説明

三菱瓦斯化学株式会社により出願された特許

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【課題】 賦型性と耐候性を兼ね備えた熱成形用多層シートおよびそれを使用した成形体を提供すること。
【解決手段】 前粘度平均分子量が20,000〜24,500のポリカーボネート樹脂層の一方の面に紫外線吸収剤を含有する厚さ15〜100μmのアクリル樹脂層を共押出した熱成形用多層シートおよびそれを使用した成形体。
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【課題】簡便な手法で形成できる、微小反応空間を有する触媒反応器を提供する。
【解決手段】反応流体の入口5、および、反応流体の出口6を有し、かつ、微小反応流路3を有する流通式の不均一系触媒反応器であって、表面に相当直径10〜2000μmの微小溝からなる流路を有する流路プレート1の流路形成面と、表面に膜厚10〜2000μmの薄膜状触媒4を固定化した触媒プレート2の薄膜状触媒面とを互いに密着させて反応空間を形成してなる触媒反応器において、該触媒プレートが、該流路プレートの流路を覆うに十分の広さで深さ10〜2000μmの凹部を有し、圧縮固定化された薄膜状触媒にて該凹部が埋められてなるものとする。
【効果】微小反応空間における触媒の固定化を簡便に実施することができる。 (もっと読む)


【課題】 十分な耐久性を有して簡便に繰り返して使用ができるソルバトクロミック色素を提供する。
【解決手段】 ポルフィリン化合物を層状ケイ酸塩の層間に挿入した複合体からなるソルバトクロミック色素。 (もっと読む)


【課題】安価に製造できる光学的等方性フィルムを用いた光情報記録媒体を提供する。
【解決手段】ジオール単位中の1〜80モル%が環状アセタール骨格を有するジオール単位とジカルボン酸単位で構成されたポリエステル樹脂からなる光学フィルム、透明性接着剤層、記録層、反射層および基材が、この順に積層された光情報記録媒体。 (もっと読む)


【課題】良好な酸素バリア性と水蒸気バリア性を有し、内容物の保存に適したガスバリア性容器を提供する。
【解決手段】少なくとも1層の、JIS−Z1712による引張破断伸度80%以上の延伸ポリプロピレン層と、少なくとも1層の酸素バリア層と、少なくとも1層の可撓性ポリマー層を含むガスバリア性ラミネートシートを成型して成る容器であって、酸素バリア層がエポキシ樹脂およびエポキシ樹脂硬化剤からなるエポキシ樹脂組成物を主成分とするものであり、かつ該エポキシ樹脂組成物が硬化して得られるエポキシ樹脂硬化物中に特定の骨格構造が40重量%以上含有されることを特徴とするガスバリア性容器。
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【課題】 簡便に繰り返し使用でき、蒸散したエタノールにより可逆的に色彩が変わるエタノールガス検知組成物を提供する。
【解決手段】 ポルフィリン化合物を層状ケイ酸塩の層間に挿入した複合体からなる、蒸散したエタノールにより色彩が変わるエタノールガス検知組成物。
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【課題】
200nm以下の波長範囲において非常に高い透明性と水よりも高い屈折率を有する液浸露光プロセス用液体を用いてレジストパターンを形成する方法を提供する。
【解決手段】
200nm以下の波長範囲において、特定の分子構造を有するリン化合物を含有する液浸露光プロセス用液体を用いてレジストパターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】
半導体デバイス製造のトランジスタ形成工程に用いられる高誘電率絶縁材料を選択的に、かつ効率よくエッチングし、さらにエッチングが困難である高誘電率絶縁材料に対しても短時間で容易にエッチングできる半導体表面処理剤及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】
フッ素化合物と水溶性有機溶剤と無機酸を含有し、残部が水からなることを特徴とする半導体表面処理剤。 (もっと読む)


【課題】
200nm以下の波長範囲において非常に高い透明性と水よりも高い屈折率を有する液浸露光プロセス用液体を用いてレジストパターンを形成する方法を提供する。
【解決手段】
200nm以下の波長範囲において、直鎖メチル水素シリコーンオイルまたは環状シリコーンオイルを含有する液浸露光プロセス用液体を用いてレジストパターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】安定性の面で優れた性質を有するが生産性に問題のあったサーモアスカス オーランティアカス(Thermoascus aurantiacus)のカタラーゼBを大量生産する方法を確立し、過酸化水素の分解除去が必要なさまざまな産業分野に利用可能な高性能カタラーゼを提供する。
【解決手段】サーモアスカス オーランティアカス(Thermoascus aurantiacus)のカタラーゼBタンパク質をコードする遺伝子を単離して塩基配列を決定し、該遺伝子を微生物に導入発現させる。 (もっと読む)


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