説明

株式会社アイシスにより出願された特許

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【課題】 妨害信号に対する影響を正確に判定する。
【解決手段】 供試装置23により被写体24を撮像し、撮像して得られた画像に基づいてマスター画像を生成し、放射アンテナ20から任意の周波数の妨害信号が印加されているときに、供試装置23により被写体を撮像し、撮像して得られた画像を取り込み、取り込まれた画像に基づいて検査画像を生成し、マスター画像と、検査画像に基づいてノイズ検査又はブロックノイズ検査を行い、供試装置23の任意の周波数毎の妨害信号に対する影響を判定する。 (もっと読む)


【課題】 シーラーの塗布品質の管理を正確に行う。
【解決手段】 レーザー投光機18によって、ウインドガラス12上に塗布されたシーラー16に対し、塗布ガン14と平行な方向からレーザースリット光Lを照射し、シーラー16の断面形状を、レーザースリット光の線形状として視認可能とする。制御手段24において、レーザースリット光の照射軸に対する傾斜角の小さいカメラ20で撮影した画像に基づき、画像内でのワーク表面座標及びシーラー16の幅を検出する。また、カメラ20で撮影した画像に基づき検出された画像内でのワーク表面座標と、レーザースリット光の照射軸に対して傾斜角の大きいカメラ22で撮影した画像とに基づき、シーラー16の高さを検出する。よって、シーラー16の断面形状を正確に把握し、シーラー16の塗布高さとシーラーの塗布幅を正確に求めることができる。
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