説明

フォルシュングツェントルム・ユーリッヒ・ゲーエムベーハーにより出願された特許

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本出願は、基板上への金属、金属酸化物および/または半導体材料のパターンの形成方法と、上記方法により作成されるパターンと、上記パターンの用法とに関する。 (もっと読む)


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