの組成比を最適化している。よって、アドレス電極１２形成過程の焼成時において、液状焼結によって金属質パウダーがフリットによって形状化されて金属質層１２ａを形成し、フリットは、液状焼結によって金属質層１２ａの両側周縁に絶縁性ガラス層１２ｂを形成する。結果、アドレス電極１２は、金属質層１２ａおよび絶縁性ガラス層１２ｂによって構成される。これにより、金属質層１２ａの周縁部分において、電極形成用組成物が隣接する他のアドレス電極１２へ拡散してアドレス電極１２間の断線および短絡を発生させるマイグレーション現象を、絶縁性ガラス層１２ｂによって防止できる。また、アドレス電極１２形成過程の焼成時において、金属質層１２ａの中心部と金属質層１２ａのエッジ部分との収縮荷重の差を、絶縁性ガラス層１２ｂによって緩和することにより、金属質層１２ａの周縁が浮き上がるエッジカールを防止できる。
【０１１７】
従って、本発明の実施形態に係る電極形成用組成物をアドレス電極１２の形成に用いると、アドレス電極１２を具備するプラズマディスプレイパネルの製品品質を向上できる。また、本発明の実施形態に係る電極形成用組成物では、組成比が最適化されているので、マイグレーション現象およびエッジカールを防止するとともにアドレス電極１２自体の性能を維持できる。本発明の実施形態に係る電極形成用組成物をプラズマディスプレイパネルに具備される他の電極に用いることもできる。これにより、プラズマディスプレイパネル自体の製品品質をさらに向上できる。
【０１１８】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【図面の簡単な説明】
【０１１９】
【図１】本発明の一実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの斜視図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線に沿って切断した側断面図である。
【図３】図２のＩＩＩ部分を拡大した写真である。
【図４】図３に示すアドレス電極の平面形状を拡大した写真である。
【図５】本発明の実施形態に係るアドレス電極の形成過程を概略的に示す図面である。
【図６】本発明の実施例１および比較例１に係るアドレス電極の形状を比較して示す側断面拡大写真である。
【符号の説明】
【０１２０】
１０ 第１基板（背面基板）
１２ 第１電極（アドレス電極）
１２ａ 金属質層
１２ｂ 絶縁性ガラス層
１４ 誘電体層（下部誘電体層）
１６ 隔壁
１６ａ 縦隔壁部材
１６ｂ 横隔壁部材
１８ 放電セル
１９ 蛍光体層
２０ 第２基板（前面基板）
２１、２４ バス電極
２２、２５ 透明電極
２３ 走査電極
２６ 維持電極
２７ 表示電極
２８ 誘電体層（上部誘電体層）
２９ 保護膜
５２ 電極層
５２ａ 感光部分
５２ｂ 非感光部分
５４ スクイーザー
５８ ノズル
１１２ アドレス電極
１１２ａ エッジカール
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電極形成用組成物および電極形成用組成物を用いるプラズマディスプレイパネルに関し、より詳しくは、電極のマイグレーション（ｍｉｇｒａｔｉｏｎ）現象およびエッジカールの発生を防止するために組成比を最適化した電極形成用組成物および電極形成用組成物を用いるプラズマディスプレイパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
公知のように、プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ、以下、ＰＤＰと略する）は、気体放電を通じて得られたプラズマから放射される真空紫外線（ＶＵＶ、Ｖａｃｕｕｍ Ｕｌｔｒａ−Ｖｉｏｌｅｔ）によって蛍光体を励起することにより発生する赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の可視光を利用して、映像を実現する。
【０００３】
このようなＰＤＰは、６０インチ以上の超大型画面を僅か１０ｃｍ以内の厚さで実現することができ、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）のような自発光ディスプレイ素子であるために、色再現力および視野角によって変化する歪曲現象を生じない特性を備える。また、ＰＤＰは、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）等に比べて、製造工法が単純で生産性および原価側面からも有力な利点を備える。これにより、ＰＤＰは、テレビおよび産業用平板ディスプレイに利用できるディスプレイ素子として注目されている。
【０００４】
ＰＤＰの構造は、１９７０年代から長期間にわたって発展しており、現在一般によく知られている構造は、交流型３電極面放電型構造である。
【０００５】
交流型３電極面放電構造のＰＤＰは、基本的に前面基板上に形成されて面対向を構成する一対の表示電極と、前面基板から離隔される背面基板上に形成されるアドレス電極とを含んで構成される。そして、前面基板と背面基板との間の空間は、隔壁によって複数の放電セルに区画される。複数の放電セルは、表示電極とアドレス電極との交差点に沿って形成される。そして、放電セルの内部には蛍光体層が形成され、放電ガスが注入される。注入された放電ガスは、電極を通じて電圧が印加されるパターンによって放電セル内で放電を起こし、放電によって発生した紫外線は、放電セル内の蛍光体層に衝突して可視光を発生させる。
【０００６】
このように構成される交流型３電極面放電構造のＰＤＰは、壁電荷の記憶特性を利用して点灯される放電セルと点灯されない放電セルとを選択し、点灯される放電セルを放電させることで画像を表示する。
【０００７】
最近、市販されているＰＤＰは、４２インチでＸＧＡ（１０２４×７６８）級の解像度を備える。しかし、現状では、Ｆｕｌｌ−ＨＤ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ）級の画像を表示できる究極的なディスプレイ素子が要求されているのが実情である。ＰＤＰでＦｕｌｌ−ＨＤ級（１９２０×１０８０の解像度）の画像を表示するためには、放電セルの大きさを小さくして高精細（ｈｉｇｈｅｒ ｄｅｎｓｉｔｙ）を実現することが必要であり、そのために電極の幅と間隔を減らして、さらに稠密に形成することも必要である。
【０００８】
一般に、ＰＤＰに適用されるアドレス電極の材質として、電気伝導性が高くて相対的に安価である銀（Ａｇ）が主に用いられている。しかし、銀（Ａｇ）で形成されるアドレス電極は、高精細のためにアドレス電極の幅と間隔を稠密に形成する場合、隣接するアドレス電極の周縁部分で発生するマイグレーション現象によって、アドレス電極の断線または短絡を発生する。マイグレーション現象には様々な原因があるが、外気／外湿による化学的／物理的弱点に起因する場合が多い。このような外気／外湿の浸透は、結果的にアドレス電極で主に使用される感光性銀電極形成用組成物の拡散を促進させてアドレス電極を断線させたり、隣接する２つのアドレス電極の間にブリッジ（ｂｒｉｄｇｅ）を形成して短絡させる。
【０００９】
したがって、マイグレーション現象に起因したアドレス電極の不良現象を防止するために、多様な試みが行われている。
【００１０】
一例として、マイグレーション現象が発生するアドレス電極の部分に多様な耐気／耐湿材料を適用し、洗浄などを利用してアドレス電極間の有機／無機性異物を最少化する方法が適用される。また、半導体をはじめとするその他の電極配線を備える電子製品の場合、高反応性物質である銀を使用せず、金、白金などの超高価の金属を使用したり、銀に対して全率固溶体であるパラジウム（Ｐｄ）等を投入したりもする。
【００１１】
アドレス電極は、背面基板上に感光性銀ペーストを塗布した後、感光性銀ペーストを乾燥して電極層を形成し、電極層を露光および現像して電極層をパターニングする過程を通じて形成される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかし、上記従来技術のマイグレーション現象を防止する方法では、アドレス電極形成工程数は多くなり、製造費も増大する。そこで、銀材質のアドレス電極を主に使用しているプラズマディスプレイパネルの場合、アドレス電極の製造工程を減らして製造単価を節減するためには、アドレス電極自体の特性を制御してマイグレーション現象を防止することがさらに必要である。また、アドレス電極を形成する過程で適切に制御されなかった露光および現像工程は、アドレス電極の両側におけるエッジ部分が巻き上がるエッジカール（ｅｄｇｅ−ｃｕｒｌ）を発生させる（図６（ａ）参照）。エッジカールは、アドレス電極に印加される放電電圧を集中させ、ガス放電時にエッジカール部分を覆っている誘電体層を破損させるなど、製品信頼度を低下させる。
【００１３】
