プリオンで汚染された表面または液体の汚染除去の方法は、上記表面を、一種以上のフェノールを含有する組成物で処理する工程を包含する。特に有効であるフェノールとしては、ｐ−クロロ−ｍ−キシラノール、チモール、トリクロサン、４−クロロ，３−メチルフェノール、ペンタクロロフェノール、ヘキサクロロフェン、２，２−メチル−ビス（４−クロロフェノール）およびｐ−フェニルフェノールが挙げられる。本発明の別の局面に従う、プリオンで汚染されている物質上でフェノールベースの汚染除去組成物の有効性を決定する方法が提供される。本方法は、フェノールベースの汚染除去溶液をタンパク質と合わせる工程、上記物質により取り込まれたフェノールの量を決定する工程、および取り込まれたフェノールの量に基づいて組成物の有効性を決定する工程を包含する。
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プリオンで汚染された医療機器の表面を処理する方法は、この表面と過酸化物イオン源を含む組成物（例えば、少なくとも１．５Ｍ過酸化物のモル濃度の過酸化水素（約５％過酸化水素と等価である）および好ましくは、約２Ｍ過酸化物（約７％過酸化水素））とを接触する工程を含む。上記組成物は必要に応じてゲル状である。上記組成物は上記表面との接触において、全てのプリオン汚染または実質的に全てのプリオン汚染が除去されるまで、約２時間保持される。
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