説明

上海家化朕合股▲フェン▼有限公司により出願された特許

1 - 1 / 1


本発明は、X、Y,A,STI、ASM−5、MCM−41型とその系列およびSBAとその系列のミクロ細孔性またはメソ細孔性モレキュラーシーブをホストとして、TiO、ZnO、CeO、Feナノクラスターをゲストとして利用したホスト−ゲストナノ複合材料である、新規な耐紫外線材料を提供する。この複合体は、UVA−UVB領域の紫外線を強く吸収し、化粧品用、塗料用、ゴムおよびプラスチック産業用の耐紫外線剤として利用することができる。 (もっと読む)


1 - 1 / 1