そこで、本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、アドレス電極で発生するマイグレーションおよびエッジカールの発生を防止して製品の信頼度を向上できるように組成比を調整した電極形成用組成物、および調整された組成比を備える電極形成用組成物を適用して製造されるプラズマディスプレイパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するために、本発明の第１の観点によれば、フリット、金属質パウダーおよびビヒクルを含み、金属質パウダーの含有量は、５２〜６２質量部であり、フリットの含有量は、５〜１５質量部である電極形成用組成物が提供される。
【００１５】
本発明によれば、第１電極（アドレス電極）を形成するのに用いられる電極形成用組成物は、金属質パウダーおよびフリットを含んで構成される。本発明の電極形成用組成物では、上記のように金属質パウダーおよびフリットの組成比が最適化されている。よって、第１電極（アドレス電極）形成過程の焼成時において、液状焼結によって金属質パウダーがフリットによって形状化されて金属質層を形成し、フリットは、液状焼結によって金属質層の両側周縁に絶縁性ガラス層を形成する。結果、第１電極（アドレス電極）は、金属質層および絶縁性ガラス層によって構成される。これにより、金属質層の周縁部分で発生するマイグレーション現象を絶縁性ガラス層によって防止でき、金属質層のエッジ部分で発生するエッジカールを絶縁性ガラス層によって防止できる。また、本発明の電極形成用組成物では、組成比が最適化されているので、マイグレーション現象およびエッジカールを防止するとともに第１電極（アドレス電極）自体の性能を維持できる。従って、本発明の電極形成用組成物を第１電極（アドレス電極）の形成に用いると、第１電極（アドレス電極）を具備するプラズマディスプレイパネルの製品品質を向上できる。
【００１６】
フリットは、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含むことができる。ここで、Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比が１以上であってよく、好ましくは、１以上５以下の範囲であってよい。
【００１７】
金属質パウダーは、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、銀−パラジウム合金（Ａｇ−Ｐｄ）およびこれらの組み合わせから構成される群より選択されてよい。金属質パウダーは、銀（Ａｇ）パウダーであってよい。
【００１８】
ビヒクルは、有機溶媒およびバインダーを含むことができる。
【００１９】
有機溶媒は、ケトン類、アルコール類、エーテル系アルコール類、飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類、乳酸エステル類、エーテル系エステル類およびこれらの組み合わせから構成される群より選択されてよい。
【００２０】
バインダーは、アクリル系樹脂、スチレン樹脂、ノボラック樹脂、ポリエステル樹脂およびこれらの組み合わせから構成される群より選択されてよい。
【００２１】
上記課題を解決するために、本発明の第２の観点によれば、所定の間隔を置いて、対向配置される第１基板および第２基板と、第１基板上に配置され、第１方向に沿って形成される第１電極と、第１基板と第２基板との間で第１電極から離隔して配置され、第１方向と交差する第２方向に沿って形成される第２電極と、第１基板と第２基板との間の空間で複数の放電セルを区画する隔壁と、各放電セル内に形成される蛍光体層とを備え、第１電極は、５２〜６２質量部の金属質パウダーおよび５〜１５質量部のフリットから形成されるプラズマディスプレイパネルが提供される。
【００２２】
フリットは、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含むことができる。ここで、Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比が１以上、好ましくは、１以上５以下の範囲であってよい。金属質パウダーは、銀（Ａｇ）パウダーであってよい。
【００２３】
上記課題を解決するために、本発明の第３の観点によれば、所定の間隔を置いて、対向配置される第１基板および第２基板と、第１基板上に配置され、第１方向に沿って形成される第１電極と、第１基板と第２基板との間で第１電極から離隔して配置され、第１方向と交差する第２方向に沿って形成される第２電極と、第１基板と第２基板との間の空間で複数の放電セルを区画する隔壁と、各放電セル内に形成される蛍光体層とを備え、第１電極は、第１方向の周縁に絶縁性ガラス層を備えるプラズマディスプレイパネルが提供される。
【００２４】
絶縁性ガラス層は、第１電極の両側周縁に沿って帯状に形成されてよい。
【００２５】
第１電極は、金属質層を備えることができる。絶縁性ガラス層は、金属質層と同一平面上に形成されてよい。
【００２６】
絶縁性ガラス層は、金属質層に隣接して形成され、絶縁性ガラス層の表面は、金属質層の表面周縁から第１基板の表面まで傾斜するように形成されてよい。
【００２７】
金属質層は、銀（Ａｇ）パウダーを含むことができ、絶縁性ガラス層は、フリットで形成されてよい。
【００２８】
第１電極は、金属質パウダーおよびフリットから形成されてよい。ここで、金属質パウダーの含有量は、５２〜６２質量部であってよく、フリットの含有量は、５〜１５質量部であってよい。
【００２９】
フリットは、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含むことができる。ここで、Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比は、１以上であってよい。
【００３０】
第１電極は、駆動時にアドレス電圧を印加されるアドレス電極であってよい。
【発明の効果】
【００３１】
以上説明したように本発明によれば、電極形成用組成物は、金属質パウダーを５２〜６２質量部で、フリットを５〜１５質量部で含む。そして、フリットは、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含み、フリットに含まれるＢ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比は、１以上となる。よって、本発明の電極形成用組成物を用いてアドレス電極を形成する場合、アドレス電極形成過程の焼成時に、電極形成用組成物の金属質パウダーが粒子間液状焼結によって金属質層を構成し、フリットによって金属質層の外部に絶縁性ガラス層を形成することができる。これにより、銀などでアドレス電極を形成する際に、隣接するアドレス電極の間で発生するマイグレーション現象を絶縁性ガラス層によって防止できる。また、電気伝導性金属質層のエッジ部分に絶縁性ガラス層が形成されるので、アドレス電極の周縁部分で発生するエッジカールを防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００３３】
（プラズマディスプレイパネルの構造）
図１は、本発明の一実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの斜視図である。図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線に沿って切断した側断面図である。
【００３４】
図１を参照すると、本発明の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルは、第１基板１０、第２基板２０、隔壁１６、放電セル１８、第１電極１２、第２電極２７を含んで構成される。第１基板１０（以下、背面基板とする）および第２基板２０（以下、前面基板とする）は、既に設定された所定の間隔を間に置いて、互いに対向配置される。背面基板１０と前面基板２０が重なる周縁をフリット（図示せず）で封着し、背面基板１０と前面基板２０との間に密閉された放電空間を形成する。なお、背面基板１０と前面基板２０との間の間隔は、外気圧によって圧縮され、縮小することが多い。また、背面基板１０および前面基板２０によって形成される放電空間は、背面基板１０と前面基板２０との間に配置される隔壁１６によって、複数の放電セル１８に区画される。
【００３５】
本発明の実施形態における隔壁１６は、背面基板１０上に隔壁誘電体ペーストを塗布し、隔壁誘電体ペーストをパターニングした後に焼成することにより形成される。よって、図１で例示された隔壁１６は、背面基板１０とは別途に形成されたものである。
【００３６】
隔壁１６は、第１方向（図１のｙ軸方向）に沿って形成される縦隔壁部材１６ａと、縦隔壁部材１６ａと直交する第２方向（図１のｘ軸方向）に沿って形成される横隔壁部材１６ｂとを備える。したがって、放電セル１８は、縦隔壁部材１６ａおよび横隔壁部材１６ｂによって、略格子形状パターンに区画される。
