【課題】構造パターンの高解像度リソグラフィ用の、複数の個々に成形された粒子ビームによって基板を照射する装置を提供する。
【解決手段】第１のアパーチャダイアフラムアレイ４１と第２のアパーチャダイアフラムアレイ４２が、異なるビーム断面を有する粒子ビームレット１１８を生成するためのマルチフォーマットのダイアフラムアレイとして構成され、粒子ビームレットを個々に偏向するための少なくとも３つのマルチビーム偏向器アレイ５１、５２、５３がダイアフラムアレイ４１とダイアフラムアレイ４２に付設し、基板９１上の粒子ビームレット１１８に異なる位置を生じさせる。 （もっと読む）

【課題】平行運動学などの駆動装置の運動学が従来技術と異なり、正確な位置決めが可能になる真空適用のためのテーブル装置を提供する。
【解決手段】真空適用のためのテーブル装置は空気静力学的軸受ユニットによりガイドされた移動テーブルとベースプレートを有する。軸受ユニット（１０）が、軸受ユニットの作動に必要なガスを供給及び排出する供給ライン及び吸い込みラインに連結し、各場合に少なくとも１つの段を有する、吸い込みチャネルと真空に対してシールするシーリングギャップとを有するシーリング装置を具備する。テーブル装置の特徴として、軸受ユニットが少なくとも部分的に回り継手として構成され、移動テーブルを横にガイドするドライブ（５）によって作動されるプッシュロッド（４）が、それぞれの回り継手の回転部品（２１）に連結し、プッシュロッドが中空であり、作動ガスを排出するための吸い込みラインの構成部品を構成する。 （もっと読む）

【課題】 補足的な重りを必要としない高度に予圧された静圧気体装置であって、単純な設計によって、特に電子ビームリソグラフィー用に予圧が設けられ、電子ビーム上にいかなる負の影響も与えない、静圧気体軸受装置をもたらすことである。
【解決手段】 提案した、特に真空環境内において基部構造体上の装置を動かすための静圧気体軸受装置は、荷重負担区域と吸引領域を有する軸受本体を備えて構成される少なくとも一つの静圧軸受要素を有している。少なくとも一つの電極を有する静電予圧ユニットは少なくとも一つの静圧気体軸受要素と関連付けられ、且つ、静圧軸受要素の軸受本体の垂直面方向に力要素が生じるように電圧が加えられ得る、静圧気体軸受装置によって解決される。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、気体静力学ベアリングエレメントによってガイドされる真空利用のためのテーブルを提供する。
【解決手段】 このテーブルは、固定して取り付けられている支持構造体とテーブルトップとを有しており、このテーブルトップは、スライドによって、固定して取り付けられている支持構造体に関するｘ方向とｙ方向とに移動可能である。スライドはガイドするための気体静力学ベアリングエレメントを備えており、これらの気体静力学ベアリングエレメントは、ガスベアリングを動作させるために必要とされるガスを供給するための供給ラインとこのガスを除去するための吸引ラインとに接続されている。吸引ラインは、少なくとも１つの可変長ライン装置を備え、このライン装置は第１管材と第２管材とを有し、これらの管材は接触せずに一方が他方の中に貫入し、少なくとも１つのシーリングギャップが管材の間に備えられている。 （もっと読む）

【課題】粒子線用の静電偏向システムを提供する。
【解決手段】本発明は、特にリソグラフィ装置又は測定器のミクロ構造及びナノ構造用途に使用できる粒子放射線用の静電偏向システムに関する。本発明の提案する目的によれば、この種類の偏向システムの個々の電極は、互いに対し非常に正確な軸対称配置を永続的に有しかつ保持するべきである。本発明による静電偏向システムでは、ロッド状の電極は、粒子線を方向付けることができる内側方向に中空のキャリアに軸対称配置で保持される。キャリアは、互いに接続される少なくとも２つ、多くても４つのキャリア部材から形成される。 （もっと読む）

【課題】基板を露光する際のスループットを高めることにできる、ビームによる基板の露光方法を提供することである。
【解決手段】ビームシステム（３５）と基板支持システム（５０）とによって基板（６）を露光する方法において、基板支持システム（５０）の速度を露光中に、露光パターン密度に依存して変更する。 （もっと読む）

【課題】アパーチャアレイによって構造化された粒子ビームを、ｘ座標方向及びｙ座標方向に連続的に移動するテーブル上の基板上で正確に位置決めすること。
【解決手段】粒子ビームを生成する粒子ビーム源３０と、該粒子ビームによって面的に照射され、かつ該粒子ビームから、投射システムを介して基板上に投射されかつ該基板上にビームフットポイントを定める複数の個別ビームを生成するアパーチャプレート装置３４と、基板が載置されると共にレーザ距離測定システム２０を備えた、Ｘ座標方向及びＹ座標方向に可動のテーブル２１とを含んで構成された装置において、前記レーザ距離測定システムは、補正データ及びピクセルクロックの考慮のもとでマルチチャンネルビーム追従システムを介してＸ座標方向及びＹ座標方向において前記ビームフットポイントを位置決めする同期・制御装置に一定のクロックで位置データを供給する。 （もっと読む）

本発明は、粒子ビームから複数の個々のビームを生成するマルチビームモジュレータに関する。粒子ビームはマルチビームモジュレータを少なくとも部分的にその表面にわたって照明する。マルチビームモジュレータは複数の開口群を有し、それぞれの開口群は複数の開口行群を有する。全ての開口行の全体はｍ×ｎセルの行列を画定する。ここでｍセルは１つの行を形成し、ｋの開口がそれぞれの行に形成される。行内の開口の密度が不均質に分布される。
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【課題】
本発明の目的は、かぶり効果の影響を考慮することにより電子ビームリソグラフィーシステムの照射パラメータの信頼できる補正を可能にする方法を創出することである。
【解決手段】
本発明は、電子ビームリソグラフィーシステムにおけるかぶり効果を減少させる方法に関し、設計データに一致する処理後のパターンを得るために露光が制御される。かぶり効果のためのモデルは、少なくとも制御関数の基本入力パラメータをそれぞれ変化させることによりフィットさせられる。関数型は、近接補正装置で用いられるカーネル型に応じて選択される。近接効果も考慮され、近接効果及びかぶり効果のための共通制御関数を獲得するために、最適な組のパラメータが得られる。電子ビームリソグラフィーシステムによるパターン描画は、標準の近接補正装置で実行される同じアルゴリズムを用いて、１データ処理ステップで、結合した単一の近接効果制御関数及びかぶり効果制御関数によって制御される。
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【課題】かぶり効果の影響を考慮することにより電子ビームリソグラフィーシステムの照射パラメータの確かな補正を可能にする方法を創出することである。
【解決手段】電子ビームリソグラフィーシステムにおける近接効果補正を制御するプロセスに関する。第１ステップでは、任意のセットパターンが、近接補正を制御するプロセスを適用せずに露光される。得られるテスト構造の幾何学的配列が測定され、１組の測定データが得られる。数値範囲内で、パラメータα、β及びηの基本入力パラメータが１組の測定データから得られる。制御関数の少なくとも基本入力パラメータα、β及びηをそれぞれ変化させることによりモデルが測定データセットにフィットさせられ、それにより最適な組のパラメータを得る。補正関数が、設計データに従うパターンの露光の間、電子ビームリソグラフィーシステムの露光制御に適用される。 （もっと読む）