極低温分離プラントにて合成ガス供給流から二酸化炭素を取り除く製造方法について述べられている。例で述べられる合成ガス供給流は、４０乃至６５モル％の水素を含み、４６乃至９０絶対バールの範囲の圧力で、単一ステージ又は連続する分離ステージの第一ステージに供給される。単一ステージ又は連続のステージは、−５３乃至−４８℃の範囲の温度及び４４から９０絶対バールの範囲の圧力で操作される。いくつかの例では、単一のステージ又は連続する複合ステージが合成ガス供給流の二酸化炭素の総モル数の７０乃至８０％を取り除く。極低温分離プラントのステージから排出された液化ＣＯ_２プロダクト流は、分離され及び／又は化学プロセスで使用される。また、合成ガス流を水素リッチ蒸気流及び二酸化炭素リッチ流に分離する製造方法について述べられている。例では、製造方法は、二相混合物が形成される温度に合成ガス流を冷却するステップと、ステップ（ａ）で形成された冷却された流を直接又は間接的に気液セパレータ容器に通過するステップであって、１５０バール未満の圧力を有する気液セパレータ容器への供給、セパレータ容器からの水素リッチ蒸気流及びセパレータ容器からの液体ＣＯ_２を引き抜くステップと、直列に配置された複数の膨張機を含む膨張システムに水素リッチ流を供給ステップと、から成り、水素リッチ蒸気流を連続の各膨張機において膨張させ、膨張された水素リッチ蒸気流は、各膨張機から、低下した温度に続き低下した圧力で、少なくとも一つの膨張水素リッチ蒸気流を冷却材として使用して、引き抜かれる （もっと読む）

ＣＯ_２を帯水層又は枯渇した炭化水素貯蔵層（２１１）を貫通する少なくとも一つの注入井（２０２）を介して注入する方法であり、注入井は注入井と密閉係合する注入管（２０３）を備える。注入管は、ＣＯ_２が注入される帯水層又は貯蔵層のインターバルで又は真上で終結し、注入管は液体注入制御バルブ（２０８）をその底面又は近くに備え、バルブ上の圧力が予め設定された圧力値より低い場合には閉じられ、バルブ上の圧力が予め設定された圧力値以上の場合には開き又は再び開き、予め設定された圧力値が、注入管のＣＯ_２を液体又は超臨界状態に維持するように選択されている。 （もっと読む）

ＣＯ_２液化プラントにおいて合成ガス流を富水素（Ｈ_２）蒸気流及び液体二酸化炭素（ＣＯ_２）流に分離するプロセスであって、（Ａ）１０〜１２０ｂａｒｇの範囲の圧力を有する合成ガス流を、ＣＯ_２液化プラントの圧縮システムに供給し、それによりその圧力を１５０〜４００ｂａｒｇに増加させ、その結果生じる高圧（ＨＰ）合成ガス流を外部冷却材で冷却して圧縮熱の少なくとも一部分を除去するステップ；（Ｂ）ＨＰ合成ガス流を、後に本プロセスで生成される複数の冷媒流と熱交換させながら熱交換器システムに通すことにより、ＨＰ合成ガス流を−１５〜−５５℃の範囲の温度に冷却するステップ；（Ｃ）ステップ（Ｂ）で形成された冷却されたＨＰ合成ガス流を、熱交換器システムと実質的に同じ圧力で稼動される気液分離器容器に直接的又は間接的のいずれかで送り、高圧（ＨＰ）富水素蒸気流を分離器容器の最上部から取り出し、液体ＣＯ_２流を分離器容器の底部から取り出すステップ；及び（Ｄ）ステップ（Ｃ）からのＨＰ富水素蒸気流をターボ膨張システムに供給し、そこで富水素蒸気流が直列ターボ膨張器の各々において等エントロピー膨張にかけられ、そのため富水素蒸気流が、直列ターボ膨張器から低減された温度及び連続的に低減された圧力で取り出され、直列ターボ膨張器の各々における富水素蒸気の等エントロピー膨張が動力を発生させ、それによりＣＯ_２液化プラントの構成部分である機械を駆動し、及び／又は発電機のオルタネータを駆動するステップを含むプロセス。 （もっと読む）