説明

ケイエルエイ−テンコー コーポレーションにより出願された特許

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【課題】半導体ウエーハ欠陥検査又は測定における設計主導型の検査/測定方法および装置を提供する。
【解決手段】レシピ155は、検査/測定システム150に対して、ウエーハ160を検査/測定する方法を指示するためのウエーハ処理パラメータ、検査パラメータまたは制御パラメータを含む命令のセットである。設計データはレシピ抽出システム150に取り込まれ、該レシピ抽出システム150は、ターゲット構造のインスタンスを認識し、これに応じてレシピパラメータを構成し、これにより、マニュアルでの機器セットアップ時間を減少させ、検査/測定の精度を向上させ、製造効率を向上させる。 (もっと読む)


【課題】試料に形成された周期構造の特性を実時間で分析する。
【解決手段】波長の関数としての信号を発生させる分光計測モジュールがを使用する。出力信号はプロセッサーにより方形構造の理論的な初期モデルを構築する。次いで、プロセッサーは、この試料の広帯域放射に対する理論的な光学的応答を計算する。光学的応答の計算結果は、複数の波長において計測され正規化された値と比較される。この比較に基づいて、モデルの構成は実際の計測された構造により近づくよう修正される。プロセッサーは修正されたモデルの光学的応答を再計算し、計算結果を正規化されたデータと比較する。最適な方形が得られるまでこの処理が反復して繰り返される。その後、モデルを各々幅と高さを持つ層に分割しモデルの複雑さを反復して増大させる。構造が周期構造に類似するような最適なモデルが得られるまで、反復処理によりデータが最適化される。 (もっと読む)


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