説明

株式会社ファインサーフェス技術により出願された特許

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【課題】レジスト塗布工程において発生するフリンジ部の幅と高さをより小さくすることが可能なフォトマスクブランクスを提供する。
【解決手段】透光性基板1の主表面2と面取り部4との間に、面取り部4の俯角Xに対して小さく、俯角Yが10°以上20°以下になるような傾斜部11を形成することにより透光性基板1の周縁部3におけるレジスト13のフリンジ部9の幅Wと高さHを低減することができる。 (もっと読む)


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