ＣＯの水素化によるＣ_２−酸化物の合成のための触媒につき開示する。この触媒はＲｈ−Ｍｎ−Ｆｅ−Ｍ_１−Ｍ_２／ＳｉＯ_２、特にＭｎ−Ｆｅ−Ｍ_１−およびＭ_２並びに添加剤で構成される。Ｍ_１はＬｉもしくはＮａとすることができる一方Ｍ_２はＲｕもしくはＩｒとすることができる。Ｒｈの含有量は０．１〜３重量％であり、Ｍｎ／Ｒｈの重量比は０．５〜１２であり、Ｆｅ／Ｒｈの重量比は０．０１〜０．５であり、Ｍ_１／Ｒｈの重量比は０．０１〜１であり、Ｍ_２／Ｒｈの重量比は０．１〜１．０である。触媒は、各成分の対応化合物の溶液を所望量にてＳｉＯ_２のキャリヤに含浸させて作成され、次いで２８３〜４７３Ｋにて乾燥する。使用に先立ち、触媒は水素または水素含有ガスにより５７３〜６７３Ｋにて少なくとも１時間にわたり、４７３〜６７３Ｋにおける２〜２０時間の乾燥の後もしくは焼成の後に還元される。これら触媒はＣＯおよびＨ_２をエタノール、アセトアルデヒド、酢酸および他のＣ_２−酸素化物まで高変換率および高選択率にて緩和な条件下に変換することができる。 （もっと読む）

微孔質シリカゲルの合成および合成ガスからのＣ_２酸素化物合成のための触媒の製造に対するその適用につき開示する。ゾルゲルプロセスにより生成されかつ塩基性溶液中で加熱され、次いで乾燥および／または焼成されるシリカゲルの小粒子は、かくして触媒支持体として微孔質シリカを形成する。塩基性溶液はアルカリ金属およびアンモニウムの水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩、蟻酸塩および酢酸塩の１種または混合溶液とすることができる。得られる微孔質シリカにはロジウム塩および他の遷移元素塩（プロモータ先駆体として）の溶液を含浸させ、次いで乾燥および／または焼成し、かくして微孔質シリカ支持されたロジウム系触媒を形成する。ロジウム塩はＲｈＣｌ_３もしくはＲｈ（ＮＯ_３）_３とすることができる。プロモータ先駆体は水可溶解の遷移金属塩、稀土類金属塩、アルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩とすることができる。得られる触媒は、緩和なプロセス条件下におけるＣＯの水素化によるＣ_２−酸素化物の合成にて高い活性および選択率を示す。 （もっと読む）

本発明は、基本的に、金属パラジウム膜又は合金パラジウム膜が多孔性基質支持体の外側表面上に実質的に存在し、当該支持体の孔管にはほとんど若しくは全く存在しない金属パラジウム複合膜又は合金パラジウム複合膜に関し、且つその製造方法に関する。当該方法は、多孔性基質をパラジウム溶液でメッキして複合膜を形成する前に孔隙充填剤で当該多孔性基質を処理する工程を含む。
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