式（Ｉ）（式中、記号及び指数はそれぞれ以下のように定義される：Ａは、Ａ’、Ｒ、又はＯ−Ｒであり；ここで、Ｒは、１〜８個の炭素原子を有する、直鎖、分岐鎖、又は環式で、飽和又は不飽和の脂肪族基であり；Ａ’は、同一か又は異なり、式（Ｉａ）であり；Ｂは、結合、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−Ｏ−（Ｏ）Ｃ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−、又は−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−であり；Ｒ^１は、Ｈ又はＯＨであり；ｍは、１、２、３、４、又は５であり；Ｙは、式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）であり；ｎは、≧３の正の有理数であり；Ｅは、同一か又は異なり、−ＣＨ−ＣＨＲ^２−、−ＣＨＲ^２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨＲ^２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨＲ^２−ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_ｒ−Ｏ−、又は−Ｏ−（ＣＨ_２）−であり；Ｒ^２は、Ｈ又はＣＨ_３であり；ｒは、１又は４である）の化合物は、フォトレジストのための感光性成分として好適である。

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【課題】液晶混合物において混合物の特性を改良するために適当な新規化合物を提供する。
【解決手段】式(I)のフェナントレン誘導体：


具体的には例えば１，８−ジフルオロ−２，７−ジオクチルオキシフェナントレン等が例示される。 （もっと読む）

【課題】簡便な感光性フォトレジスト溶液の調製方法の提供。
【解決手段】ノボラック樹脂とジアゾナフトキノンスルホニルクロリドを複数のフォトレジスト溶媒に溶解し、ノボラック樹脂のフェノール性ヒドロキシル基の１〜７０ｍｏｌ％の割合を塩基存在下で（置換基を有していても良い）ジアゾナフトキノンスルホニルクロリドと反応させる。そして、この反応混合物を水洗し、塩基成分を除去し、所望により、さらなるフォトレジスト溶媒で希釈することを特徴とする、ノボラック樹脂の部分エステル化方法に関する。 （もっと読む）