説明

マイクロビジョン,インク.により出願された特許

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磁気駆動システム(100)は、導電体及び磁場装置(160)を含み、磁場を発生させる。磁場装置は、マグネット及び磁気透過性材料を含み、導電体が電流を流すときに駆動トルクを生成する導電体の領域内に磁場を集束させる。 (もっと読む)


一以上の実施形態によれば、走査ビームプロジェクタは、光源(110)と、走査駆動手段と、画像を投影面に投影させるための走査プラットフォーム(114)と、を備えている。走査駆動回路は、投影された画像の歪みを少なくとも部分的に補正するために、走査駆動信号の振幅を変えることによって、投影された画像の歪みを少なくとも部分的に補正することができる。 (もっと読む)


走査プロジェクタ(100)は、二次元で走査するミラー(142)を含む。この走査ミラーは、高速走査軸上において共振周波数で振動し、低速走査軸上で、入力されるフレームレートに位相同期される。補間手段(104)は、ピクセルクロックが到達するとき、ミラーの位置に基づいて隣接する画素から画素密度のデータを補間する。入力される映像データは、バッファに保存される。完全なフレーム分よりも小さい映像データを、バッファ内に保存することができる。 (もっと読む)


走査型プロジェクタ(100)は、少なくとも一方が正弦曲線である二次元で光線を走査するミラー(142)を含む。デジタル位相同期ループ(170)は、そのミラーの正弦曲線移動に固定される。自走ピクセルクロックが利用される。内挿補間要素は、ピクセルクロックが到着すると、ミラーの位置に基づいて、隣接する画素からの画素強度データを内挿する。 (もっと読む)


走査ビーム投影システムは、2ミラー走査システム(110)を含む。第一のミラーは、第一の方向に走査し、第二のミラーは、第二の方向に走査する。高速走査ミラー(320)は、折り返しミラー(312)から変調された光線を受け、変調された光線を低速走査ミラーへ向かわせる。折り返しミラーは、出力光学要素に形成されるか、又は、低速走査ミラーと共通の基板に形成されることができる。 (もっと読む)


画像形成システム(200)は、複数の光線(204)を発生させる複数のレーザー光源(201)と、光線(204)をコリメートされた光線(205)に適応させる一以上の光学的整列装置(220)と、コリメートされた光線(205)により画像(206)を表示面(207)に発生させる光変調器(203)と、光学的フィードバック手段(221)とを備えており、光学的フィードバック手段(221)は、コヒーレンス崩壊状態でレーザー光源(201)のそれぞれを動作させて画像(206)が表示面(207)に表示されるときに現れるスペックルを減少させる。 (もっと読む)


走査線投影システム(100)は、高速の走査軸および低速の走査軸を有するスキャニングミラー(116)を含む。低速走査軸上の移動は、低速走査スキャニングミラー制御システム(130)によって制御される。制御システムは、ミラーの角度変位を記述する位置情報を受信する。制御システムの外側ループは、周波数領域で動作し、スキャニングミラー駆動信号のための高調波駆動係数を決定する。制御システムの内側ループは、時間領域において動作し、高調波駆動係数によって占められた周波数帯域の範囲内の周波数でスキャニングミラーの共振振動モードを補償する。 (もっと読む)


要約すると、一以上の実施形態によれば、走査円錐を方向転換すると同時に、画像を引き延ばしたり押しつぶしたりして、走査プロジェクタにおける本質的な歪みを低減又は解消するくさび型の部材(210)が、MEMS(微小電気機械システム)に基づく走査ディスプレイシステム(100)の中のMEMSスキャナ(114)の後ろに配置されている。この歪みは、軸外入力される光線と、走査ミラーから画像平面への変換とによる走査線の軌道の結果として生じている。 (もっと読む)


ヘッドアップディスプレイ用の光リレー(200)は、第一の角度よりも大きな入射角で入射する光を反射し、第二の角度よりも小さな入射角で入射する光を透過させる角度選択性を有するぎらつき防止手段(216)を備えており、第一の角度よりも大きな入射角でぎらつき防止手段にて反射した光線を受光し、第二の角度よりも小さな入射角でぎらつき防止手段を透過させ、ぎらつき防止手段を外出させるように設計された第一の光学部品を備えている。 (もっと読む)


走査線のオーバーレイ投影システム(100)は、ラスターパターンの中に光線(112)を走査することによって、投影表面(128)に画像を表示する。光線によって照射される時に、投影表面上の反射点(130、132)は投影システムへ光を反射する。投影システムの光検出器(134)はその反射光を検出する。そして、タイミング回路(142)は反射する点がラスターパターンのどこに位置するかを決定する。画像は、画像の中でタグ付けされた位置と投影表面上の反射点の位置とを相互に関連づけるために、倍率変更すること及び変形させることが可能である。 (もっと読む)


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