【課題】 単結晶製造の効率が高く、１つの坩堝で製造し得る単結晶の本数が多い単結晶用原料の供給方法、及びその実施に使用する単結晶用原料の保持具を提供する。
【解決手段】 引き上げ軸１の下端に固定したチャック２には単結晶用原料を保持する保持具３に備えられた円柱状の取付け治具４の上端が装着してあり、取付け治具４は花冠状の支持板５の中央に立設してある。支持板５にはワイヤ６，６，６が垂設してあり、各ワイヤ６，６，６はその下端の環状部分を、カットロッド20，20，20の溝に掛け廻して、カットロッド20，20，20をそれぞれ吊下している。坩堝21内には高純度多結晶シリコンの塊片等の原料を装填し、ヒータ26の加熱によってこれを溶融して溶融液Ｌにすると共に、カットロッド20，20，20を予熱する。そして、カットロッド20，20，20の下端を適宜長だけ溶融液Ｌに浸漬し、所定の降下速度で引き上げ軸１を降下させる。 （もっと読む）

【課題】 単結晶原料２２が充填された坩堝２１を人力で直接的に把持・運搬しており、坩堝２１が滑り易いので持ち難く、落とす危険があると共に、多くの労力を必要とするという問題があった。また最近、坩堝２１の大形化、及びこれに伴う重量増が予想されており、この問題を早急に解決する必要があった。
【解決手段】 スリット１２を有し、フッ素樹脂等の弾性材料を用いて形成されたリング形状の治具本体１１と、スリット１２近傍に形成された継ぎ手部１３と、継ぎ手部１３を締め付ける締め付け手段１４と、治具本体１１に形成された把持部１５とを備えている坩堝の運搬用治具１０。 （もっと読む）

【目的】 ウェーハ表面の重金属を除去でき、人体に対して危険性が少なく、腐食性の小さなＨＰＭ処理に代わるシリコンウェーハの洗浄方法の提供。
【構成】 循環濾過式洗浄液槽を使用し、洗浄液としてｐＨ３以下の有機酸を用いてＡＰＭ洗浄後のウェーハの最終仕上げ洗浄を行う。
【効果】 低腐食性の有機酸を使用するために、耐腐食性構造を必要としないので設備が小型化でき、スペースの少ない所でも容易に設備化でき、人体に対する危険性も少なく操作性、メンテナンス性に優れ、ＨＰＭ洗浄と比較してＭＣＬ除去効果は同等で、キレート効果を持つため、重金属の再付着を防止することができ、ＭＣＬライフタイムにおいて安定した品質が得られる。 （もっと読む）