説明

カール ツァイス エスエムテー アクチエンゲゼルシャフトにより出願された特許

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【課題】固有複屈折の有害影響を抑えつつ、高い屈折率を有する結晶材料を使用することを可能にする、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズを提供すること
【解決手段】少なくとも1つのレンズを有しており、当該レンズは少なくとも1つの湾曲されたレンズ表面を有しており、固有複屈折材料から成る少なくとも4つのレンズ部材から組み立てられており、当該レンズ部材は、光軸に沿って相互に隣接して連続するように配置されており;前記4つのレンズ部材は2組のレンズ部材から成り、当該2つの組は相互に異なる結晶カットを有しており、各組のレンズ部材は同じ結晶カットを有しており、光軸を中心とした回転オフセットを伴って相互に相対的に配置されている、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ。 (もっと読む)


【課題】光学系内の偏光分布の局部的な乱れが少なくとも部分的に補償される、偏光変調光学素子の択一的な製造方法を提供すること、並びに偏光変調光学素子の択一的な実現。
【解決手段】偏光変調光学素子の製造方法であって、当該素子は、当該素子を通過する光に対して、ストレス誘導複屈折により、偏光の直交状態間にリターデイション分布を生じさせ、当該方法は、第1のコンポーネントと第2のコンポーネントを結合するステップを含んでおり、所定の高さプロファイルが与えられている前記第1のコンポーネントの非平面表面を、前記第2のコンポーネントの平面表面と結合し、前記ストレス誘導複屈折を生起させる機械的ストレスを、上述のように変形された偏光変調光学素子内に生じさせる、ことを特徴とする、偏光変調光学素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】偏光状態を壊すことなく、光伝導性を形成することが可能な、マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明デバイスの光学システムを提供すること。
【解決手段】少なくとも1つの第1の光伝導性増大部材を含み、当該第1の光伝導性増大部材は複数の回折性または屈折性ビーム偏光構造体を有しており、当該構造体は共通の第1の優先方向に延在しており;前記光伝導性増大部材は光学的単軸結晶材料を有しており、当該結晶材料の光学結晶軸は、前記第1の優先方向に対して実質的に平行であるか、または実質的に垂直である、ことを特徴とする、マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明デバイスの光学システム。 (もっと読む)


【課題】反射防止層のような、光学系内の干渉層の結果として生起する偏光状態の不所望な変化を低減又は回避するように、光学系、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明装置又は投影対物レンズを改善すること。
【解決手段】本発明は、光学系、特に、マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明装置又は投影対物レンズに関しており、干渉層系を有する少なくとも1つの湾曲レンズ表面を有する少なくとも1つの光学要素を有しており、その際、各層の少なくとも1つの層は、5ナノメータより大きくない厚みの少なくとも1つの中間層によって細分されており、その際、少なくとも1つの、細分された層内に形成された円柱構造部は、少なくとも1つの中間層によって中断されている。 (もっと読む)


本発明は、マイクロ・リソグラフィー投影露光装置のための光学システム、特に、対物レンズまたは照明システムに関するもので、高い屈折率の結晶材料をしても、映像特性における固有複屈折の影響を低減できる。特に、本発明は、固有複屈折材料のレンズを有する少なくとも2つのレンズグループ(10〜60)を有し、前記各レンズグループ(10〜60)は、それぞれ、(100)方位の複数のレンズを有する第1のサブグループと、(111)方位の複数のレンズを有する第2のサブグループとを有し、前記各サブグループの複数のレンズは、レンズ軸に関し、相互に相対的に回転した位置関係で配置されている、光学システムに関する。
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偏光変調光学素子(1)であって、当該偏光変調光学素子は旋光性材料から成り、厚さプロファイルを有し、当該厚さは光軸の方向において測定され、光学素子の領域にわたって変化する。この偏光変調光学素子(1)は、次のような効果を有している。すなわち、第1の直線偏光光線の振動面および第2の直線偏光光線の振動面がそれぞれ、第1の回転角度および第2の回転角度で回転されるという効果を有している。ここで第1の回転角度と第2の回転角度は相互に異なっている。
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光学的素子、すなわち結晶質フッ化マグネシウム、石英、フッ化ランタン、サファイアおよびα−酸化アルミニウムのレンズまたは平面状の平行なプレート(端部が閉鎖されたプレートとして使用される)を有するマイクロリソグラフィー投影用対物レンズが提案される。適当な結晶学的配向、結晶10組合せ、光の偏光が記載される。適当な用途は最高の数字による開口値を使用するDUVおよびVLN領域の浸漬リソグラフィーまたは近視野リソグラフィーに関する。
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