【課題】複雑な構成を必要としない、スパッタエッチングの均一性を調整する手段を備えたプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】対向する一対の電極5a,5bの外周部に異極同士が対向するように永久磁石8a,8bを設置し、各電極の外周の前方近傍から中心寄りの電極表面に至る部分にマグネトロン磁場（半円筒形磁場）が、一対の電極の外周部間に電極表面に垂直方向の対向磁場が形成できるようにし、各電極にプラズマ電力を供給し、導入口2よりアルゴンなどを供給して、一方の電極5b上に載置した被処理基板13に対しプラズマエッチングを行う。各電極の背面に磁場調整手段12a,12bを設けてプラズマ空間の磁場を調整してエッチングの均一性を調整する。 （もっと読む）

【課題】耐光性が高く、従来よりも均一な光学物性を発現する偏光素子を製造することが
できる偏光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】プラズマ生成領域Ｐｚを挟んでターゲット面Ｔａ，Ｔｂが対向する一対のタ
ーゲット１１１ａ，１１１ｂを備え、プラズマ生成領域Ｐｚからスパッタ粒子Ｐを放出す
るスパッタ装置１１０を用い、基板１の一面１ａがターゲット面Ｔａ，Ｔｂと略平行にな
るように基板１を配置し、凸条部１３の延在方向に交わる第１の方向から、凸条部１３の
一方の側面１３ａにスパッタ粒子を堆積させ、複数の第１細線１４ａを形成する工程と、
第１の方向とは基板１表面（被処理面１ａ）に投影した方位が正反対である第２の方向か
ら、凸条部１３の他方の側面１３ｂにスパッタ粒子を堆積させて複数の第２細線１４ｂを
形成し、第１細線１４ａと第２細線１４ｂとを有する細線１４を形成する工程と、を有す
ることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】可視光透過性が高くかつ赤外光の遮断性の高い透明断熱積層体の提供とその好適な製造方法の提供。
【解決手段】透明基板10上に透明導電層11／金属層12／透明導電層13／金属層14／透明導電層15の5層を設ける。層数は３層以上であれば任意である。望ましくは、透明導電層はインジウム、錫、亜鉛の複合酸化物（ITZO）層であり、金属層は銀層である。この積層体において、波長510nmでの光透過率T(510)が74%以上で、波長700nmの光透過率T(700)と波長900nmでの光透過率T(900)との比T(900)／T(700)が0.3以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】幅の広い長尺のフィルムに、複数層の膜を生産性よく、低コストで製造する。
【解決手段】真空槽20中でロール・ツ・ロールでフィルム10をスパッタユニット50と対面領域を通して搬送しつつその上に連続的に成膜するようにした連続スパッタ装置において、スパッタユニット50が、６側面を有しその内の一つを長方形の開口した開口側面とした直方体状の枠体と、該枠体の開口側面に隣接するその長辺側の２側面に対向するように気密に設けられた、ターゲットとこれを冷却するバッキング部とからなるターゲットモジュールを前記開口側面長辺方向に並置した複合ターゲットモジュールと該複合ターゲットモジュールの周囲に設けられたターゲット面に垂直方向の対向モードの磁界を形成する磁界発生手段とからなる一対のターゲット部とを備え、残りの３側面が密閉された箱型スパッタユニットである。 （もっと読む）