【課題】低圧サブシステムが生成した低圧酸素生成物を、入力供給流として高圧サブシステムに供給でき、または使用のために出力することができるシステムを提供する。
【解決手段】低圧生成物の気体および高圧生成物の気体を発生するための２段階セラミック気体発生システムは、選択された低圧をもつ前記生成物の気体を発生するセラミック膜を含む低圧気体発生サブシステム１００、および前記低圧サブシステムからの前記生成物の気体の圧力より高い所望の圧力レベルをもつ前記生成物の気体を発生するための、別個のセラミック膜を使用する電気化学的酸素発生システムを有する高圧気体発生サブシステム１５０を含み、前記高圧気体発生サブシステムは、前記高圧ガス発生サブシステムの別個のセラミック膜への入力ストリームとして、前記低圧サブシステムから前記低圧生成物の気体の少なくとも一部を受け取ることを特徴とする。 （もっと読む）

【解決手段】内部チャンバ（２２）、加熱エレメント（１２）、内部チャンバ内に設置された少なくともひとつのガス生成モジュール（１４）、空気の流入ソースを与える吸気口（２６）及び生成ガスの排気口（１６）を含むタイプのガス生成システム（Ｃ）用のオーブンは、内部チャンバ（２２）内に設置された空気増幅手段（２０）を含む。空気増幅手段は、流入する空気がオーブンの内部チャンバ内に導入されるに従い、空気の流入ソースの気流特性の増幅を生成する。この増幅は、オーブン内の空気の再循環を促進し、オーブン内部の熱均一性及び空気の吐き出しを改善する。 （もっと読む）

ガス発生システム（Ｓ）は、複数の生成ガス発生モジュール（１８）有する。生成ガス発生モジュール（１８）のそれぞれは、複数のモレキュラーシーブベッド（ｂｅｄ１、ｂｅｄ２）を備える。複数のモレキュラーシーブベッド（ｂｅｄ１、ｂｅｄ２）は、ピーク生成ガス流（１０６）が存在するサイクルの一周期を有するそれぞれの繰り返しサイクルにおいて作用する生成ガスを発生させる。マニホールド（５２）は、複数のモジュール（１８）からの生成ガスを混合する。プロセッサ（５８）は、モジュール（１８）の繰り返しサイクルのピーク生成ガス流量周期（１０６）を制御信号に応答して調節するように、ガス発生モジュール（１８）に送る制御信号を発生する。プロセッサ（５８）は、制御された分布における繰り返しサイクル全域で、モジュール（１８）に対するピーク周期（１０６）の時間を合わせる。
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【解決手段】第一および第二のガス濃縮ベッドユニットを有するガス発生システムを調整するスライドタイプのバルブVが，スライド面をもつ外側本体を含み，スライド面は外側本体に形成された内側空洞と連通する少なくとも三つの開口ポートを有する。排気ポートおよび少なくとも二つのベッドポートガス濃縮ベッドユニットとの空気流れを形成する。排気ポートは二つのベッドポートの間に位置する。基本的に平坦面を有するスライドブロックは外側本体の内側表面のスライド面にそってスライドするもので，内側空洞および第一および第二の開口部を有する。スライドブロックのスライド面は第一および第二の開口部の間に位置する閉鎖部を有する。コントローラCが所望の空気流れの形成のために，第一の状態S１と第二の状態S２との間でスライドブロックを移動させる。
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イオン伝導性セラミック素子（２０）は、各々が内面（２４）及び外面（３８）と閉鎖端（４８）及び開放端（５０）を有する複数のチューブ（３０）を備える。チューブ支持体（１４）は、チューブ開放端（５０）を受ける。第１の導電性被覆（３６）は、チューブ外面（３８）上に形成されている。第２の被覆（２２）は、チューブ内面（２４）上に形成されている。底部導電性細片（１６）は、チューブ内面（２４）上の第２の被覆（２２）間に電気的接続を形成する。頂部導電性細片（４０）は、チューブ外面（３８）上の第１の被覆（３６）間に電気的接続を形成する。頂部細片と底部細片は接続され、頂部上の少なくとも１つの細片（４０）は、底部上の少なくとも１つの細片（１６）と電気的に接続される。
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イオン伝導性セラミック素子は、中央ユニットを備える。この中央ユニットは、端部間が中心軸（Ａ）に沿って連結された複数の集積マニホルド及びチューブ（ＩＭＡＴ）モジュールからなる。各ＩＭＡＴモジュールは、チューブ支持部分と、第１の表面から延びた複数のチューブとを有する。チューブは各々、閉鎖端と、開放端とを有する。第２の表面は、少なくとも部分的に大気に開放されている。チューブの開放端は、第２の表面を通して大気に開放されている。ＩＭＡＴの内部には所望の生成ガスを収集するための内部空間が形成されている。収集チューブは、中央ユニットの第１の端部に効果的に連結されて、接続されたＩＭＡＴモジュールの内部空間に収集された所望の生成ガスを輸送する。
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【解決手段】 電子制御器（１６）は所望の気体を生成する電気化学酸素発生システムの動作を制御する。生成物の気体は、貯蔵ユニットまたは、ユーザに対する生成物の気体の流れを制御するレギュレータ（２８）およびパルス・バルブ（２８）に供給される。２段階システムが低圧ガス発生サブシステム（１００）と高圧ガス発生サブシステム（１５０）との組み合わせである。低圧ガス発生サブシステム（１００）は、ＩＭＡＴを使用して周囲空気から酸素をポンピングし、低圧酸素を発生する。高圧ガス発生サブシステムは、ＩＭＡＴ（１６０）を使用して高圧酸素貯蔵デバイスへ酸素をポンピングする。 （もっと読む）

【解決手段】 所望のガスを発生する電気化学的デバイス18が、イオン伝導性の電解層20、多孔性の電極層22、および高電気伝導性を有し、当該電気化学的デバイス18により発生する所望のガス24に対して多孔性である集電体層16を含む。集電層16は貴金属の伝導性コーティング部12を有する耐熱性材の球体26の層からなるフィルムとして実質的に形成される。コーティングされた球体26は電気伝導性フィルム内に形成されるのに適して所望の直径28を有する。
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