説明

株式会社エムシープラザにより出願された特許

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【課題】耐久性、柔軟性に優れたイオン導入器用フェース・ヘッドパッドであって、かつ例えば顔や頭皮等の比較的広い面積に1回でより簡便かつより均一にイオン導入することを可能にするイオン導入器用フェース・ヘッドパッド、及び該フェース・ヘッドパッドを備えたイオン導入装置を提供することを課題とする。
【解決手段】イオン導入器に用いるフェース・ヘッドパッドであって、絶縁支持体層と導電性シリコンゴム層とを有し、該導電性シリコンゴム層における導電性シリコンゴムの体積抵抗率が15Ω・cm以下、硬さ度が50〜80、及び伸び率が180%以上であることを特徴とするフェース・ヘッドパッドを用いる。 (もっと読む)


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