【００３７】
しかし、本発明の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルは、上述の構成形状に必ず限定されるわけではない。放電セル１８は、上述した略格子形状パターンの他にも略帯形状パターンおよび略デルタ型形状パターンなど、多様な形状で構成される。
【００３８】
背面基板１０の面上には、各放電セル１８に全て対応し、第１方向に沿って互いに平行に延長して形成される第１電極（以下、アドレス電極とする）１２が形成される。つまり、複数のアドレス電極１２は、背面基板１０上で第１方向に沿って延長して形成され、第２方向に沿って互いに平行となるように並んで配置される。
【００３９】
アドレス電極１２は、金属質層１２ａと、金属質層１２ａの両側周縁に隣接して、同一平面上に形成される絶縁性ガラス層１２ｂとを備える。アドレス電極１２に対する説明は、以下の図３および図４を参照して、さらに詳しく説明する。
【００４０】
そして、背面基板１０上にはアドレス電極１２を覆うように誘電体層１４（以下、下部誘電体層とする）が形成される。下部誘電体層１４上には、上述のように背面基板１０と前面基板２０との間で放電セル１８を区画する隔壁１６が形成される。
【００４１】
そして、放電セル１８内部の隔壁１６の側面および下部誘電体層１４の上部に蛍光体層１９が形成される。蛍光体層１９は、第１方向に沿って区画される各放電セル１８内で同一色の蛍光体で形成され、第２方向に沿って形成される各放電セル１８内には赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）の蛍光体で繰り返して形成される。言い換えると、第１方向に沿って配置される放電セル１８には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）のうち一色の蛍光体層１９が配置される。第２方向に沿って配置される各放電セル１８には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）の蛍光体層１９が交互に配置される。
【００４２】
前面基板２０上には、放電セル１８に対応し、第１方向（図１のｙ軸方向）と交差する第２方向（図１のｘ軸方向）に沿って延長して形成される第２電極（以下、表示電極とする）２７が形成される。表示電極２７は、各放電セル１８に対応する走査電極２３および維持電極２６を対で含んで構成される。つまり、表示電極２７は、背面基板１０と前面基板２０との間で、アドレス電極１２に離隔して配置され、第２方向に沿って延長して形成される。複数の表示電極２７は、第１方向に沿って互いに平行となるように並んで配置される。よって、表示電極２７は、第２方向に沿って配置される放電セル１８に対応する。
【００４３】
走査電極２３は、バス電極２１および透明電極２２を備える。バス電極２１は、横隔壁部材１６ｂに沿って延長して形成される。透明電極２２は、バス電極２１の上面と接しながら放電セル１８の中央に向かって突出され、第２方向に沿って延長して形成される。維持電極２６は、バス電極２４および透明電極２５を備える。バス電極２４は、横隔壁部材１６ｂに沿って延長して形成される。透明電極２５は、バス電極２４の上面に接しながら放電セル１８の中央に向かって突出され、第２方向に沿って延長して形成される。図１では、透明電極２２は、前面基板２０上に配置され、バス電極２１は、透明電極２２の背面基板１０に対向する面上に配置される。バス電極２４、透明電極２５も同様の配置となる。
【００４４】
透明電極２２および透明電極２５は、前面基板２０上において、第２方向に沿って配置される赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）の放電セル１８に全て対応するように、略帯状形状で延長形成される。また、透明電極２２および透明電極２５は、可視光の透過率を高めるために透明ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ、インジウムスズ酸化物）などで形成される。
【００４５】
しかし、本発明の実施形態の表示電極２７は、必ずしも上述した構造に制限されるわけではない。つまり、透明電極２２および透明電極２５が、赤（Ｒ）の蛍光体層１９が形成される放電セル１８Ｒ、緑（Ｇ）の蛍光体層１９が形成される放電セル１８Ｇ、青（Ｂ）の蛍光体層１９が形成される放電セル１８Ｂの各々に対応し、バス電極２１およびバス電極２４から個別的に突出形成されてもよい。言い換えると、透明電極２２および透明電極２５は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）の放電セル１８のうち１つの放電セル１８に対応するように、例えば放電セル１８の第２方向の長さと同じ長さで形成されてよい。
【００４６】
バス電極２１およびバス電極２４は、透明電極２２および透明電極２５による電圧降下を補充するために電気伝導性に優れた金属材質で形成される。バス電極２１およびバス電極２４は、プラズマ放電によって放電セル１８内で発生する可視光の透過率を高めるために、放電セル１８を間において配置される両側の横隔壁部材１６ｂに隣接して設置されるのが好ましい。さらに、バス電極２１およびバス電極２４は、横隔壁部材１６ｂ上に沿って設置されてもよい。
【００４７】
一方、走査電極２３および維持電極２６を覆うために誘電体層２８（以下、上部誘電体層とする）が形成される。
【００４８】
上部誘電体層２８上には、保護膜２９が形成される。保護膜２９は、表示電極２７および上部誘電体層２８が放電セル１８内で発生するプラズマ放電によって破損されることを防止する。保護膜２９は、可視光透過性材質のＭｇＯ膜などで製作できる。ＭｇＯ膜は、上部誘電体層２８を保護し、高い二次電子放出係数（ｓｅｃｏｎｄａｒｙ ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｅｍｉｓｓｉｏｎ ｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔ）を備えるために、放電開始電圧をさらに下げることができる。
【００４９】
そして、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）の蛍光体層１９が形成される各放電セル１８の内部には、プラズマ放電を発生するための放電ガス（例えば、キセノン（Ｘｅ）、ネオン（Ｎｅ）などを含む混合ガス）が充填される。
【００５０】
したがって、本発明の実施形態のプラズマディスプレイパネルは、駆動時のリセット期間では、走査電極２３に印加されるリセットパルスによってリセット放電を発生する。このリセット期間に続くスキャン期間では、走査電極２３に印加されるスキャンパルスとアドレス電極１２に印加されるアドレスパルス（アドレス電圧）によって、アドレス放電を起こす。その後、維持期間では、維持電極２６および走査電極２３に印加される維持パルスによって維持放電を起こす。
【００５１】
このように、プラズマディスプレイパネルの駆動時では、維持電極２６および走査電極２３は、維持放電に必要な維持パルスを印加される電極の役割を果す。プラズマディスプレイパネルの駆動時では、走査電極２３は、リセットパルスおよびスキャンパルスを印加される電極の役割を果す。プラズマディスプレイパネルの駆動時では、アドレス電極１２は、アドレスパルス（アドレス電圧）を印加される電極の役割を果たす。しかし、本発明の実施形態の維持電極２６、走査電極２３およびアドレス電極１２は、それぞれに印加される電圧波形によってその役割を違えることができるので、必ずしも上述の役割に限定されるわけではない。
【００５２】
したがって、本発明の実施形態のプラズマディスプレイパネルは、アドレス電極１２と走査電極２３との相互作用によるアドレス放電によって、点灯される放電セル１８を選択し、維持電極２６と走査電極２３との相互作用による維持放電によって、選択された放電セル１８を駆動させて画像を表示する。
【００５３】
（アドレス電極の構造）
以下、本発明の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのアドレス電極構造について図３および図４を参照して、より詳しく説明する。
【００５４】
図３は、図２のＩＩＩ部分を拡大して示す写真である。図４は、図３のアドレス電極の平面形状を示す拡大写真である。
【００５５】
図３および図４を参照して説明すると、アドレス電極１２は、金属質層１２ａと、金属質層１２ａの両側周縁に隣接して、同一平面上に形成される絶縁性ガラス層１２ｂとを備える。金属質層１２ａは、背面基板１０上で第１方向に沿って延長して形成され、対応する第１方向の各放電セル１８にアドレス電圧を印加するための導電層を構成する。
【００５６】
