説明

株式会社ユーアイテックにより出願された特許

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【課題】ワークピースの薄膜の一部を除去加工するためにレーザー光を用いるドライエッチング方式により、ワークピースに短時間で微細パターンを形成できるレーザー加工装置を提供する。
【解決手段】薄膜となっている導電膜の一部をレーザー光12により除去加工することでワークピース9に形成される加工パターンは、微細パターンである。レーザー発振器1とワークピース9との間に可変マスク5が配置され、マスク5は、レーザー光をワークピース9へ選択的に到達、不到達させるために作動する多数のセルを備え、これらのセルが制御装置11で個別的制御されることで、レーザー光をワークピース9に到達させるセルパターンが形成され、制御装置11で制御されるワークピース移動装置10によるワークピース9の移動と、制御装置11によるセルパターンの変更とにより、ワークピース9に微細パターンが形成される。 (もっと読む)


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