説明

NLTテクノロジー株式会社により出願された特許

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【課題】ナノ粒子インクを用いた配線形成にあたり、インク使用効率の向上、インク着弾精度の緩和、配線断面の順テーパ形成を実現すること。
【解決手段】第1段階のフォトリソグラフィー工程において、フォトレジスト2を全面に塗布した基板1上に配線領域10を形成する際、そのレジスト断面が逆テーパ形状となるように露光する。ついで、第2段階のインク噴射工程において、インクジェット方式を採用し、ナノ粒子インクを配線領域10に噴射する。その後、レベリング工程、乾燥工程、レジスト剥離工程、焼成工程を経て配線を形成する。 (もっと読む)


【課題】 黒表示時の斜め視野における光漏れを低減できる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 液晶表示装置100は、偏光板101とTFT基板102との間に、負の1軸光学特性を有する第1光学補償層117を有し、CF基板104と偏光板105との間に、2軸光学特性を有する第2光学補償層118を有する。第1光学補償層117の面内リタデーションをI1(nm)とし、第2光学補償層118の面内リタデーションをI2(nm)とすると、I1及びI2は、
240nm≦I1≦425nm、
200nm≦I2≦(0.75×I1+61)nm
、又は、
500nm≦I1≦730nm、
(0.60×I1−272)nm≦I2≦180nm
の関係を満たしている。 (もっと読む)


【課題】 異なる発光色光源の各発光素子からの光を効率よく混色でき、外形の小型化に適したバックライト及びこれを用いた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 LEDアレイ基板2に配置された側面発光型赤色LED1R、側面発光型緑色LED1G及び側面発光型青色LED1Bより側面方向に出射された光は、導光板3へ溝状凹部3Aの側面から導入され、導光板3を伝播し、三色の混色が起きる。光は導光板3の両方の端面32で反射シート41などの働きで反射し、さらに導光板3を伝播し、色の混色が進む。さらに、導光板3の下面に設けられた拡散・反射手段31により上方へ反射され、拡散シート5を介して、バックライト光として外部へ出射される。 (もっと読む)


【課題】 光源として発光ダイオードを使用する表示装置において、発光ダイオードの温度の上昇を抑制した表示装置を提供する。
【解決手段】 液晶表示装置1において、アルミニウムからなる放熱板2を設け、放熱板2の前面には複数の発光ダイオード5を連結し、後面にはフィン部3を連結する。また、放熱板2にリアカバー4及びフロントカバー14を連結し、リアカバー4内にはシャーシ12を設け、シャーシ12とフロントカバー14とにより液晶パネル13を挟持する。これにより、放熱板2に支持基板としての機能を持たせる。 (もっと読む)


【課題】ドレインバスラインの断線を補修することができ、補修用配線に起因する寄生容量を低減することができる薄膜トランジスタ基板及び断線の補修方法の提供。
【解決手段】
ドレインバスライン6と透明画素電極9との間に遮光性導電膜2aがゲートバスライン2と同層に形成される構造において、ドレインバスライン6に遮光性導電膜2aに向かって突出する突起部6aを複数設け、遮光性導電膜2aをドレインバスライン6とは突起部6aのみで重なるように形成し、ドレインバスライン6に断線が発生した場合に、断線部分12の両側の突起部6aにレーザ光を照射して突起部6aと遮光性導電膜2aとを溶融接続して迂回経路を形成する。この構造では突起部6aの形状は制限されないためレーザパワーを上げたとしてもレーザ照射部10に新たな断線が生じることなく、また、寄生容量を低減することができる。 (もっと読む)


【課題】MVA型の液晶表示装置においてパネル表面を押した際に、波紋状の配向乱れが生じ、表示が回復するのに時間がかかるという問題を解決する。
【解決手段】MVA型の液晶表示装置の画素電極はサブ画素電極3aを連ねた形状とし、対向基板側の共通電極に配向規制物として十字型のスリット2を設けた。そして、表示領域に発生する液晶分子6の配向の特異点の位置と整合するように、TFT基板の信号線5上に柱状スペーサ4を設けた。この十字型のスリット2と柱状スペーサ4を設けたことによって、パネル表面を押した際に、表示領域では十字型のスリット2の中心に発生した+1の特異点を基点に液晶分子6の配向の再配列がなされ、信号線5上では柱状スペーサ4の近傍に発生した+1の特異点を基点に液晶分子6の配向の再配列が速やかになされる。 (もっと読む)


【課題】 アクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板との間のギャップが均一である液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 アクティブマトリクス基板2に柱状スペーサ13a及び13bを形成し、カラーフィルタ基板3に信号線と同じ工程で段差膜7を形成する。このとき、柱状スペーサはプロキシミティ方式の露光により形成し、段差膜7はレンズプロジェクション方式の露光により形成する。また、平面視で、段差膜7を柱状スペーサ13の内側に位置させる。そして、柱状スペーサ13aをアクティブマトリクス基板2における段差膜7により保護膜8が盛り上がっている部分に当接させる。 (もっと読む)


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