金属質層１２ａは、例えば導電性が高く、相対的に安価な銀（Ａｇ）材質などで形成されてよい。金属質層１２ａは、大部分パウダー形状の銀から形成される。これら銀パウダー（金属質パウダー）は、ペースト状態から焼成過程を経て、フリットによって形状化されることにより、アドレス電極１２の形状を構成することができる。
【００５７】
一方、絶縁性ガラス層１２ｂは、金属質層１２ａと同一平面上で金属質層１２ａの両側周縁に配置され、第１方向に沿って略帯状（ｂａｎｄ ｓｈａｐｅｄ）で形成される。絶縁性ガラス層１２ｂの表面（上面）は、金属質層１２ａの表面周縁から背面基板１０の表面まで傾斜するように形成される。したがって、絶縁性ガラス層１２ｂは、金属質層１２ａの両側周縁を絶縁する絶縁層を構成することができる。
【００５８】
このような絶縁性ガラス層１２ｂは、フリットなどから形成される。つまり、金属質層１２ａは、主成分の金属質パウダーがフリットによって形状化されたものである。一方、絶縁性ガラス層１２ｂは、フリット（主成分）から構成され、金属質層１２ａと一体に形成されるが、金属質層１２ａとは、互いに区分して形成される。この部分は、以下で詳細に説明するが、アドレス電極１２の形成過程で金属質パウダーがフリットによって形状化されることにより、金属質層１２ａが形成される。一方、フリットが金属質層１２ａの両側周縁に形成されることにより、絶縁性ガラス層１２ｂが形成される。
【００５９】
この時、アドレス電極１２は、金属質層１２ａの金属質パウダー約５２〜６２質量部、約５〜１５質量部の範囲に属する含量のフリットを含む。つまり、アドレス電極１２は、金属質パウダーおよびフリットから形成される。金属質パウダーの含有量は、約５２〜６２質量部であり、フリットの含有量は、約５〜１５質量部となる。フリットが１５質量部以上（金属質パウダーが５２質量部未満）であると、導電性が不足してアドレス電極１２の電気伝導度が低下する問題が発生する。また、フリットが５質量部未満（金属質パウダーが６２質量部以上）であると、アドレス電極１２の周縁に沿って絶縁性ガラス層１２ｂを形成し難いため、エッジカール、マイグレーションなどの問題が発生する。
【００６０】
そして、フリットは、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを成分として含む。Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比は、約１以上５以下の範囲となる。フリットは、金属質パウダーと混合されて金属粒子間の結合を補助する役割を果たす。Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比が１未満であると、ガラス転移温度が高くなって液状焼結が難しくなり、質量比が５以上であると、電気伝導性が低下する。フリットは、他の成分としてＳｉＯ２、ＰｂＯ、Ｂｉ２Ｏ３およびＺｎＯを含むことができる。
【００６１】
このように、本発明の実施形態のアドレス電極１２は、アドレス電極１２の第１方向（図１のｙ軸方向）の両側周縁に形成される略帯状の絶縁性ガラス層１２ｂによって、金属質層１２ａの両側周縁を絶縁することができる。これにより、隣接するアドレス電極１２の間で発生するマイグレーション現象によるアドレス電極１２の断線および短絡を防止することができる。
【００６２】
したがって、銀材質などを主に使用するアドレス電極１２の幅とピッチを減らすことができる。よって、ピッチの小さい放電セル１８に全て対応するように、アドレス電極１２自体を稠密に配置できるので、プラズマディスプレイパネルの高精細を実現できる。上記ではアドレス電極１２の構成および形状について説明したが、本発明の実施形態におけるアドレス電極１２の構成および形状は、プラズマディスプレイパネルに用いられる他の電極（例えば、走査電極２３および維持電極２６、中でもこれらのバス電極）にも適用できる。
【００６３】
上述のアドレス電極１２の構造は、後述する電極形成用組成物の組成比および製造工程を通じて得られる。
【００６４】
（アドレス電極の形成工程）
以下、図５を参照して、本発明の実施形態に係るアドレス電極の形成過程を説明する。図５は、本発明の実施形態に係るアドレス電極の形成過程を概略的に示す図面である。
【００６５】
図５を参照すると、本発明の実施形態に係るアドレス電極の形成過程は、電極層を形成する段階（ＳＴ１）、電極層を露光／現像する段階（ＳＴ２、ＳＴ３）および焼成する段階（ＳＴ４）を備える。
【００６６】
図５（ａ）に示すように、電極層を形成する段階（ＳＴ１）は、背面基板１０上にスクイーザー５４（ドクターブレードに似た平坦化器具）を利用してペースト状態の電極形成用組成物を塗布した後、電極形成用組成物を乾燥して電極層５２を形成する。
【００６７】
本発明の実施形態の電極形成用組成物は、金属質パウダー、フリットおよびビヒクルを含む。このうち、金属質パウダーの含有量は、約５２〜６２質量部であり、フリットの含有量は、約５〜１５質量部であることが好ましい。
【００６８】
金属質パウダーは、大部分の金属質層１２ａを構成する電気伝導性金属質で、アドレス電極およびバス電極に通常に使用される金属質であれば、特に限定せずに使用できる。具体的には、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、銀−パラジウム合金（Ａｇ−Ｐｄ）およびこれらの組み合わせなどから構成される群より選択される金属粉末を金属質パウダーとしてアドレス電極１２の形成に使用することができる。言い換えると、金属質パウダーは、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、銀−パラジウム合金（Ａｇ−Ｐｄ）などから構成される群より選択される少なくとも一つ以上の金属粉末によって構成される。その中でも大気中で焼成する場合、酸化によって導電性が低下せず、比較的安価である銀（Ａｇ）パウダーを金属質パウダーとして用いるのがより好ましい。
【００６９】
金属質パウダーは、略粒状型、略球形または略フレーク型など、その形状において特に限定されないが、光特性および分散性を考慮する時、略球形が好ましい。また金属質パウダーとして、単独で金属粉末を使用してもよいし、２種以上の互いに異なる形状の金属粉末を混合して使用することもできる。
【００７０】
金属質パウダーおよびフリットを含む構成が一定であるとする時、金属質パウダーの含量が５２質量部未満（フリットが１５質量部以上）であると、導電性物質が不足してアドレス電極１２の電気伝導度が低下する問題が発生する。また、金属質パウダーが６２質量部以上（フリットが５質量部未満）であると、アドレス電極１２の周縁に沿って絶縁性ガラス層１２ｂを形成することが難しいため、エッジカール、マイグレーションなどの問題が発生する。
【００７１】
フリットは、焼成を経て金属質パウダーを固形化することでアドレス電極１２形状を構成することができ、アドレス電極１２の周縁に絶縁性ガラス層１２ｂを形成する。
【００７２】
フリットは、焼成工程において金属質パウダーと背面基板（第１基板）１０との間に接着力を供給できる物質で構成され、例えばＳｉＯ２、ＰｂＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯなどを含むのが好ましい。
【００７３】
フリット自体のガラス転移温度を低下するために、Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比は、約１以上、好ましくは約１以上５以下の範囲となる。Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比が１未満であれば、ガラス転移温度が増大して液状焼結が難しくなり、質量比が５以上であれば、電気伝導性が低下する。従って、本発明の実施形態では、電極形成用組成物の組成比を上記の通り、最適化できるので、以下で説明するエッジカールおよびマイグレーション現象を防止するとともに、アドレス電極１２自体の性能を維持できる。
【００７４】
ビヒクルは、有機溶媒およびバインダーを含む。
【００７５】
