説明

南美特科技股▲ふん▼有限公司により出願された特許

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【課題】単一種のフルオロカーボンを含む二酸化前駆体のみを使用して、大量のフルオロカーボンを含有する二酸化ケイ素の低誘電材料薄膜を沈積でき、低誘電材料の耐熱性と耐水性を向上できる、低誘電材料及びその薄膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】まず基板をプラズマ生成反応システムに入れ、その後フルオロカーボンを含む二酸化ケイ素前駆体を運ぶキャリアガスをプラズマ生成反応システム中に導入し、フルオロカーボンを含む二酸化ケイ素前駆体を基板上に形成させ、さらに加熱方式でフルオロカーボンを含む二酸化ケイ素前駆体を低誘電材料薄膜に転化させ、同時に低誘電材料薄膜の応力を除去し、より緊密な構造とする工程によって、各種異なる雰囲気下でも、フルオロカーボンを含む二酸化ケイ素前駆体が大量のフルオロカーボンを含有する二酸化ケイ素の低誘電材料薄膜を形成することができる。 (もっと読む)


【課題】水の接触角を小さくする性質を具え、長期間有効な防霧機能と親水性を有する、防霧機能を具えた複合半導体薄膜とその作製方法を提供すること。
【解決手段】本発明の防霧機能を具えた複合半導体薄膜及びその作製方法は、複合半導体薄膜が少なくとも1つの緻密な半導体薄膜に多孔針状の半導体薄膜を結合して成り、前記複合半導体薄膜が水の接触角を小さくする性質を具え、かつ長期間有効な親水性と防霧機能を具えている。 (もっと読む)


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