連続真空条件下での以下の試料処理活動、即ち、試料のプラズマクリーニング、試料のイオンビームエッチングまたは反応性イオンビームエッチング、試料のプラズマエッチング及び試料の導電性材料によるコーティングのうちの２つまたはそれ以上のステップを行う装置を含む、顕微鏡用試料調製装置。また、処理チェンバ内の試料の表面位置を検知する装置及び方法。検知位置は後続処理のために適当な位置に試料を自動的に移動させるために使用される。
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イオン衝突を利用した顕微鏡検査または表面研究用の試料のミリング処理装置を開示する。この装置は高低両エネルギー・イオン源を使用することによって試料表面をそれぞれ粗及び微修正することができる。イオン源から発生する衝突ビーム内の試料位置を正確に制御することによって、ビームに対して試料を傾倒及び回転させることができる。この位置制御によって、プログラム制御下に且つ定常な真空条件下に、試料を異なるイオン源の間で移動させることができる。また、装置への試料の導入及び装置からの試料取出しの際に真空度を低下させず、しかも試料を周囲温度に戻すことを可能にするロード・ロック機構を設ける。ミリング処理のすべての動作段階において試料を観察及び撮像することができる。
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