【課題】「つけペン」ナノリソグラフィ（ＤＰＮ）の方法、ＤＰＮによってパターニングされた基板、ＤＰＮを行うためのキット及び疎水性化合物で被覆されたＡＦＭチップを提供する。
【解決手段】疎水性化合物で被覆されたチップを備えた原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）。該原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）は、原子間力顕微鏡チップ（ＡＦＭ）から金基板（ＡＵ）へ分子を移動して金基板（ＡＵ）上にパターンを書き入れるための、つけペンナノリソグラフィ（ＤＰＮ）として作動する。 （もっと読む）

本発明は三角形のナノプリズムの溶解を含む銀のナノ構造のためのプラズモン駆動成長メカニズムの新規な方式を提供する。プラズモン励起駆動が作用するこのメカニズムは、二峰性の粒子の大きさ分布を生じる。この方法において、ナノ粒子の二重光線を使った成長プロセスは二峰性分布と単峰性分布の間で選択的に切り替えられる。ナノ構造の成長に関する光制御は粒子の大きさを制御するために、二峰性の成長をやめるためにある光線と他の光線（４５０−７００ｎｍの範囲で変化する）を使うことによって、３０−１２０ｎｍの範囲内にある予め選択された端部長さを有する単調分散のナノプリズムの合成が可能になる。
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