【課題】陽電極及び陰電極間に直流高電圧を印加した際に、瞬間的に過大電流が流れるのを回避し、数ｎｍオーダーの膜厚で導電性薄膜を安定的に成膜し、優れた再現性を実現する。直流高電圧の印加時間を長くしながら数ｎｍ単位の膜厚で導電性薄膜を成膜することができ、成膜作業に優れている。
【解決手段】（１）．反応容器内の圧力が所定の真空圧になった際に原料ガスを微量流入させながら両電極間に直流高電圧を印加する。（２）．原料ガスの微量流入により反応容器内における原料ガス濃度が、両電極間を低電流値で導通させる低濃度状態になった際に、該低電流状態を維持するように原料ガスの微小流入量を制御しながら両電極間に発生するグロー放電により導電性金属分子をプラズマ化して試料表面に堆積させる。（３）．上記（２）による原料ガスの低濃度状態及び低電流状態を所定時間の間、維持して試料表面に堆積される導電性金属分子により導電性薄膜をｎｍオーダーで成膜する。上記（１）乃至（３）の工程からなる。 （もっと読む）

【課題】ＳＥＭにより検鏡される電気的絶縁試料の表面に金属薄膜を成膜する際に、簡易な方法により電気的絶縁試料に対して金属薄膜を高い密着度で成膜し、ＳＥＭから照射される電子線による電気的絶縁試料の帯電を低減して二次電子放出を効率的に行うと共に放出方向を一定にして電気的絶縁試料の表面を高精度、かつ鮮明に検鏡する。
【解決手段】電気的絶縁試料の表面に金属薄膜を成膜するに先立って、チャンバー内に炭化水素ガスを導入した状態で両電極間に電圧を印加してグロー放電を発生させて炭化水素成分をイオン化して電気的絶縁試料の表面に炭化水素膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】ターゲット核酸の蛍光標識を短時間に行うことができ、遺伝子発現解析を短時間で、かつハイスループットに行うことを可能にする。ターゲット核酸に対して蛍光分子を定量標識することができ、遺伝子発現の定量解析を可能にする。ターゲット核酸の蛍光標識を短時間に行うことができ、遺伝子発現解析を短時間で、かつ低コストに行うことを可能にする。ターゲット核酸に対して蛍光分子を定量標識することができ、遺伝子発現の定量解析を可能にする。
【解決手段】固相合成法によりヌクレオチドが配列されたプライマーの末端に蛍光分子を結合する工程と、蛍光標識されたプライマーをプローブ核酸に結合させる工程とによりプローブ核酸を蛍光標識してターゲット核酸の遺伝子発現量を解析可能にする。 （もっと読む）