ユニヴェルシテ ポール サバティエ トゥールーズ 3により出願された特許
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新規なジベンゾイルメタン系化合物、光活性化性太陽光線遮断剤としての使用及びこの化合物を含有する化粧料組成物
本発明は、式 I:
のジベンゾイルメタン系化合物及びその塩及びその溶媒和物及びこれを製造する方法に関する。本発明は、更に、式Iの化合物の、皮膚及び髪をUV線から保護するための薬剤としての使用及び式Iの化合物を活性成分として含有することを特徴とする化粧料及び/又は皮膚科用組成物に関する。
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