有機溶媒としては、この分野で通常使用される有機溶媒が好ましい。具体的には、有機溶媒は、ケトン類、アルコール類、エーテル系アルコール類、飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類、乳酸エステル類、エーテル系エステル類およびこれらの組み合わせなどから構成される群より選択される化合物を含む。言い換えると、有機溶媒は、ケトン類、アルコール類、エーテル系アルコール類、飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類、乳酸エステル類、エーテル系エステル類などから構成される群より選択される少なくとも一つ以上の化合物を含む。ここで、ケトン類は、ジエチルケトン、メチルブチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノンなどを含む。アルコール類は、ｎ−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコール、テキサノールなどを含む。エーテル系アルコール類は、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどを含む。飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類は、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸アミルなどを含む。乳酸エステル類は、ラクト酸エチル、乳酸−ｎ−ブチルなどを含む。エーテル系エステル類は、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオン酸塩、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールモノ（２−メチルプロパノエイト）（２，２，４−ｔｒｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｐｅｎｔａｎｅｄｉｏｌ ｍｏｎｏ（２−ｍｅｔｈｙｌｐｒｏｐａｎｏａｔｅ））などを含む。
【００７６】
バインダーとしては、光開始剤によって架橋が可能で、アドレス電極形成時に現像工程によって簡単に除去できる高分子などを用いることができる。具体的には、バインダーとして、フォトレジスト組成分野で通常使用されるアクリル系樹脂、スチレン樹脂、ノボラック樹脂またはポリエステル樹脂およびこれら組み合わせなどから構成される群より選択される化合物が使用される。言い換えると、バインダーは、アクリル系樹脂、スチレン樹脂、ノボラック樹脂またはポリエステル樹脂などから構成される群より選択される少なくとも一つ以上の化合物を含む。好ましくは、下記のカルボキシル基含有モノマー類（ｉ）、ＯＨ基含有モノマー（ｉｉ）およびその他の共重合可能なモノマー類（ｉｉｉ）などから構成される群より選択される１種以上の共重合体をバインダーとして使用することができる。また、バインダーとして、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ、Ｈｙｄｒｏｘｙｐｒｏｐｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）、エチルセルロース（ＥＣ、Ｅｔｈｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）などの化合物も追加的に用いられてもよい。
【００７７】
（カルボキシル基含有モノマー類（ｉ））
カルボキシル基含有モノマー類としては、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、桂皮酸、琥珀酸モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）またはω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなどがある。
【００７８】
（ＯＨ基含有モノマー類（ｉｉ））
ＯＨ基含有モノマー類としては、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピルなどのＯＨ基含有単量体類およびｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性ＯＨ基含有モノマー類などがある。
【００７９】
（その他の共重合可能なモノマー類（ｉｉｉ））
その他の共重合可能なモノマー類としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ラウリル、（メタ）アクリル酸ベンジル、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートなど、モノマー（ｉ）以外の（メタ）アクリル酸エステル類、スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル系モノマー類、ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン類、ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ベンジル、ポリ（イソブチルメタクリレート）（ＰＩＢＭＡ、Ｐｏｌｙｉｓｏｂｕｔｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）などの重合体鎖の一側の末端に（メタ）アクリロイル基などの重合性不飽和基を備えるマクロモノマー類がある。
【００８０】
また、背面基板（第１基板）１０上に電極形成用組成物を塗布して金属質層１２ａを形成するために、バインダーは、適切な粘度を備える。そして、下記の現像工程における分解（溶解）を考慮して、重量平均分子量が約５，０００〜５０，０００、酸価が約２０〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇであるバインダーを用いるのが好ましい。バインダーの重量平均分子量が５，０００未満である場合には、現像時に金属質層１２ａの密着性に悪影響を与えることがあり、５０，０００を以上である場合には、現像不良が生じやすい。酸価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満である場合には、アルカリ水溶液に対する溶解性が不十分であるため現像不良が発生しやすく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である場合には、現像時に金属質層１２ａの密着性低下や露光部の溶解が発生するため好ましくない。
【００８１】
塗布工程に適した電極形成用組成物の粘度を得るために、有機溶媒およびバインダーの各々含有量は適切に調節される。
【００８２】
本発明の実施形態に係る電極形成用組成物は、架橋剤および光開始剤をさらに含むことができる。
【００８３】
架橋剤は、光開始剤によってラジカル重合反応できる化合物であれば、特に限定されない。具体的には、架橋剤として、多官能モノマー、さらに好ましくはエチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、テトラメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートおよびテトラメチロールプロパンテトラメタクリレートなどから構成される群より選択される１種以上の化合物を使用することができる。
【００８４】
架橋剤は、バインダーの含有量に対して所定の比で添加されるのが好ましい。より好ましくは、バインダー１００質量部に対して約２０〜１５０質量部の量で架橋剤が含まれる。この時、架橋剤の含有量が２０質量部未満であれば、アドレス電極形成時の露光工程で露光感度が低下し、現像工程時にアドレス電極パターンに欠陥が生じる場合がある。これとは反対に、１５０質量部以上であれば、現像後に線幅が大きくなって、アドレス電極パターン形成時のパターン形状が不鮮明となり、焼成後、アドレス電極周囲に残留物を発生させるため、上記含有量範囲内の架橋剤を使用するのが好ましい。
【００８５】
光開始剤は、露光工程中にラジカルを発生させ、架橋剤の架橋反応を開始することができる化合物であれば、特に限定されない。具体的には、光開始剤として、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパノン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノン、２，４−ジエチルチオキサントン（２，４−Ｄｉｅｔｈｙｌｔｈｉｏｘａｎｔｈｏｎｅ）およびビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイドなどから構成される群より選択される１種以上の化合物を使用することができる。
【００８６】
光開始剤は、架橋剤の含有量に対して所定の比で含まれるのが好ましい。より好ましくは、架橋剤１００質量部に対して約１０〜５０質量部の量で光開始剤が含まれる。この時、光開始剤の含有量が１０質量部未満であれば、電極形成用組成物の露光感度が低下し、５０質量部以上であれば、露光部の線幅が小さくなったり、非露光部が現像（溶解）されない問題が発生するため、鮮明なアドレス電極パターンが得られない。
【００８７】
本発明の実施形態に係る電極形成用組成物は、上記成分の他にそれぞれの目的に応じて添加剤をさらに含むことができる。
【００８８】
このような添加剤としては、感度を向上させる増減剤、電極形成用組成物の保存性を向上させる重合禁止剤および酸化防止剤、解像度を向上させる紫外線吸光剤、電極形成用組成物内の気泡を減らす消泡剤、分散性を向上させる分散剤、印刷時に膜の平坦性を向上させるレベリング剤、または窯変特性を付与する可塑剤などが挙げられる。
