【課題】露光品質制御方法を提供する。
【解決手段】露光装置に適用する露光品質制御方法で、露光装置は、リアルタイムイメージングパフォーマンス制御システム(real-time imaging performance control system)である。露光装置は、露光条件に基づいて、ウェハに対し露光動作を実行する。本発明の露光品質制御方法は、焦点管理方法を用いて、露光装置の第一焦点を得るステップと、第一焦点に基づいて、露光装置を調整するステップと、リアルタイムイメージングパフォーマンス制御システム測定を行い、露光装置の第二焦点を得るステップと、第二焦点に基づいて、露光装置を調整するステップと、リアルタイムイメージングパフォーマンス制御システム測定を行い、露光装置の第三焦点を得るステップと、第三焦点に基づいて、露光条件を生成するステップと、からなる。 （もっと読む）

【課題】高誘電率を有する誘電体層を使用して、高蓄積キャパシタンスを有するダイナミックランダムアクセスメモリの形成方法を提供する。
【解決手段】少なくともドレイン領域と該ドレイン領域に電気的に結合される底部電極とを備える基板を準備する工程と、前記底部電極上に第１のバリア層を形成する工程と、高誘電率を有する誘電体層を形成する工程と、前記誘電体層上に第２のバリア層を形成する工程と、最上部電極を形成する工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】 ２スペーサで微細なコンタクトホールとキャパシタをセルフアライメントに形成し、プロセスの重複制限を緩和して、製造が容易で低コストなものとする。
【解決手段】 ２組のスペーサを介してソース／ビット線のコンタクトとキャパシタの保存電極とをセルフアライメントに形成するものであって、第１スペーサを層間誘電膜の側壁に形成してソース／ビット線のコンタクトホールを区画するステップと、第２スペーサをビット線の側壁に形成してキャパシタの保存電極を区画するステップとを具備して、大きなアスペクト比を有する微細なコンタクトホールを形成し、コンタクトホールにコンタクトを形成するエッチング工程における重複制限を緩和するとともに、同一フォトマスク工程によりソースおよびドレインのコンタクトを形成することにより、フォトマスク工程の回数を減らすことができる。 （もっと読む）