説明

クロマエンジニアリング株式会社により出願された特許

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【課題】端子周囲に残る硬化した異方性導電膜の残存膜の剥離性に優れ、金属の端子および周辺の正常な部分を侵さない異方性導電膜剥離液を提供する。
【解決手段】(a)γブチロラクトンを40質量%以上、(b)水または有機溶媒、例えばエチレングリコールを0〜60質量%、(c)カルボキシ基を有するポリマー、例えばカルボキシビニルポリマーを0〜1質量%、および(d)中和剤、例えばトリエタノールアミンをカルボキシ基を有するポリマーが増粘効果を発揮するPHとなる分量含有する異方性導電膜剥離液。 (もっと読む)


【課題】平行光線を発する高価な光源装置によらなくても、十分な解像度が得られ、レジスト液の塗布工程と露光工程を同一の装置で行うことができるレジスト液塗布兼露光装置及び方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、スペーサを含有するレジスト液をフォトマスクに塗布する塗布手段と、塗布された特定レジスト液面にガラス基板を圧着する圧着手段と、フォトマスク面側から前記フォトマスクを通して前記特定レジスト液面に光を照射する光照射手段と、を具備するレジスト液塗布兼露光装置によって、フォトマスクに、スペーサを含有するレジスト液を塗布し、次にガラス基板をレジスト液面に押し当てて、余剰のレジスト液を押し出して、ガラス基板とフォトマスクに侠持されるレジスト液の膜厚を前記スペーサのサイズによって特定される一定の厚さにして、フォトマスク側から、光を照射して露光する。 (もっと読む)


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