【課題】本発明はウエハーとイオンビームの間の相対運動と幾何学関係を変化させることにより、均一ウエハーに対する注入方法と装置を提供する。
【解決手段】はじめに、ウエハー上に第一軸の長さと第二軸の幅を持つ帯状のイオンビームを形成し、このイオンビームの長さはウエハーの直径より長く、イオンビームの幅はウエハーの直径より狭い。そして、イオンビームが通過するスキャン経路に沿って、ある移動速度でウエハーの中心を移動させ、同時に、ある回転速度でウエハーを回転させる。移動及び回転が同時になされている間、ウエハーがイオンビームを通過する時、このウエハーは第一軸に沿って、イオンビームによって完全に覆われ、一番速い回転速度は移動速度の数倍である。移動速度と回転速度は常数、あるいは、イオンビームのウエハーの位置の関数に相対する。 （もっと読む）

【課題】約４５度以上、約１１０度以下の角度で高アスペクト比のリボンイオンビームを曲げることができ、質量分析のために分析スリットを通してその焦点を合わせることのできる、イオン注入装置用の高分解能磁気アナライザを提供する。
【解決手段】高分解能磁気アナライザは、弓形ヨーク１１０と、ループ形状コイル１２０と１２１を鏡面対称に位置合わせされたアレイとを備える。そして、弓形ヨークの出入口両方においてループ形状コイルのそれぞれは伸長され、それぞれの丸みを帯びた端部でサドルコイルとして知られる曲線状の形状を有する。この構造により、漏れ磁場を低減し、磁場領域内に均一な磁場を生成するので高品質の集束を実現し、それにより高分解能、高アスペクト比、および軽量化を実現する。 （もっと読む）