流体クッション上の静止又は移動する実質的に平坦な対象物を物理的接触なしに支えるための装置。対象物は流体クッションギャップ上で浮動し、装置はこのギャップを全域か局所で調整することを目的とする。装置は非接触で対象物を支える第一土台を含み、この土台が一個以上の区域からなる実質的に平坦な活性表面を有し、各区域が複数基本セルの内の少なくとも一つを含み、各基本セルが圧力調整流量絞り弁により基本セルの位置する区域に関する高圧マニフォールドと流体的に連結した複数圧力出口の内の少なくとも一つを有し、高圧マニフォールドが主供給パイプラインにより加圧流体供給と主排気パイプラインを有する基本セルが位置する区域に関する低圧マニフォールドと流体的に連結した複数流体排気チャネルの少なくとも一つと流体的に連結するものからなる装置で、流量絞り弁が流体的伸縮バネ挙動を特徴的に示し、少なくとも一個の圧力調整弁を区域の二個のマニフォールドの内の少なくとも一つの圧力レベルを制御するため、少なくとも一区域の二個の主パイプラインの内の少なくとも一つの間に配置することからなる装置。 （もっと読む）

物体を熱処理する少なくとも１つの装置を含む熱処理システムであって、該装置は、１つのプラットフォーム、または互いに反対側に位置した２つのプラットフォームからなり、ここで少なくとも１つのプラットフォームは物体を加熱または冷却する少なくとも１つの熱的手段を有し、少なくとも１つのプラットフォームは、非接触で物体を支持する流体機械的手段を有している、熱処理システムである。前記プラットフォームは、少なくとも１つの、複数からなる基本セルからなる作動面を有し、この基本セルは、少なくとも１つの、複数からなる圧力吐出口と、少なくとも１つの、複数からなる流体排出流路を有するものである。各基本セルの圧力吐出口の少なくとも１つは、流量絞り機構を介して高圧流体源に流体的に接続され、この圧力吐出口は、前記物体とプラットフォームの作動面の間の流体クッションの形成維持のために加圧流体を供給するものである。流量絞り機構は、特性的には、流体的な戻しばね的な挙動を示すものである。各流体排出路は流入口と流出口を有し、各基本セルに対する質量流量の平衡をとるものである。 （もっと読む）

洗浄すべき対象物の表面から汚染物質を除去するための、高圧ガス供給源に流体的に接続されるように適合した洗浄装置（１０）。この装置は、ガスを加速するための高圧出口（２１）を備えた所定の微小な横方向スケールの少なくとも１つの高圧通路（２２）を備える。該高圧出口は少なくとも１つの狭いリップ（１２）によって特徴付けられ、出口および狭いリップは活性表面を画定している。洗浄装置の活性表面が、表面から所定の微小な間隙を空けてそれにほぼ平行に離されたとき、したがって狭いリップと洗浄すべき対象物の表面との間の喉部を画定し、ガスを喉部のところでほぼ音速まで加速したとき、汚染物質に作用する横方向の空気力学的な除去力が生成される。 （もっと読む）