【００８９】
これら添加剤は、必ず使用されるものではなく、必要に応じて使用され、添加の時には量を適切に調節して使用する。添加剤の量は、当業者に公知の範囲内となる。
【００９０】
図５（ｂ）に示すように、露光段階（ＳＴ２）では、電極層５２上にアドレス電極パターンを備えるマスク５６を置いて、その上に紫外線光（ＵＶ）を照射する。
【００９１】
図５（ｃ）に示すように、現像段階（ＳＴ３）では、ノズル５８を介して現像液を噴射して、露光段階（ＳＴ２）で紫外線光照射による感光部分５２ａを除いた非感光部分５２ｂをエッチングした後、残った感光部分５２ａを乾燥する。
【００９２】
そして、図５（ｄ）に示すように、焼成段階（ＳＴ４）では、電極層５２の中で露光段階（ＳＴ２）および現像段階（ＳＴ３）によって残存した電極層５２の部分（感光部分５２ａ）を焼成してアドレス電極１２を形成する。
【００９３】
焼成段階を経て、電極形成用組成物のうち、有機溶媒およびバインダーなどから構成されるビヒクルが除去され、金属質パウダーおよびフリットが残る。
【００９４】
したがって、アドレス電極１２は、残存する金属質パウダーおよびフリットから構成される。金属質パウダーは、フリットによって固形化されてアドレス電極１２の中心部で金属質層１２ａを形成する。フリットは、金属質層１２ａの両側エッジ部分で絶縁性ガラス層１２ｂを形成する（図３および図４参照）。
【００９５】
このように、焼成段階でフリットが絶縁性ガラス層１２ｂを構成して金属質層１２ａのエッジ部分に形成されるメカニズムは、典型的なセラミックスの液状焼結（ｌｉｑｕｉｄ−ｓｔａｔｅ ｓｉｎｔｅｒｉｎｇ）として解釈できる。
【００９６】
液状焼結の一段階である粒子再配列時において、金属質層１２ａを構成する銀パウダー粒子と銀パウダー粒子との間の移動を円滑にするのに、絶縁性ガラス層１２ｂを構成するガラス成分のフリットが主な駆動力となる。そして、フリットは、銀パウダー粒子の間にネック（ｎｅｃｋ）を形成した後、金属質層１２ａの外側に排出される。
【００９７】
したがって、ガラス成分のフリットが金属質層１２ａの表面に排出される場合には、銀パウダー粒子のみ存在する開気孔（ｏｐｅｎ ｐｏｒｅ）の量を顕著に減少させる。
【００９８】
そして、ガラス成分のフリットが金属質層１２ａの両側周縁に排出される場合、絶縁性ガラス層１２ｂを形成することができる。
【００９９】
絶縁性ガラス層１２ｂは、金属質層１２ａの両側エッジ部分を絶縁させることによって、隣接するアドレス電極１２の間で発生するマイグレーション現象を防止することができる。
【０１００】
また、絶縁性ガラス層１２ｂは、焼成段階（ＳＴ４）で金属質層１２ａのエッジ部分で発生する中心部との収縮荷重の差を緩和することによって、金属質層１２ａの周縁が浮き上がるエッジカール（ｅｄｇｅ−ｃｕｒｌ）の発生を防止することができる。以上上記では、アドレス電極１２形成に用いられる電極形成用組成物およびアドレス電極１２の形成方法について説明した。本発明の実施形態におけるアドレス電極１２形成に用いられる電極形成用組成物およびアドレス電極１２の形成方法は、プラズマディスプレイパネルに用いられる他の電極（例えば、走査電極２３および維持電極２６、中でもこれらのバス電極）にも適用できる。
【０１０１】
以下、本発明の実施形態に係る電極形成用組成物に対する好ましい実施例および比較例を記載する。しかし、下記の実施例は、本発明の実施形態において好ましい実施例に過ぎず、本発明の実施形態が下記の実施例に限定されるわけではない。
【０１０２】
（実施例１）
ＳｉＯ２、ＰｂＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含み、Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比が１であるフリット１５０ｇ、Ａｇである金属質パウダー５２０ｇ、メチルメタクリレート／メタクリレート共重合体（（ＭＭＡ／ＭＡＡ）ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、エチルセルロース（ＥＣ）およびポリ（イソブチルメタクリレート）（ＰＩＢＭＡ）を混合したバインダー５０ｇ、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンである光開始剤１５ｇおよびテトラメチロールプロパンテトラアクリレートである架橋剤１０ｇを２５５ｍｌのテキサノールに添加して撹拌機で混合した。次いで、３−ロールミルを使用して攪拌および分散をさらに行った後、ろ過工程および脱泡工程を経て電極形成用組成物を製造した。
【０１０３】
上述のように製造された電極形成用組成物は、金属質パウダーを５２質量部、およびフリットを１５質量部で含む。
【０１０４】
まず、ガラス基板（１０ｃｍ×１０ｃｍ）を洗浄および乾燥した後、上述で得た電極形成用組成物をガラス基板上にスクリーン印刷法で印刷した。そして、電極形成用組成物をガラス基板にスクリーン印刷法によって塗布した後、ドライオーブンで１００℃、１５分間乾燥して感光性導電膜を形成した。感光性導電膜上に帯状パターンを備えるフォトマスクを、所定の間隔をおいて配置した後、高圧水銀ランプを利用して４５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して露光した。露光後、感光性導電膜（電極形成用組成物）に３５℃の０．４質量％炭酸ナトリウム水溶液をノズルを介して１．５ｋｇｆ／ｃｍ２の噴射圧力で２５秒間噴射して現像することにより、未露光部位を除去してアドレス電極パターンを形成した。
【０１０５】
次に、電気焼成炉を利用して５８０℃で１５分間焼成して、膜の厚さが約４μｍであるパターン化されたアドレス電極を得た。
【０１０６】
パターン化されたアドレス電極上に異方性導電フィルム（ＡＣＦ、Ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ Ｆｉｌｍ）およびＴＣＰ（Ｔａｐｅ Ｃａｒｒｉｅｒ Ｐａｃｋａｇｅ）を乗せて仮圧着および本圧着してボンディングすることで、プラズマディスプレイパネルを製造した。
【０１０７】
（実施例２）
ＳｉＯ２、ＰｂＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含み、Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比が１であるフリット５０ｇ、Ａｇである金属質パウダー６２０ｇ、メチルメタクリレート／メタクリレート共重合体（（ＭＭＡ／ＭＡＡ）ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、エチルセルロース（ＥＣ）およびポリ（イソブチルメタクリレート）（ＰＩＢＭＡ）を混合したバインダー５５ｇ、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンである光開始剤１５ｇおよびテトラメチロールプロパンテトラアクリレートである架橋剤１０ｇを２４０ｍｌのテキサノールに添加したことを除いては、実施例１と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【０１０８】
実施例２で製造された電極形成用組成物は、金属質パウダーを６２質量部、フリットを５質量部で含む。
【０１０９】
（実施例３）
ＳｉＯ２、ＰｂＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含み、Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比が１であるフリット１００ｇ、Ａｇである金属質パウダー５８０ｇ、メチルメタクリレート／メタクリレート共重合体（（ＭＭＡ／ＭＡＡ）ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、エチルセルロース（ＥＣ）およびポリ（イソブチルメタクリレート）（ＰＩＢＭＡ）を混合したバインダー５６ｇ、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンである光開始剤１４ｇおよびテトラメチロールプロパンテトラアクリレートである架橋剤１０ｇを２４０ｍｌのテキサノールに添加したことを除いては、実施例１と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【０１１０】
実施例３で製造された電極形成用組成物は、金属質パウダーを５８質量部、フリットを１０質量部で含む。上記実施例１〜実施例３では、１０ｇの架橋剤を用いたが、５０ｇの架橋剤を用いることもできる。
【０１１１】
（比較例１）
