【課題】 本発明は、荷電粒子ビーム装置とそれを操作するための方法とを提供する。
【解決手段】エミッタ（２）は一次荷電粒子ビーム（１２）を放出する。少なくとも３つの偏向段（１４）を備える、偏向システムの動作に応じて、少なくとも２つの検出ユニット（１６，４４）間で切り替えることができる。さらに、ビーム整形手段（１５；４１）が備えられ、一次荷電粒子ビームを試料に合焦させるレンズが備えられる。
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【課題】主用途に使用の荷電粒子をビーム放射するエミッタモジュールで、従来より十分なクリーニングを可能とするように改良する。
【解決手段】光軸に沿って荷電粒子を放射する荷電粒子ビームエミッタ（１５）と、同一光軸にほぼ沿って荷電粒子を放射するクリーニングエミッタ（１６）とを、同一母体（３２）に備えて一体化モジュールを構成し、クリーニング放射による荷電粒子ビームが、主用途に使用の荷電粒子ビームが通過するコラム内の経路と、ほぼ同一の経路をとるようにする。
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【課題】短い作用距離、コンパクトなデザインで、試料の高速かつ高品質な撮像を可能にすると同時に、画像コントラストの増強をもたらす分析システム及び荷電粒子ビーム装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビームの荷電粒子を偏向及びエネルギー選択する荷電粒子ユニットに関する。荷電粒子ビームを偏向及び焦点合わせするための二重焦点セクターユニット４２５，４４５及び電位を形成するためのエネルギーフィルタ４６０が設けられ、これにより荷電粒子ビームの荷電粒子は、荷電粒子のエネルギーに応じて電位鞍点において方向を転換される。 （もっと読む）

【課題】本発明による荷電粒子マルチビーム（荷電粒子線又は電子線）光学系は、解像度の改良と収差の最小化とを可能とする。
【解決手段】その光学系は、構成要素として一つの静電レンズ（１８，１９）と一つの磁気レンズ（１５，１６，１７）との両者を組み合わせて備えており、その各構成要素は少なくとも二つのサブレンズを有し、各サブレンズでは、光学系を通過する複数の荷電粒子ビーム（１２）それぞれに対して別々の開口部（１４）を有し、この開口部それぞれで複数の荷電粒子ビームそれぞれを集束（焦点合せ）している。
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【課題】解像度の改善、製造の容易さ、及び収差の最小化に関し、原材料の利用可能性と加工品の処理とレンズフィールドへの対称条件との改良を可能とする。
【解決手段】本発明による複数の荷電粒子ビーム用のレンズ系は、少なくとも二つのレンズモジュール（１００）に対して少なくとも一つの共通励磁コイル（２１）が準備されている。そのレンズモジュールは、第１ポールピースと第２ポールピースと荷電粒子ビーム用の少なくとも一つの開口部（２２）とを含む。そのレンズモジュールは、一つのコンポーネントを構成し、励磁コイルを共有する。
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【課題】 イオン源から発生するイオンビームで半導体材を処理する際、半導体材内部への不純物混入回避の改良を可能とする。
【解決手段】 イオンビームを発生するエミッタ、特に液体金属合金イオン源（ＬＭＡＩＳ）は、イオン源となる原料として二元合金「ＰrＳi」を含み、その原料には、「Ｓi」イオンと「Ｐr」イオンとのみを含み、半導体材内部へ不純物として混入する材料は含まない。 （もっと読む）