説明

ケムトレース プレシジョン クリーニング, インコーポレイテッドにより出願された特許

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石英基板の表面を処理する方法は、初期粗面度を有する作用面を与えるように基板を準備するステップと、その作用面を超音波で酸性エッチングして、作用面の粗面度を少なくとも約10%高めるステップとを備えている。一実施形態において、初期表面粗面度は、約10Raより大きく、また、別の実施形態において、初期表面粗面度は、約200Raより大きい。更に別の実施形態において、初期表面積は、約200Ra未満である場合に、約200Raより大きく増加される。本発明の他の実施形態において、作用面粗面度は、少なくとも約25%又は少なくとも約50%増加される。表面積(粗面度で測定する)の増加と同時に、表面欠陥を減少し、基板から粒状汚染物を減少する。 (もっと読む)


マスクを清浄するための方法および装置が、説明される。一実施形態において、本発明は、マスクを清浄する方法である。その方法は、マスクを清浄溶液の中に配置することを含む。また、この方法は、予め定められた攪拌レベルで予め定められた時間だけ清浄溶液を攪拌することを含む。 (もっと読む)


被加工物を化学的にエッチングする超音波エッチング装置が開示されている。この装置は、水溶液で少なくとも一部が満たされた外側タンクと、少なくとも一部が外側タンクの内部に配置されかつ上記水溶液と接している内側タンクであって、エッチング溶液で少なくとも一部が満たされた内側タンクと、上記内側タンクの口部に係合した蓋と、上記外側タンクに結合されており、上記内側タンクの中のエッチング溶液へ超音波エネルギーを付与する超音波変換器とを含む。被加工物をエッチングするためにこの装置を使用する方法もまた開示されている。 (もっと読む)


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