ＳｉＯ２、ＰｂＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含み、Ｂ２Ｏ３に対するＢａＯの質量比が１であるフリット３０ｇ、Ａｇである金属質パウダー６５０ｇ、メチルメタクリレート／メタクリレート共重合体（（ＭＭＡ／ＭＡＡ）ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、エチルセルロース（ＥＣ）およびポリ（イソブチルメタクリレート）（ＰＩＢＭＡ）を混合したバインダー５７ｇ、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンである光開始剤１３ｇおよびテトラメチロールプロパンテトラアクリレートである架橋剤１０ｇを２４０ｍｌのテキサノールに添加したことを除いては、実施例１と同様に実施してプラズマディスプレイパネルを製造した。
【０１１２】
比較例１で製造された電極形成用組成物は、金属質パウダーを６５質量部、フリットを３質量部で含む。
【０１１３】
図６は、本発明の実施例１および比較例１に係るアドレス電極の形状を比較して示す側断面拡大写真である。
【０１１４】
図６を参照して説明すると、実施例１および比較例１で製造されたプラズマディスプレイパネルのアドレス電極を走査顕微鏡写真で観察し、その結果を図６（ｂ）および図６（ａ）に示した。
【０１１５】
図６（ｂ）は、実施例１のアドレス電極１２に対する走査顕微鏡写真である。図６（ａ）は、比較例１のアドレス電極１１２に対する走査顕微鏡写真である。図６（ｂ）を参照すると、実施例１のアドレス電極１２には、金属質層１２ａの両側周縁に隣接し、同一平面上に形成される絶縁性ガラス層１２ｂが形成されたことが確認できる。反面、図６（ａ）を参照すると、比較例１のアドレス電極１１２は、エッジカール１１２ａが形成されたことが確認できる。図６では、図示していないが、実施例２、実施例３で形成されたアドレス電極も実施例１と同様の形状を示す。
【０１１６】
以上より、本発明の実施形態では、アドレス電極１２を形成するのに用いられる電極形成用組成物は、金属質パウダーおよびフリットを含んで構成される。当該電極形成用組成物では、金属質パウダーおよびフリットの組成比を最適化している。よって、アドレス電極１２形成過程の焼成時において、液状焼結によって金属質パウダーがフリットによって形状化されて金属質層１２ａを形成し、フリットは、液状焼結によって金属質層１２ａの両側周縁に絶縁性ガラス層１２ｂを形成する。結果、アドレス電極１２は、金属質層１２ａおよび絶縁性ガラス層１２ｂによって構成される。これにより、金属質層１２ａの周縁部分において、電極形成用組成物が隣接する他のアドレス電極１２へ拡散してアドレス電極１２間の断線および短絡を発生させるマイグレーション現象を、絶縁性ガラス層１２ｂによって防止できる。また、アドレス電極１２形成過程の焼成時において、金属質層１２ａの中心部と金属質層１２ａのエッジ部分との収縮荷重の差を、絶縁性ガラス層１２ｂによって緩和することにより、金属質層１２ａの周縁が浮き上がるエッジカールを防止できる。
【０１１７】
従って、本発明の実施形態に係る電極形成用組成物をアドレス電極１２の形成に用いると、アドレス電極１２を具備するプラズマディスプレイパネルの製品品質を向上できる。また、本発明の実施形態に係る電極形成用組成物では、組成比が最適化されているので、マイグレーション現象およびエッジカールを防止するとともにアドレス電極１２自体の性能を維持できる。本発明の実施形態に係る電極形成用組成物をプラズマディスプレイパネルに具備される他の電極に用いることもできる。これにより、プラズマディスプレイパネル自体の製品品質をさらに向上できる。
【０１１８】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【図面の簡単な説明】
【０１１９】
【図１】本発明の一実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの斜視図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線に沿って切断した側断面図である。
【図３】図２のＩＩＩ部分を拡大した写真である。
【図４】図３に示すアドレス電極の平面形状を拡大した写真である。
【図５】本発明の実施形態に係るアドレス電極の形成過程を概略的に示す図面である。
【図６】本発明の実施例１および比較例１に係るアドレス電極の形状を比較して示す側断面拡大写真である。
【符号の説明】
【０１２０】
１０ 第１基板（背面基板）
１２ 第１電極（アドレス電極）
１２ａ 金属質層
１２ｂ 絶縁性ガラス層
１４ 誘電体層（下部誘電体層）
１６ 隔壁
１６ａ 縦隔壁部材
１６ｂ 横隔壁部材
１８ 放電セル
１９ 蛍光体層
２０ 第２基板（前面基板）
２１、２４ バス電極
２２、２５ 透明電極
２３ 走査電極
２６ 維持電極
２７ 表示電極
２８ 誘電体層（上部誘電体層）
２９ 保護膜
５２ 電極層
５２ａ 感光部分
５２ｂ 非感光部分
５４ スクイーザー
５８ ノズル
１１２ アドレス電極
１１２ａ エッジカール
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フリット、金属質パウダーおよびビヒクルを含み、
前記金属質パウダーの含有量は、５２〜６２質量部であり、前記フリットの含有量は、５〜１５質量部であることを特徴とする、電極形成用組成物。
【請求項２】
前記フリットは、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含み、
前記Ｂ２Ｏ３に対する前記ＢａＯの質量比は、１以上であることを特徴とする、請求項１に記載の電極形成用組成物。
【請求項３】
前記金属質パウダーは、銀、金、アルミニウム、銅、ニッケル、クロム、銀−パラジウム合金およびこれらの組み合わせから構成される群より選択されることを特徴とする、請求項１または２に記載の電極形成用組成物。
【請求項４】
前記金属質パウダーは、銀パウダーであることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の電極形成用組成物。
【請求項５】
前記ビヒクルは、有機溶媒およびバインダーを含むことを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の電極形成用組成物。
【請求項６】
前記有機溶媒は、ケトン類、アルコール類、エーテル系アルコール類、飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類、乳酸エステル類、エーテル系エステル類およびこれらの組み合わせから構成される群より選択されることを特徴とする、請求項５に記載の電極形成用組成物。
【請求項７】
前記バインダーは、アクリル系樹脂、スチレン樹脂、ノボラック樹脂、ポリエステル樹脂およびこれらの組み合わせから構成される群より選択されることを特徴とする、請求項５または６に記載の電極形成用組成物。
【請求項８】
所定の間隔を置いて、対向配置される第１基板および第２基板と；
前記第１基板上に配置され、第１方向に沿って形成される第１電極と；
前記第１基板と前記第２基板との間で、前記第１電極から離隔して配置され、前記第１方向と交差する第２方向に沿って形成される第２電極と；
前記第１基板と前記第２基板との間の空間において、複数の放電セルを区画する隔壁と；
各前記放電セル内に形成される蛍光体層と；
を備え、
前記第１電極は、５２〜６２質量部の金属質パウダーおよび５〜１５質量部のフリットから形成されることを特徴とする、プラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
前記フリットは、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含み、
前記Ｂ２Ｏ３に対する前記ＢａＯの質量比は、１以上であることを特徴とする、請求項８に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】
前記金属質パウダーは、銀パウダーであることを特徴とする、請求項８または９に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１】
所定の間隔を置いて、対向配置される第１基板および第２基板と；
前記第１基板上に配置され、第１方向に沿って形成される第１電極と；
前記第１基板と前記第２基板との間で、前記第１電極から離隔して配置され、前記第１方向と交差する第２方向に沿って形成される第２電極と；
前記第１基板と前記第２基板との間の空間において、複数の放電セルを区画する隔壁と；
各前記放電セル内に形成される蛍光体層と；
を備え、
前記第１電極は、前記第１方向の周縁に絶縁性ガラス層を備えることを特徴とする、プラズマディスプレイパネル。
【請求項１２】
前記絶縁性ガラス層は、前記第１電極の両側周縁に沿って帯状に形成されることを特徴とする、請求項１１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１３】
