説明

エンバイロメデイカル株式会社により出願された特許

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【課題】ネイルアートで使用される有機溶剤の揮発ガスは、人体に有害で臭いも強烈である。揮発ガスの室内濃度を薄めることが可能な装置を提供する。
【解決手段】室内に拡散した有機溶剤の揮発ガスを、強制循環させて吸引し外部へ放出する吸引・放出装置1と、揮発ガスを吸着するフィルター装置3と、同フィルター装置を通過した揮発ガスを中和する中和剤8を備え、揮発ガスを無害・無臭の状態にして外部へ放出する。上記フィルター装置3は活性炭とケミカルフィルターで構成され、中和剤はアセトアルデヒドを中和する中和剤であるが、ネイルアートで使用頻度の高いアクリル酸やアセトンの微量の揮発ガスも中和することを特徴とする。また、吸引・放出装置の放出部近傍にマイナスイオン発生装置12を設置し、マイナスイオンを発生させ人に優しい爽やかな職場空間を演出する。 (もっと読む)


【課題】ネイルアートの普及に伴い、使用するネイルアート用有機溶剤に含まれる揮発性ガスによる人体への影響を少なくする有効な装置を提供する。
【解決手段】ネイルアートを行う際に使用する、有機溶剤の揮発ガスの拡散を防止するための作業空間となるドラフトチャンバー1と、同ドラフトチャンバー 内の上記揮発ガスを吸引し、外部へ放出する吸引・放出装置と、同吸引・放出装置により吸引された上記揮発ガスを吸着・脱臭するフィルター装置16、17、18と、同フィルター装置を通過したガスを中和する中和剤20とを備えた有機溶剤の揮発ガス吸着・脱臭装置。 (もっと読む)


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