本発明は、少なくとも１つのシステム絞り（１，１’）を備えた光学結像装置（ＰＬ）、特に半導体リソグラフィ用のレンズを開示する。該システム絞り（１，１’）は、回転可能に装着された複数の可動薄板（４，４’）を備える。薄板（４，４’）は、球状に湾曲している。
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本発明はマイクロリソグラフィの照明システムに関する。特に波長１９３ｎｍ以下で、特に望ましくは、光強度を各々有する複数の光チャネルに光源から放射された光バンドルを分割する、少なくとも１つの光インテグレータでフィールド面のフィールドを照らすためのＥＵＶリソグラフィ用の、マイクロリソグラフィの照明システムに関する。光源からフィールド面への光路にフィルタが設けられ、該フィルタは、少なくとも１個の光チャネルの光強度がフィルタエレメントの後の光路で減少するように構成されているフィルタエレメントを備えることを特徴とする。

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極端紫外線領域における放射を用いるマイクロリソグラフィで使用される投影露光機のための照明装置に備えられるファセットミラーの鏡面ファセット（１）を製造する方法において、個別の傾斜角が鏡面ファセット（１）の光学面（２）に設けられ、好ましくは鏡面ファセット（１）の基準面に対する傾斜角を有する面が前記光学面の中あるいは表面に機械加工される。
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【課題】 従来のアキシコンシステムと比較して、偏光のより生じる透過の不均一性を大幅に減少させるアキシコンシステムを提供する。
【解決手段】 例えば、光強度の径方向再分布により、その入射面に入射する入射光分布を、その出射面から出射する出射光分布に変換する目的を果たすマイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明システムに用いることが可能なアキシコンシステムであり、その１つの実施例において、アキシコンシステムは、第１のアキシコン表面および該アキシコン表面に対向して位置するさらに別の表面を備えるアキシコン素子と光軸とを有する。少なくとも１つの表面は、アキシコン表面での偏光選択反射および透過により発生するアキシコンシステムの透過不均一性を、楕円透過関数により、空間依存的に補償する光学補償コーティングにより覆われている。 （もっと読む）

ＥＵＶと軟Ｘ線との範囲のための光学要素の最適な反射率を得るために、複数の層から構成されている多層が用いられている。表面の汚染又は劣化は、結像の欠損と伝達の損失とに導いている。従来技術では、表面の好ましくない変化に表面を保護するはずである、反射光学要素の表面上のカバー層システムを与えることにより抗することが試みられてきた。本発明は、カバー層システムの厚さ分布の選択を目標とすることにより表面劣化の影響を制御可能にし、これにより、このカバー層システムの少なくとも１つの層は、０と等しくない勾配を有している。
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