前記第１電極は、金属質層を備え、
前記絶縁性ガラス層は、前記金属質層と同一平面上に形成されることを特徴とする、請求項１１または１２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１４】
前記絶縁性ガラス層は、前記金属質層に隣接して形成され、
前記絶縁性ガラス層の表面は、前記金属質層の表面周縁から前記第１基板の表面まで傾斜することを特徴とする、請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１５】
前記金属質層は、銀パウダーを含むことを特徴とする、請求項１３または１４に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１６】
前記絶縁性ガラス層は、フリットから構成されることを特徴とする、請求項１１〜１５のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１７】
前記第１電極は、金属質パウダーおよび前記フリットから形成され、
前記金属質パウダーの含有量は、５２〜６２質量部であり、
前記フリットの含有量は、５〜１５質量部であることを特徴とする、請求項１６に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１８】
前記フリットは、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含み、
前記Ｂ２Ｏ３に対する前記ＢａＯの質量比は、１以上であることを特徴とする、請求項１６または１７に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１９】
前記第１電極は、駆動時にアドレス電圧を印加されることを特徴とする、請求項１１〜１８のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１】
フリット、金属質パウダーおよびビヒクルを含み、
前記金属質パウダーの含有量は、５２〜６２質量部であり、前記フリットの含有量は、５〜１５質量部であることを特徴とする、電極形成用組成物。
【請求項２】
前記フリットは、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含み、
前記Ｂ２Ｏ３に対する前記ＢａＯの質量比は、１以上であることを特徴とする、請求項１に記載の電極形成用組成物。
【請求項３】
前記金属質パウダーは、銀、金、アルミニウム、銅、ニッケル、クロム、銀−パラジウム合金およびこれらの組み合わせから構成される群より選択されることを特徴とする、請求項１または２に記載の電極形成用組成物。
【請求項４】
前記金属質パウダーは、銀パウダーであることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の電極形成用組成物。
【請求項５】
前記ビヒクルは、有機溶媒およびバインダーを含むことを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の電極形成用組成物。
【請求項６】
前記有機溶媒は、ケトン類、アルコール類、エーテル系アルコール類、飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類、乳酸エステル類、エーテル系エステル類およびこれらの組み合わせから構成される群より選択されることを特徴とする、請求項５に記載の電極形成用組成物。
【請求項７】
前記バインダーは、アクリル系樹脂、スチレン樹脂、ノボラック樹脂、ポリエステル樹脂およびこれらの組み合わせから構成される群より選択されることを特徴とする、請求項５または６に記載の電極形成用組成物。
【請求項８】
所定の間隔を置いて、対向配置される第１基板および第２基板と；
前記第１基板上に配置され、第１方向に沿って形成される第１電極と；
前記第１基板と前記第２基板との間で、前記第１電極から離隔して配置され、前記第１方向と交差する第２方向に沿って形成される第２電極と；
前記第１基板と前記第２基板との間の空間において、複数の放電セルを区画する隔壁と；
各前記放電セル内に形成される蛍光体層と；
を備え、
前記第１電極は、５２〜６２質量部の金属質パウダーおよび５〜１５質量部のフリットから形成されることを特徴とする、プラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
前記フリットは、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含み、
前記Ｂ２Ｏ３に対する前記ＢａＯの質量比は、１以上であることを特徴とする、請求項８に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】
前記金属質パウダーは、銀パウダーであることを特徴とする、請求項８または９に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１】
所定の間隔を置いて、対向配置される第１基板および第２基板と；
前記第１基板上に配置され、第１方向に沿って形成される第１電極と；
前記第１基板と前記第２基板との間で、前記第１電極から離隔して配置され、前記第１方向と交差する第２方向に沿って形成される第２電極と；
前記第１基板と前記第２基板との間の空間において、複数の放電セルを区画する隔壁と；
各前記放電セル内に形成される蛍光体層と；
を備え、
前記第１電極は、前記第１方向の周縁に絶縁性ガラス層を備えることを特徴とする、プラズマディスプレイパネル。
【請求項１２】
前記絶縁性ガラス層は、前記第１電極の両側周縁に沿って帯状に形成されることを特徴とする、請求項１１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１３】
前記第１電極は、金属質層を備え、
前記絶縁性ガラス層は、前記金属質層と同一平面上に形成されることを特徴とする、請求項１１または１２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１４】
前記絶縁性ガラス層は、前記金属質層に隣接して形成され、
前記絶縁性ガラス層の表面は、前記金属質層の表面周縁から前記第１基板の表面まで傾斜することを特徴とする、請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１５】
前記金属質層は、銀パウダーを含むことを特徴とする、請求項１３または１４に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１６】
前記絶縁性ガラス層は、フリットから構成されることを特徴とする、請求項１１〜１５のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１７】
前記第１電極は、金属質パウダーおよび前記フリットから形成され、
前記金属質パウダーの含有量は、５２〜６２質量部であり、
前記フリットの含有量は、５〜１５質量部であることを特徴とする、請求項１６に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１８】
前記フリットは、Ｂ２Ｏ３およびＢａＯを含み、
前記Ｂ２Ｏ３に対する前記ＢａＯの質量比は、１以上であることを特徴とする、請求項１６または１７に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１９】
前記第１電極は、駆動時にアドレス電圧を印加されることを特徴とする、請求項１１〜１８のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【図１】
【図２】
【図５】
【図３】
【図４】
【図６】
【図２】
【図５】
【図３】
【図４】
【図６】
【公開番号】特開２００８−７１７３６（Ｐ２００８−７１７３６Ａ）
【公開日】平成２０年３月２７日（２００８．３．２７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−６９０２３（Ｐ２００７−６９０２３）
【出願日】平成１９年３月１６日（２００７．３．１６）
【出願人】（５９０００２８１７）三星エスディアイ株式会社 (2,784)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年３月２７日（２００８．３．２７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年３月１６日（２００７．３．１６）
【出願人】（５９０００２８１７）三星エスディアイ株式会社 (2,784)
【Ｆターム（参考）】
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