【課題】この発明は、組立時間を短縮できるカメラモジュールの製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】測定装置２０は、レンズユニット９を保持して光軸方向に移動させるアクチュエータ２２を有する。レンズユニット９を基準撮像素子２１に対向させてテストチャートＴを撮像し、ジャストフォーカス位置にレンズユニット９を位置決めする。このときの基準撮像素子２１とレンズユニット９との間のギャップを再現して、一体化する撮像素子と当該レンズユニット９を当該ギャップで対向させて固定する。 （もっと読む）

【課題】小型で高速動作が可能な固体撮像装置を提供すること。
【解決手段】一定の幅Ｌ１で形成された転送チャネル１８を有するＣＣＤ水平転送レジスタ１４の最終段に、ＣＣＤ水平転送レジスタ１４の転送電極１９とほぼ同一幅の出力ゲート電極２４を設け、この出力ゲート電極２４下において、ＦＤ部１６近傍に、転送チャネル１８より高電位であり、ＣＣＤ水平転送レジスタ１４からＦＤ部１６に向かって急激に幅Ｌ４が絞り込まれた絞り込み部２３ｂを設ける。 （もっと読む）

【課題】フレキシブルに階調電圧を生成することが可能な階調電圧出力装置を提供すること。
【解決手段】ＲＧＢデータの階調に対応したイネーブル幅が記憶されたソースバッファイネーブル調整レジスタ１７と、このソースバッファイネーブル調整レジスタ１７に記憶されたイネーブル幅を有する制御電圧を出力するソースバッファイネーブル制御回路２１と、このソースバッファイネーブル制御回路２１から出力された制御電圧によって階調電圧ＯＵＴｎを生成するソースバッファ１５と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】透光性基板のエッジを確実且つ容易に検出することを可能とする。
【解決手段】第１の主領域１１１ａ及び第１の周縁領域１１１ｂを有する第１の主面１１１と、第２の主領域１１２ａ及び第２の周縁領域１１２ｂを有する第２の主面１１２とを有し、第１の周縁領域の傾斜角度がθa1であり、第２の周縁領域の傾斜角度がθa2である透光性基板１１０を用意する工程と、第１の主面の第１の主領域に対して垂直な方向から第１の主面の第１の周縁領域に測定光３１０を入射させる工程と、第２の主面の第２の周縁領域から測定光が出射されない非出射領域を検出する工程と、非出射領域に基づいて透光性基板のエッジを検出する工程とを備え、透光性基板の屈折率をｎとして、傾斜角度θa1及びθa2は以下の式を満たす。
ｎ×sin(θa1＋θa2−arcsin(sinθa1／ｎ))≧１ （もっと読む）

【課題】不良品の市場への流出を減少させ、テスト時間を短縮することができるカメラモジュールのテスト装置を提供すること。
【解決手段】複数の測定基板１８上にそれぞれ複数のカメラモジュール１７を配置し、このカメラモジュール１７が配置された各測定基板１８を筐体１４内に配置し、この筐体１４内部に配置された各カメラモジュール１７に対して均一照明系１５により等しい照明光を照射すると共に、筐体１４の下部に設けられた振動装置１２を振動させながら、カメラモジュール１７から得られる画像を観測することを特徴とするカメラモジュールのテスト装置。 （もっと読む）

【課題】信頼性が高い固体撮像装置を提供すること。
【解決手段】表面に電極１３が形成されたプリント基板１２と、このプリント基板１２上に、受光素子が配列形成された受光面がプリント基板１２に対して垂直になるように実装され、受光素子の信号出力を裏面から取り出す貫通電極２２を有する固体撮像素子１５と、この固体撮像素子１５の貫通電極２２及びプリント基板１２の電極１３を相互に接続する半田ボール１６と、を具備し、半田ボール１６は、固体撮像素子１５を、その裏面において、プリント基板１２に固定することを特徴とする固体撮像装置。 （もっと読む）

【課題】内部にレンズホルダを有するシールドを精度よく固定することができるカメラモジュールを提供すること。
【解決手段】表面に撮像素子１１が配置され、裏面に複数の半田ボール２１−２を有する絶縁基板１２と、この基板１２上に固着され、上部径大部１６−１及び下部径小部１６−２からなり、内部にレンズ１３を有する筒状のレンズホルダ１６と、このレンズホルダの径小部１６−２に嵌合し、レンズホルダの径大部１６−１に接着された筒状の側部１９−２および、絶縁基板１２の下面と接し、導電用開口部１８を有する板状の底部１９−１からなる有底筒状のシールドと、絶縁基板１２の下面に形成された複数の半田ボール２１−２を介して接続された実装基板２０と、を具備することを特徴とするカメラモジュール。 （もっと読む）

【課題】低消費電力で精度よく電荷を転送することができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板１１にチャネル１２を形成する工程と、埋め込みチャネル１２上に一定の間隔を有して複数配置された転送電極１４の下部にバリア領域１５を形成する工程と、転送電極１４の両端部のうち、電荷１７の転送方向と同じ向きの位置に、電荷１７の転送方向に向かって薄くなる勾配を有するサイドウォール２０を形成する工程と、転送電極１４及びサイドウォール２０をマスクとして用い、ｎ型導電型の第２の不純物領域１６を形成する工程と、サイドウォール２０を除去する工程と、を具備し、バリア領域１５によって形成されるポテンシャルは埋め込みチャネル１２によって形成されるポテンシャルより浅く形成され、かつ、第２の不純物領域１６によって形成されるポテンシャルは、電荷１７の転送方向に向かって深くなる勾配を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】黒色フィルタを形成しても、一定の膜厚のカラーフィルタを形成することができる固体撮像装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】フォトダイオード１２が配列形成された半導体基板１１上にベース層１６を形成する工程と、このベース層１６上でありかつ、各フォトダイオード１２の上部に、それぞれ青色、緑色、赤色のいずれか１種類の波長帯域のみを透過させるカラーフィルタ１７を形成する工程と、これらのカラーフィルタ１７が形成されたベース層１６上に、黒色レジスト層１８´を全面塗布する工程と、カラーフィルタ１７が上部に露出するように黒色レジスト層１８´を除去して平坦化することで黒色フィルタ１８を形成する工程と、を具備することを特徴とする固体撮像装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】１回のイオン注入で、自由な濃度プロファイルの形状を有する不純物領域を形成することができる半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】半導体基板１１に不純物領域である埋め込みチャネル１２を形成する工程と、埋め込みチャネル１２の上部に酸化膜１４を介してレジスト層を一様に形成する工程と、電荷の転送方向に向かって光の透過率が変化するグレテーティングマスクを用いてレジスト層を露光する工程と、露光されたレジスト層を現像し、勾配を有するレジストマスクを形成する工程と、この工程によって形成されたレジストマスクを介して埋め込みチャネル１２にイオンを注入することで、濃度勾配を有する第１の不純物領域１３を形成する工程と、レジストマスクを除去後、第１の不純物領域１３上の所定の位置に、酸化膜１４を介して転送電極１５を配置する工程と、を具備し、第１の不純物領域１３を形成する工程は、この工程によって形成されるポテンシャルプロファイルが、電荷の転送方向に向かって深くなるように形成される。 （もっと読む）