【課題】ターゲットのエロージョンの均一化を図ったマグネトロンカソード及びそのスパッタ装置の提供。
【解決手段】円形の内ターゲット５と、その外側に内ターゲット５と同心状の外ターゲット４を具備するマグネトロンカソード１において、外ターゲット４の背面側に位置して外ターゲット４を保持する外ターゲット用裏板部６２に対して不動であり、外ターゲット用マグネット群及びマグネット群が固定される外ヨーク１０からなる外マグネットユニット９と、内ターゲット５の背面側に位置して内ターゲット５を保持する内ターゲット用裏板部７２に回転可能及び移動可能とし、内ターゲット用マグネット群８１及びマグネット群が固定される内ヨーク１１からなる内マグネットユニット８と、内マグネットユニット８を内ターゲット５に対して移動させる移動制御手段と、内マグネットユニット８を内ターゲット５に対して回転させる回転制御手段を具備する。 （もっと読む）

【課題】この発明は、基板上の膜厚分布を向上させる新しい構成を有するスパッタ装置を提供する。
【解決手段】この発明は、真空容器と、該真空容器内に配置される基板ホルダーと、該基板ホルダー上に載置された基板に対してスパッタを行うターゲットを有する複数のスパッタリングカソードを具備するスパッタ装置において、前記複数のスパッタリングカソードは、それぞれのスパッタリングカソードに装着されるターゲットの中心軸が、前記基板ホルダーに載置される基板の中心軸に対して、所定の角度で傾斜するように配設されると共に、該複数のスパッタリングカソードによって構成されるスパッタリングカソードユニットが、前記真空容器に対して前記基板の中心軸を中心として回転自在に保持されることにある。 （もっと読む）

【課題】 装置のサイズを大きくすることなく、膜厚分布及びカバレージ分布を向上させることができるスパッタ装置を提供する。
【解決手段】 基板ホルダユニット４は、基板５が載置される基板支持部と、該基板支持部に設けられ、前記基板を加熱するヒータ機構と、前記ヒータ機構を冷却する冷却機構と、前記基板支持部にバイアスを印加するバイアス印加機構と、前記ヒータ機構、前記冷却機構及び前記バイアス印加機構が固定されると共に、前記基板支持部を自転可能に支持する円弧移動ベース６５と、前記基板支持部の自転中心に対して偏心して前記円弧移動ベースから延出し、前記真空容器に回転自在に支持される偏心軸と、該偏心軸を貫通して設けられ、前記基板支持部を自転させる自転機構４０と、前記偏心軸を回転させる円弧運動機構６０とを少なくとも具備することにある。 （もっと読む）

【課題】 本願発明は、簡易な構造で、現在要求される膜厚分布及びカバレージ分布を達成することのできるスパッタ装置を提供する。
【解決手段】 この発明は、基板を保持して自転する基板ホルダと、前記基板に薄膜を形成するためのターゲットが搭載されるスパッタカソード部と、該スパッタカソード部を前記基板に対して円弧状に移動させる駆動アームとを具備し、前記スパッタカソード部が、前記ターゲットに囲設され、前記基板側に開口部を有するノズル部を具備するスパッタ装置において、前記ノズル部の開口部に、前記スパッタカソード部の移動方向の両端から前記開口部の中央方向に延出して、前記スパッタカソード部の移動方向前後におけるスパッタ粒子を制限する延出部を形成することにある。 （もっと読む）

【課題】 この発明は、真空装置自体の能力を維持すると共に、真空を形成する部品点数を減少させた真空装置を提供する。
【解決手段】 この発明は、仕切バルブを介して連設された複数の真空容器と、該真空容器内に配され、それぞれの真空容器間を移動可能な少なくとも一つのキャリヤと、それぞれの真空容器に接続される一次排気機構と、それぞれの真空容器に接続される真空形成機構と、それぞれの真空容器にスパッタ用ガスを供給するスパッタ用ガス供給機構とを少なくとも具備する真空装置において、前記真空形成機構は、一つの真空ポンプと、該真空ポンプとそれぞれの真空容器との間に配される一つの中間真空容器とを具備する。 （もっと読む）

【課題】 この発明は、所望の成分分布を得ることができるスパッタ装置を提供することである。
【解決手段】この発明は、真空室内に回転自在に設置された基板ホルダと、該基板ホルダ上に載置された基板と、該基板に薄膜を形成するためのターゲットと、該ターゲットが搭載される回転可能なスパッタカソードとを少なくとも具備し、前記ターゲットをスパッタして前記基板に薄膜を形成するスパッタ装置において、前記スパッタカソードを基板に対して傾斜させると共に、前記ターゲットの中心を前記スパッタカソードの回転軸に対して偏心させたことにある。 （もっと読む）

【課題】 この発明は、基板の径方向に均一に傾斜した柱状構造の薄膜を精度良く形成できると共に、膜厚分布をさらに均一にすることのできるスパッタ装置を提供する。
【解決手段】 この発明は、真空空間を画成する真空容器と、該真空容器内に回転可能に配された基板保持台と、該基板保持台に載置される基板と、該基板に対して所定の角度で傾斜すると共に、前記基板に対して平行に移動するカソードと、該カソードに装着され、膜形成用材料からなるターゲットとを少なくとも具備するスパッタ装置において、前記基板と平行に配され、前記基板の所定の位置を前記ターゲットに対して露出する開口部が形成されたマスクが設けられることにある。また、前記カソードの前面には、前記マスクと平行に開口する開口部を有するフードが設けられる。 （もっと読む）

【課題】 モニター基板の材質を限定することなく、頻繁なモニター基板の交換が行うことのできる薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】 この発明のモニター基板装着装置は、前記基板ホルダーの中央部に開口した開口部を介して前記蒸着源と対峙する位置に設けられたモニター基板ホルダーと、未使用モニター基板が積層収納された着脱自在の未使用モニター基板収納箱と、使用済みモニター基板が積層収納される着脱自在の使用済みモニター基板収納箱と、前記未使用モニター基板収納箱から前記モニター基板ホルダーへモニター基板を送出し、前記モニター基板ホルダーへモニター基板を設置すると共に、モニター基板使用後において、前記モニター基板ホルダーから使用済みモニター基板収納箱へ使用済みモニター基板を送出して収納させるモニター基板移動手段とによって少なくとも構成される。 （もっと読む）

【課題】 この発明は、スパッタターゲット材が円錐台側面形状をなし、前記円錐台側面形状に沿った磁力線を得るように配されたマグネット機構を有するスパッタ電極構造において、簡易な構造でマグネット機構によって生じる磁界を変化させて、膜厚分布を向上させると共にスパッタターゲットのエロージョンを均一化させることにある。
【解決手段】 この発明のスパッタ電極構造は、電圧が印加されて、真空容器内に配された基板に対し、スパッタ粒子を飛び出させるスパッタ電極において、前記基板に対して傾斜して配される円錐台側面形状をなすスパッタターゲット材と、該スパッタターゲット材の背後に設けられ、前記スパッタターゲット材の表面に沿った磁力線を生じさせるマグネット機構と、該マグネット機構によって生じる磁界を変動させる磁界変動手段とを少なくとも具備することにある。 （もっと読む）